摄像装置和光学调整方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供摄像装置和光学调整方法，该摄像装置包括：在可沿光轴方向移动的构成变焦透镜的至少三个以上透镜组中的至少一个以上的可垂直移动透镜组，所述可垂直移动透镜组可沿基本上垂直于光轴的方向移动；在所述三个以上透镜组中的变焦透镜组，所述变焦透镜组可沿光轴方向移动；以及校正机构，通过将在广角端状态下的所述可垂直移动透镜组在所述基本上垂直的方向上移动至预定位置来校正基于所述三个以上的透镜组的光轴位置。当所述可垂直移动透镜组为了防振在各个变焦位置处在所述基本上垂直的方向上移动时，所述装置被构造成满足下面的条件式（１），（１）０．７＜（Ｌｗ＋Ｂｗ）／Ｂｔ＜１．３。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种，并且特别可被适当地应用于诸如具有 变焦机构的数码摄像机或数码相机的摄像装置。
技术介绍
过去，使用诸如(XD (电荷耦合器件)和CMOS (互补金属氧化物半导体)的摄像器 件的数码相机已被快速普及，并且已经变得普遍。如上所述，由于数码相机已经变得普遍，因此使用者对于与透镜一体形成的数码 相机的尺寸的减小、视角的增大以及特别是放大率的增大的要求变得强烈。此外，近来，每 年存在增加摄像器件的像素数的倾向，因此，对于图像质量的增加的要求也变得强烈。然而，存在的问题在于，由于尺寸减小和视角增大的影响降低了在透镜设计中的 广角端状态下的摄像器件的图像拾取表面的四个角处的周边光量。另外，也存在由于制造 差异引起的周边光量的不对称(不均衡)而导致的周边光量的降低的问题。另一方面，由于对图像质量的增加的要求，防振机构已经得到广泛使用。然而，已 经提出了用于通过使用防振透镜组来校正在摄像器件的中心位置与用于每个变焦位置的 透镜组的光轴之间发生的偏差的控制方法(例如，日本未审查专利申请公开第2005-49598 号以及日本未审查专利申请公开第2006-64986号)。
技术实现思路
然而，在日本未审查专利申请公开第2005-49598号以及日本未审查专利申请公 开第2006-64986号中披的相关技术的上述摄像装置中，通过使用防振透镜组来校正在摄 像器件的中心位置与用于每个变焦位置的透镜组的光轴之间发生的偏差。由于该原因，存 在的问题在于，防振透镜组的周围增大，即，透镜的尺寸增大。此外，在日本未审查专利申请公开第2005-49598号以及日本未审查专利申请公 开第2006-64986号中披的相关技术的上述摄像装置中，当通过防振透镜组来校正在摄像 器件的中心位置与透镜组的光轴之间发生的偏差时，应该计算每个变焦位置的校正量。因 此，还存在的问题在于，制造过程时间增加。鉴于上面的问题，作出了本专利技术的以下实施方式。特别地，期望提供一种光学调整 方法以及一种摄像装置，其具有能够在某种程度上通过改善在广角端状态下的摄像器件的 图像拾取表面(imag印ickup surface)的四个角处的周边光量的光量平衡防止光量降低来 实现高图像质量的简单构成。根据本专利技术的实施方式，摄像装置包括在构成可沿光轴方向移动的变焦透镜的至少三个以上透镜组中的至少一个以上可垂直移动透镜组，该可垂直移动透镜组可沿基本 上与光轴垂直的方向移动；在三个以上的透镜组中的变焦透镜组，该变焦透镜组可沿光轴 方向移动；以及校正机构，通过将在广角端状态下的可垂直移动透镜组沿基本上垂直的方 向移动至预定位置来校正基于该三个以上透镜组光轴位置。当为了防振目的而在基本上垂 直的方向上的各个变焦位置处移动可垂直移动透镜组时，该装置被构造成满足下面的条件 式⑴。(1)0. 7 < (Lw+Bw)/Bt < 1. 3，其中Lw是用于校正光轴位置的移动量，Bw是在广角端状态下用于防振的移动量，并且Bt是在望远端(摄远端，telephoto end)状态下用于防振的移动量。通过调节在广角端状态下的、使用可垂直移动透镜组的摄像器件的图像拾取表面 的四个角处的周边光量的光量平衡，并且通过适当地设定在广角端状态和望远端状态下的 使用可垂直移动透镜组防振的移动量，条件式(1)用于实现尺寸的减小和性能的提高。如果条件式(1)的结果值小于其下限，则在根据本专利技术的实施方式的摄像装置 中，很难充分确保在广角端状态下的防振量和用于调节光量平衡的移动量，从而降低了图 像质量。此外，如果条件式(1)的结果值大于其上限，则用于调节可垂直移动透镜组的光 量平衡的移动量过度增大。因此，虽然改善了光量平衡被，但是导致透镜尺寸增大(第一透 镜组的外径和可垂直移动透镜组的周边部的增大)。S卩，在摄像装置中，在广角端状态和望远端状态下使用可垂直移动透镜组的用于 防振的移动量被适当设定，从而在广角端状态和望远端状态下的可垂直移动透镜组的防振 移动量间设置差值(在广角端状态下用于防振的移动量小于在望远端状态下用于防振的 移动量)。通过这样的构造，在摄像装置中，在广角端状态下与望远端状态下的可垂直移动 透镜组的防振移动量的差值可以用来调节在广角端状态下摄像器件的图像拾取表面的四 个角处的周边光量的光量平衡。因此，在维持小尺寸的同时，可以充分确保防振性能，并且改善光量平衡。此外，根据该实施方式的摄像装置包括在可沿光轴方向移动的至少三个以上的 透镜组中的至少一个以上的可垂直移动透镜组，该可垂直移动透镜组可沿基本上垂直于光 轴的方向移动；透镜组中的变焦透镜组，该变焦透镜组可沿光轴方向被移动；以及校正机 构，通过沿基本上垂直的方向将在广角端状态下的可垂直移动透镜组移动至预定位置来校正基于三个以上透镜组的光轴位置。通过这样的构造，优选装置满足下面的条件式(2)和 ⑶。(2)0. 2 < ((1 一 3 iw) X ^ rw) / ((1_ 3 it) X 3 rt) < 0. 7，以及(3) ((1-3 iw) X ^rw) > fwXtanO. 5，其中0 iw是广角端状态下可垂直移动透镜组的近轴横向放大率，0 rw是比广角端状态下的可垂直移动透镜组更接近于图像拾取表面侧设置的透镜组的近轴横向放大率，0 it是望远端状态下的可垂直移动透镜组的近轴横向放大率，3 rt是比望远端状态下的可垂直移动透镜组更接近于图像拾取表面侧设置的透 镜组的近轴横向放大率，并且fw是广角端状态下的焦距。条件式(2)和(3)用于实现这样的摄像装置，在摄像器件的图像拾取表面的四个 角处的周边光量被平衡。如果条件式(2)的结果值低于其下限，则在广角端状态下的防振灵敏度相对于望 远端状态较低(当可垂直移动透镜组沿基本上垂直于光轴的方向被移动单位长度时，图像 拾取表面的移动量很小)，并且为了获得一定的防振校正效果，需要增大用于可垂直移动透 镜组的防振的移动量。因此，当用于调节光量平衡的移动量被确保时，装置的尺寸增大。此外，如果条件式(2)的结果值大于其上限，则为了确保在望远端状态下的高变 焦比和防振性能，需要保持很大的机械行程(mechanical stroke)量。因此，整个摄像装置 的尺寸增大。S卩，当摄像装置满足条件式(2)时，广角端状态和望远端状态下的防振灵敏度比 率可以被适当地设定。因此，广角端状态下的用于防振的移动量与用于调节光量平衡的移 动量的总和并不显著变得大于或小于望远端状态下的用于防振的移动量。结果，可以实现 高性能、小尺寸的摄像装置。具体地，当摄像装置满足条件式⑵和(3)时，可以比在望远端状态下用于可垂直 移动透镜组的防振移动量更好地减小在广角端状态下用于可垂直移动透镜组的防振移动 量。因此，在调节光量平衡时，可以将在广角端状态下额外的机械行程量有效地用作用于调 节光量平衡的移动量。此外，优选摄像装置满足下面的条件式(4)。(4) ((1-3 it) X 3 rt)/((1_3 iw) X ^ rw) < 1. IX (Bt/Bw)在摄像装置中，通过满足条件式(4)并适当地设定在望远端状态和广角端状态下 用于防振的移动量的比率，可以有效地改善在摄像器件的图像拾取表面的四个角处的周边 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种摄像装置，包括：在可沿光轴方向移动的构成变焦透镜的至少三个以上透镜组中的至少一个以上的可垂直移动透镜组，所述可垂直移动透镜组可沿基本上垂直于光轴的方向移动；在所述三个以上透镜组中的变焦透镜组，所述变焦透镜组可沿光轴方向移动；以及校正机构，通过将在广角端状态下的所述可垂直移动透镜组沿所述基本上垂直的方向移动至预定位置来校正基于所述三个以上透镜组的光轴位置，其中当所述可垂直移动透镜组为了防振而在各个变焦位置处在所述基本上垂直的方向上移动时，满足下面的条件式（１），（１）０．７＜（Ｌｗ＋Ｂｗ）／Ｂｔ＜１．３，其中，Ｌｗ是用于校正所述光轴位置的移动量，Ｂｗ是在广角端状态下用于防振的移动量，并且Ｂｔ是在望远端状态下用于防振的移动量。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：大畑笃，黑田大介，村田将之，
申请(专利权)人：索尼公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]