【技术实现步骤摘要】
一种基于光声作用的可视化芯片超声定点清洗设备
[0001]本专利技术涉及激光清洗
，特别涉及一种基于光声作用的可视化芯片超声定点清洗设备
。
技术介绍
[0002]芯片加工制作的工艺中，光刻
、
化学机械抛光等过程需要使用光刻胶
、
抛光剂的等辅助材料，难免会有纳米
、
微米量级的残余物附着
。
由于裸芯片本身的特殊性，表面线条十分脆弱，对清洗工艺有十分严格的要求
。
目前超声清洗是芯片焊后清洗的主流工艺
。
超声波是一种频率超出人类听觉范围
20 kHz
以上的声波
。
超声波由机械振动产生，目前半导体及晶圆等高精密行业零件清洗一般选用
120KHz
超声波，随着超声波的频率的升高，其穿透能力逐渐变小，不易腐蚀清洗件表面，且随超声波频率的升高其方向性逐渐升高，对器件的清洗更加有针对性
。
当前使用激光器通过光声作用产生超声波受到大家关注
。
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种基于光声作用的可视化芯片超声定点清洗设备，包括皮秒激光系统
、
同轴光路照明系统和运动控制系统，其特征在于：所述皮秒激光系统产生脉冲激光，通过同轴光路聚焦使芯片（
10
）本身或者吸收体产生振荡；所述同轴光路照明系统将照明光源发出的光束进行准直，准直后的光束两次通过分束镜与皮秒激光光路重合，最终为
CCD
成像提供充分照明；所述运动控制系统用于控制芯片（
10
）的位置移动
。2.
根据权利要求1所述的基于光声作用的可视化芯片超声定点清洗设备，其特征在于：所述皮秒脉冲激光器（1）的输出的激光波长为
532nm
或
1064nm、
脉宽为
5ps、
重复频率在
1kHz
‑
10MHz
可调谐，皮秒脉冲激光器（1）的平均功率为
10~800mW。3.
根据权利要求1所述的基于光声作用的可视化芯片超声定点清洗设备，其特征在于：所述皮秒激光系统包括皮秒脉冲激光器（1），皮秒激光器（1）的后方设置快门（2），快门（2）的后方设置衰减片（3），衰减片（3）的后方设置第一分束镜（7），第一分束镜（7）的后方设置长焦距显微物镜（4），长焦距显微物镜（4）对准芯片（
10
）
。4.
根据权利要求1所述的基于光声作用...
【专利技术属性】
技术研发人员：于梦涵，程晨，陈铎，周玉翔，王妍，
申请(专利权)人：山东省科学院激光研究所，
类型：发明
国别省市：
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