一种控油祛痘纳米组合物及其制备方法和应用技术

本发明专利技术属于化妆品技术领域，具体涉及一种控油祛痘纳米组合物及其制备方法和应用

【技术实现步骤摘要】
一种控油祛痘纳米组合物及其制备方法和应用


[0001]本专利技术属于化妆品
，具体涉及一种控油祛痘纳米组合物及其制备方法和应用
。

技术介绍

[0002]痤疮，俗称痘，是一种毛囊皮脂腺的慢性炎症性皮肤病，由于好发于青春期男女，痤疮也常被称为“青春痘”。
随着社会的发展，受生活工作压力和环境污染等因素的影响，痤疮的发病率呈上升趋势，发病年龄也有拓宽
。
[0003]痤疮形成的原因包括：
(1)
皮脂分泌过多，雄性激素特别是睾酮素的水平迅速上升，促使皮腺发育并产生大量皮脂；
(2)
角化异常，毛囊皮脂腺导管角化过度，导管口径变小
、
狭隘或堵塞，皮脂排出障碍，形成粉刺；
(3)
病原菌增殖，痤疮丙酸杆菌和金黄色葡萄球菌大量增殖，皮肤痤疮爆发；
(4)
炎症反应，粉刺破裂，毛囊皮脂腺体破坏，进而化脓
。
[0004]痤疮严重影响人们的容貌，对正常人的就业
、
社交和婚育等产生重要影响
。
目前祛痘产品的种类繁多，但质量参差不齐，普遍存在作用效果不显著
、
疗效慢
、
刺激性高等问题
。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的在于提供了一种控油祛痘效果优异的控油祛痘纳米组合物及其制备方法和应用
。
[0006]为了实现上述专利技术目的，本专利技术提供以下技术方案：
[0007]本专利技术提供了一种控油祛痘纳米组合物，所述控油祛痘纳米组合物包括厚朴酚
、
壬二酸
、
山奈酚
、
抗敏剂
、
淡化痘印类活性物
、
乳化剂
、
助乳化剂
、
脂质和水；
[0008]按总质量
100
％计，
[0009]所述控油祛痘纳米组合物中厚朴酚的质量百分含量为1％～
10
％；
[0010]所述控油祛痘纳米组合物中抗敏剂的质量百分含量为
0.1
％～5％；
[0011]所述控油祛痘纳米组合物中淡化痘印类活性物的质量百分含量为
0.1
％～
10
％；
[0012]所述控油祛痘纳米组合物中乳化剂的质量百分含量为5～
40
％；
[0013]所述控油祛痘纳米组合物中助乳化剂的质量百分含量为5～
40
％；
[0014]所述控油祛痘纳米组合物中脂质的质量百分含量为5～
30
％；
[0015]所述控油祛痘纳米组合物中厚朴酚
、
壬二酸和山奈酚的质量比为
(7.6
～
8.4)
：
(4.7
～
5.3)
：
(0.9
～
1.1)
，水余量
。
[0016]优选的，所述抗敏剂包括甘草次酸
、
甘草酸盐
、
红没药醇和
β
‑
葡聚糖中的一种或多种
。
[0017]优选的，所述淡化痘印类活性物包括烟酰胺
、
肝素钠
、
肌肽和脱羧肌肽中的一种或多种
。
[0018]优选的，所述厚朴酚
、
壬二酸和山奈酚的质量比为8：5：
1。
[0019]优选的，所述乳化剂包括聚氧乙烯失水山梨醇脂肪酸酯
、
聚甘油脂肪酸酯
、
聚氧乙
烯脂肪酸酯
、PEG
‑8辛酸
/
癸酸甘油酯类
、
聚氧乙烯氢化蓖麻油
、
脂肪醇聚氧乙烯醚
、
椰油基葡糖多苷
、
卵磷脂
、PEG
‑
30
二聚羟基硬脂酸脂和鲸蜡硬脂醇聚醚类中的一种或多种；
[0020]所述助乳化剂包括甘油
、
二乙二醇单乙基醚
、
聚乙二醇
‑
400、1,3
‑
丁二醇
、1,2
‑
丙二醇
、
二丙二醇
、1,2
‑
己二醇
、1,2
‑
戊二醇
、
乙氧基二甘醇
、
乙氧基二乙二醇油酸酯和辛基十二醇中的一种或多种；
[0021]所述脂质包括肉豆蔻酸异丙酯
、
棕榈酸异丙酯
、
辛酸
/
癸酸甘油三酯
、
辛酸
/
癸酸聚乙二醇甘油酯
、
聚乙二醇月桂酸甘油酯
、
聚乙二醇硬脂酸甘油酯
、
亚油酸甘油酯
、
丙二醇单辛酸酯
、
二辛癸酸丙二醇酯
、
甘油硬脂酸酯
、
乙酰化单甘酯
、
辛癸酸可可酯
、
鲸蜡醇
、
硬脂醇和鲸蜡硬脂醇中的一种或多种
。
[0022]本专利技术还提供了上述技术方案所述控油祛痘纳米组合物的制备方法，包括如下步骤：
[0023]将厚朴酚
、
壬二酸
、
山奈酚
、
抗敏剂
、
乳化剂
、
助乳化剂和脂质混合，得到油相；
[0024]将淡化痘印类活性物和水混合，得到水相；
[0025]将所述水相加入到油相中，混合后进行微米化处理，得到微米级分散体；
[0026]将所述微米级分散体进行纳米化处理，得到控油祛痘纳米组合物
。
[0027]优选的，实现所述微米化处理的方式包括高速剪切乳化；
[0028]所述高速剪切乳化的转速为
5000
～
10000rpm
，时间为1～
10min。
[0029]优选的，实现所述纳米化处理的方式包括高压均质处理或高速微射流处理；
[0030]所述高压均质处理的压力为
300
～
1200bar
，处理次数为2～
10
次；
[0031]所述高压微射流处理的压力为
200
～
2000bar
，处理次数为2～
10
次
。
[0032]本专利技术还提供了上述技术方案所述控油祛痘纳米组合物在制备化妆品中的应用
。
[0033]有益效果：
[0034]本专利技术提供了一种控油祛痘纳米组合物，包括厚朴酚
、
壬二酸
、
山奈酚...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种控油祛痘纳米组合物，其特征在于，所述控油祛痘纳米组合物包括厚朴酚
、
壬二酸
、
山奈酚
、
抗敏剂
、
淡化痘印类活性物
、
乳化剂
、
助乳化剂
、
脂质和水；按总质量
100
％计，所述控油祛痘纳米组合物中厚朴酚的质量百分含量为1％～
10
％；所述控油祛痘纳米组合物中抗敏剂的质量百分含量为
0.1
％～5％；所述控油祛痘纳米组合物中淡化痘印类活性物的质量百分含量为
0.1
％～
10
％；所述控油祛痘纳米组合物中乳化剂的质量百分含量为5～
40
％；所述控油祛痘纳米组合物中助乳化剂的质量百分含量为5～
40
％；所述控油祛痘纳米组合物中脂质的质量百分含量为5～
30
％；所述控油祛痘纳米组合物中厚朴酚
、
壬二酸和山奈酚的质量比为
(7.6
～
8.4)
：
(4.7
～
5.3)
：
(0.9
～
1.1)。2.
根据权利要求1所述的控油祛痘纳米组合物，其特征在于，所述抗敏剂包括甘草次酸
、
甘草酸盐
、
红没药醇和
β
‑
葡聚糖中的一种或多种
。3.
根据权利要求1所述的控油祛痘纳米组合物，其特征在于，所述淡化痘印类活性物包括烟酰胺
、
肝素钠
、
肌肽和脱羧肌肽中的一种或多种
。4.
根据权利要求1所述的控油祛痘纳米组合物，其特征在于，所述厚朴酚
、
壬二酸和山奈酚的质量比为8：5：
1。5.
根据权利要求1所述的控油祛痘纳米组合物，其特征在于，所述乳化剂包括聚氧乙烯失水山梨醇脂肪酸酯
、
聚甘油脂肪酸酯
、
聚氧乙烯脂肪酸酯
、PEG
‑8辛酸
/
癸酸甘油酯类
、
聚氧乙烯氢化蓖麻油
、
脂肪醇聚氧乙烯醚
、
椰油基葡糖多苷
、
...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘卫，王曦，赵思，罗丹，陈丹，
申请(专利权)人：武汉百思凯瑞生物科技有限公司，
类型：发明
国别省市：