湿式处理装置及柔性印刷基板的制造方法制造方法及图纸

一种湿式处理装置，处理连续移动的片状的工件，具备：湿式处理槽，具有在高度方向上设置有第一狭缝的侧面部，所述第一狭缝使所述工件通过；一对辊，配置为位于所述湿式处理槽的外侧，与所述第一狭缝设有距离，且从横向夹持所述工件；以及一对处理液屏蔽件，在所述工件的移动方向上，相对于所述一对辊位于与所述湿式处理槽相反的一侧，所述侧面部包括隔着所述第一狭缝的第一侧面部和第二侧面部，所述一对处理液屏蔽件包括第一屏蔽件和第二屏蔽件，所述第一屏蔽件和所述第二屏蔽件以使所述工件能够通过所述第一屏蔽件与所述第二屏蔽件之间的方式配置，所述一对辊包括：第一辊，位于所述第一屏蔽件与所述第一侧面部之间；以及第二辊，位于所述第二屏蔽件与所述第二侧面部之间，在与所述第一狭缝的宽度平行的方向上，所述第一屏蔽件的宽度比所述第一辊的宽度大，且所述第二屏蔽件的宽度比所述第二辊的宽度大

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】湿式处理装置及柔性印刷基板的制造方法


[0001]本公开涉及湿式处理装置及柔性印刷基板的制造方法
。
本申请主张基于
2021
年4月
22
日申请的日本申请第
2021
‑
072460
号的优先权，并引用所述日本申请中记载的全部记载内容
。

技术介绍

[0002]在日本特开
2003
‑
147582
号公报
(
专利文献
1)
中，记载有连续湿式处理装置
。
该连续湿式处理装置具有夹持工件的两根密封辊
。
[0003]在先技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开
2003
‑
147582
号公报

技术实现思路

[0006]本公开所涉及的湿式处理装置是处理连续移动的片状的工件的湿式处理装置，具备：湿式处理槽，具有在高度方向上设置有第一狭缝的侧面部，所述第一狭缝使所述工件通过；一对辊，配置为位于所述湿式处理槽的外侧，与所述第一狭缝设有距离，且从横向夹持所述工件；以及一对处理液屏蔽件，在所述工件的移动方向上，相对于所述一对辊位于与所述湿式处理槽相反的一侧，所述侧面部包括隔着所述第一狭缝的第一侧面部和第二侧面部，所述一对处理液屏蔽件包括第一屏蔽件和第二屏蔽件，所述第一屏蔽件和所述第二屏蔽件以使所述工件能够通过所述第一屏蔽件与所述第二屏蔽件之间的方式配置，所述一对辊包括：第一辊，位于所述第一屏蔽件与所述第一侧面部之间；以及第二辊，位于所述第二屏蔽件与所述第二侧面部之间，在与所述第一狭缝的宽度平行的方向上，所述第一屏蔽件的宽度比所述第一辊的宽度大，且所述第二屏蔽件的宽度比所述第二辊的宽度大
。
[0007]本公开所涉及的湿式处理装置是处理连续移动的片状的工件的湿式处理装置，具备：湿式处理槽，具有在高度方向上设置有第一狭缝的侧面部，所述第一狭缝使所述工件通过；一对辊，配置为位于所述湿式处理槽的外侧，从横向夹持所述工件；一对处理液屏蔽件，在所述工件的移动方向上，相对于所述一对辊位于与所述湿式处理槽相反的一侧；辅助室，设置于所述侧面部与所述一对辊之间；以及所述辅助室的内部所具备的追加的一对辊，所述辅助室具有在高度方向上设置有第二狭缝的辅助室的侧面部，所述第二狭缝使所述工件通过，所述辅助室的侧面部包括隔着所述第二狭缝的第三侧面部和第四侧面部，所述一对处理液屏蔽件包括第一屏蔽件和第二屏蔽件，所述第一屏蔽件和所述第二屏蔽件以使所述工件能够通过所述第一屏蔽件与所述第二屏蔽件之间的方式配置，所述一对辊包括：第一辊，位于所述第一屏蔽件与所述第三侧面部之间；以及第二辊，位于所述第二屏蔽件与所述第四侧面部之间，在与所述第二狭缝的宽度平行的方向上，所述第一屏蔽件的宽度比所述第一辊的宽度大，且所述第二屏蔽件的宽度比所述第二辊的宽度大
。
[0008]本公开所涉及的柔性印刷基板的制造方法具备：制备具有湿式处理槽的湿式处理
装置的工序；以及在所述湿式处理槽中，对片状的柔性印刷基板用基材进行湿式处理的工序，所述湿式处理装置是处理连续移动的所述柔性印刷基板用基材的湿式处理装置，包括：湿式处理槽，具有在高度方向上设置有第一狭缝的侧面部，所述第一狭缝使所述柔性印刷基板用基材通过；一对辊，配置为位于所述湿式处理槽的外侧，与所述第一狭缝设有距离，且从横向夹持所述柔性印刷基板用基材；以及一对处理液屏蔽件，在所述柔性印刷基板用基材的移动方向上，相对于所述一对辊位于与所述湿式处理槽相反的一侧，所述侧面部包括隔着所述第一狭缝的第一侧面部和第二侧面部，所述一对处理液屏蔽件包括第一屏蔽件和第二屏蔽件，所述第一屏蔽件和所述第二屏蔽件以使所述柔性印刷基板用基材能够通过所述第一屏蔽件与所述第二屏蔽件之间的方式配置，所述一对辊包括：第一辊，位于所述第一屏蔽件与所述第一侧面部之间；以及第二辊，位于所述第二屏蔽件与所述第二侧面部之间，在与所述第一狭缝的宽度平行的方向上，所述第一屏蔽件的宽度比所述第一辊的宽度大，且所述第二屏蔽件的宽度比所述第二辊的宽度大
。
[0009]本公开所涉及的柔性印刷基板的制造方法具备：制备具有湿式处理槽的湿式处理装置的工序；以及在所述湿式处理槽中，对片状的柔性印刷基板用基材进行湿式处理的工序，所述湿式处理装置是处理连续移动的所述柔性印刷基板用基材的湿式处理装置，包括：湿式处理槽，具有在高度方向上设置有第一狭缝的侧面部，所述第一狭缝使所述柔性印刷基板用基材通过；一对辊，配置为位于所述湿式处理槽的外侧，从横向夹持所述柔性印刷基板用基材；一对处理液屏蔽件，在所述柔性印刷基板用基材的移动方向上，相对于所述一对辊位于与所述湿式处理槽相反的一侧；辅助室，设置于所述侧面部与所述一对辊之间；以及所述辅助室的内部所具备的追加的一对辊，所述辅助室具有在高度方向上设置有第二狭缝的辅助室的侧面部，所述第二狭缝使所述柔性印刷基板用基材通过，所述辅助室的侧面部包括隔着所述第二狭缝的第三侧面部和第四侧面部，所述一对处理液屏蔽件包括第一屏蔽件和第二屏蔽件，所述第一屏蔽件和所述第二屏蔽件以使所述柔性印刷基板用基材能够通过所述第一屏蔽件与所述第二屏蔽件之间的方式配置，所述一对辊包括：第一辊，位于所述第一屏蔽件与所述第三侧面部之间；以及第二辊，位于所述第二屏蔽件与所述第四侧面部之间，在与所述第二狭缝的宽度平行的方向上，所述第一屏蔽件的宽度比所述第一辊的宽度大，且所述第二屏蔽件的宽度比所述第二辊的宽度大
。
附图说明
[0010]图1是示出第一实施方式所涉及的湿式处理装置的整体结构的立体示意图
。
[0011]图2是示出第一实施方式所涉及的湿式处理装置的一部分结构的立体示意图
。
[0012]图3是示出第一实施方式所涉及的湿式处理装置的一部分结构的俯视示意图
。
[0013]图4是示出第一实施方式所涉及的湿式处理装置的一部分结构的侧视示意图
。
[0014]图5是示出第二实施方式所涉及的湿式处理装置的一部分结构的立体示意图
。
[0015]图6是示出第二实施方式所涉及的湿式处理装置的一部分结构的俯视示意图
。
[0016]图7是示出第二实施方式所涉及的湿式处理装置的一部分结构的侧视示意图
。
[0017]图8是示出第三实施方式所涉及的湿式处理装置的一部分结构的俯视示意图
。
[0018]图9是示出第四实施方式所涉及的湿式处理装置的一部分结构的侧视示意图
。
[0019]图
10
是简要说明本公开所涉及的柔性印刷基板的制造方法的流程图
。
[0020]图
11
是示出比较例所涉及的湿式处理装置的结构的立体示意图
。
[0021]图
12
是示出柔性印刷基板的结构的截面本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.
一种湿式处理装置，其特征在于，是处理连续移动的片状的工件的湿式处理装置，所述湿式处理装置具备：湿式处理槽，具有在高度方向上设置有第一狭缝的侧面部，所述第一狭缝使所述工件通过；一对辊，配置为位于所述湿式处理槽的外侧，与所述第一狭缝设有距离，且从横向夹持所述工件；以及一对处理液屏蔽件，在所述工件的移动方向上，相对于所述一对辊位于与所述湿式处理槽相反的一侧，所述侧面部包括隔着所述第一狭缝的第一侧面部和第二侧面部，所述一对处理液屏蔽件包括第一屏蔽件和第二屏蔽件，所述第一屏蔽件和所述第二屏蔽件以使所述工件能够通过所述第一屏蔽件与所述第二屏蔽件之间的方式配置，所述一对辊包括：第一辊，位于所述第一屏蔽件与所述第一侧面部之间；以及第二辊，位于所述第二屏蔽件与所述第二侧面部之间，在与所述第一狭缝的宽度平行的方向上，所述第一屏蔽件的宽度比所述第一辊的宽度大，且所述第二屏蔽件的宽度比所述第二辊的宽度大
。2.
根据权利要求1所述的湿式处理装置，其特征在于，所述工件的移动方向上的所述第一侧面部与所述第一辊的距离
、
以及所述第二侧面部与所述第二辊的距离分别比所述第一狭缝的宽度大
。3.
根据权利要求1或2所述的湿式处理装置，其特征在于，所述第一辊及第二辊各自的高度与所述第一狭缝的高度相同或者比所述第一狭缝的高度大
。4.
根据权利要求1至3中任一项所述的湿式处理装置，其特征在于，所述一对辊及所述一对处理液屏蔽件相对于所述湿式处理槽位于所述工件的移动方向的上游侧
。5.
一种湿式处理装置，其特征在于，是处理连续移动的片状的工件的湿式处理装置，所述湿式处理装置具备：湿式处理槽，具有在高度方向上设置有第一狭缝的侧面部，所述第一狭缝使所述工件通过；一对辊，配置为位于所述湿式处理槽的外侧，从横向夹持所述工件；一对处理液屏蔽件，在所述工件的移动方向上，相对于所述一对辊位于与所述湿式处理槽相反的一侧；辅助室，设置于所述侧面部与所述一对辊之间；以及所述辅助室的内部所具备的追加的一对辊，所述辅助室具有在高度方向上设置有第二狭缝的辅助室的侧面部，所述第二狭缝使所述工件通过，所述辅助室的侧面部包括隔着所述第二狭缝的第三侧面部和第四侧面部，所述一对处理液屏蔽件包括第一屏蔽件和第二屏蔽件，所述第一屏蔽件和所述第二屏蔽件以使所述工件能够通过所述第一屏蔽件与所述第二屏蔽件之间的方式配置，所述一对辊包括：第一辊，位于所述第一屏蔽件与所述第三侧面部之间；以及第二辊，
位于所述第二屏蔽件与所述第四侧面部之间，在与所述第二狭缝的宽度平行的方向上，所述第一屏蔽件的宽度比所述第一辊的宽度大，且所述第二屏蔽件的宽度比所述第二辊的宽度大
。6.
根据权利要求5所述的湿式处理装置，其特征在于，所述工件的移动方向上的所述第三侧面部与所述第一辊的距离
、
以及所述第四侧面部与所述第二辊的距离分别比所述第二狭缝的宽度大
。7.
根据权利要求5或6所述的湿式处理装置，其特征在于，所述第一辊及第二辊各自的高度与所述第二狭缝的高度相同或者比所述第二狭缝的高度大
。8.
根据权利要求5至7中任一项所述的湿式处理装置，其特征在于，所述一对辊
、
所述一对处理液屏蔽件
、
所述辅助室及所述追加的一对辊相对于所述湿式处理槽位于所述工件的移动方向的上游侧
。9.
根据权利要求1至8中任一项所述的湿式处理装置，其特征在于，所述湿式处理槽是镀敷处理槽
。10.
根据权利要求1至9中任一项所述的湿式处理装置，其特征在于，所述一对处理液屏蔽件为板状
。11.
一种柔性印刷基板的制造方法，其特征在于，具备：制备具有湿式处理槽的湿式处理装置的工序；以及在所述湿式处理槽中，对片状的柔性印刷基板用基材进行湿式处理的工序，所述湿式处理装置是处理连续移动的所述柔性印刷基板用基材的湿式处理装置，所述湿式处理装置包括：湿式处理槽，具有在高度方向上设置有第一狭缝的侧面部，所述第一狭缝使所述柔性印刷基板用基材通过；一对辊，配置为位于所述湿式处理槽的外侧，与所述第一狭缝设有距离，且从横向夹持所述柔性印刷基板用基材；以及一对处理液屏蔽件，在所述柔性印刷基板用基材的移动方向上，相对于所述一对辊位于与所述湿式处理槽相反的一侧，所述侧面部包括隔着所述第一狭缝的第一侧面部和第二侧面部，所述一对处理液屏蔽件包括第一屏蔽件和...

【专利技术属性】
技术研发人员：三浦宏介，新田耕司，酒井将一郎，
申请(专利权)人：住友电工印刷电路株式会社，
类型：发明
国别省市：