一种具有高平整度制造技术

本发明专利技术公开了一种具有高平整度

【技术实现步骤摘要】
一种具有高平整度、光泽度、超厚上下浮雕的瓷砖及其制备方法


[0001]本专利技术涉及一种具有高平整度
、
光泽度
、
超厚上下浮雕的瓷砖及其制备方法
。

技术介绍

[0002]在装饰不同的空间时，大理石等奢侈品的需求量很高，但是大理石等优质石头制品成本非常高，且大理石资源有限，而且天然的大理石无法定制，导致其在装饰领域受到一定的限制
。
[0003]陶瓷行业的瓷砖可以为大理石等石头奢侈品提供替代品，但是普通的瓷砖和天然大理石在装饰效果上相差很大，普通瓷砖难以满足高端装饰的需求
。
普通瓷砖的表面通常是平坦的，没有凹凸浮雕等三维效果，对此，现有技术也采用数码打印方式在瓷砖的基础釉层上覆盖金属干粒，以制造凹凸上下浮雕效果的瓷砖，但是金属干粒一方面容易从釉层上脱落，另一方面金属干粒在瓷砖的烧结过程中，容易坍塌，导致制备得到的瓷砖无法获得凹凸上下厚度高的浮雕效果，且干粒表面非常不规则，瓷砖光泽度差，平整度差
。
[0004]中国专利
CN112374914A
公开了一种带有凹凸纹理的瓷砖结构，其凸纹图案的高度为
1.5mm
‑
2.0mm
之间，然而该高度还不够高，不能满足高厚度浮雕效果的高端需求
。
[0005]中国专利
CN110627510A
公开了一种图案立体感可调的陶瓷砖，其实施例制备得到的陶瓷砖的凹凸差最高值为
2.5mm
，然而该凸凹高度差还不够高，也不能满足高厚度浮雕效果的高端需求，且该陶瓷砖在制备时，需要先在坯体上施面釉，再依次打印颜色墨水，保湿墨水，胶水墨水，深刻墨水，再施加干粒和保护釉，该制备工艺较为繁琐，成本高，且陶瓷砖的光泽度也不高，凸出部分和凹进部分的平整度不高
。

技术实现思路

[0006]针对现有技术的缺点和不足，本专利技术提供了一种改进的瓷砖，其具有超厚的上下浮雕效果，且该瓷砖的光泽度高，在凸出区域和凹进区域的平整度高，同时瓷砖具有优异的耐酸性和耐碱性，能够满足高端装饰需求
。
[0007]为达到上述目的，本专利技术采用的技术方案如下：一种具有上下浮雕效果的瓷砖，所述瓷砖包括坯体，所述瓷砖包括凸出区域和凹进区域，所述凸出区域还包括设置在所述坯体上的自下而上依次设置的釉料层
、
胶水墨水层和干粒层，所述凹进区域还包括设置在所述坯体上的自下而上依次设置的硅油墨水层和釉料层；所述凸出区域和所述凹进区域的高度差为
2.6mm
‑
5mm
；所述硅油墨水层的原料由溶剂和硅油组成，所述溶剂为脂肪酸；所述胶水墨水层的原料包括以重量百分比计的以下组分：丙烯酸聚合物
10%
‑
20%、
分散剂
1%
‑
9%、
氧化锌
3%
‑
10%、
硅灰石
15%
‑
35%、
有机溶剂
45%
‑
68%
；所述干粒层的原料为干粒，所述干粒为金属氧化物的混合物
。
[0008]本专利技术中，凸出区域是指瓷砖中高度较高的区域，凹进区域是指瓷砖中高度较低的区域，正是由于瓷砖具有凸出区域和凹进区域，使得其具有视觉上的上下浮雕效果
。
本发
明中，凸出区域
、
凹进区域并不必然是物理位置上连续的区域，也可以是间断的区域，例如瓷砖具有多个凸出区域和
/
或多个凹进区域，凸出区域
、
凹进区域的具体设置可以依据目标图案来特定化定制，因此本专利技术的瓷砖具有可定制的上下浮雕效果
。
[0009]本专利技术中，凸出区域和凹进区域的高度差是指凸出区域的最高位置离凹进区域的最低位置的高度差
。
由于本专利技术的瓷砖在凸出区域和凹进区域均具有高的平整度，凸出区域和凹进区域均类似于平面状态，因此二者的高度差也可以看成是凸出平面和凹进平面的高度差
。
本专利技术的瓷砖的上述高度差很大，大于现有技术中凹凸纹理瓷砖的高度差，因此本专利技术的瓷砖具有超厚的上下浮雕效果，能够满足各种高端装饰需求，这是现有技术难以实现的
。
[0010]在一些实施方式中，所述硅油为液态硅油
。
所述硅油例如可以为聚二甲基硅氧烷
。
[0011]在一些实施方式中，所述凸出区域和所述凹进区域的高度差为
3.2mm
‑
5mm。
[0012]在一些实施方式中，所述硅油墨水层的原料以重量百分比计，由
70%
‑
85%
的溶剂和
15%
‑
30%
的硅油组成，所述脂肪酸选自油酸
、
硬脂酸
、
月桂酸
、
亚油酸中的一种或多种的组合
。
[0013]在一些实施方式中，所述分散剂为多聚甲醛；所述有机溶剂选自脂肪酸
、
己二酸二己酯和油酸异丙酯中的一种或多种的组合
。
[0014]在一些实施方式中，所述干粒包括以重量百分比计的以下组分：氧化硅
55%
‑
75%、
氧化钙
5%
‑
20%、
氧化钾
6%
‑
15%、
氧化铝
3%
‑
12%、
氧化锌
6%
‑
16%。
[0015]在一些实施方式中，所述釉料层由釉料形成，所述釉料按照重量百分比计，含有以下组分：高岭土
6%
‑
17%、
哑光熔块
25%
‑
45%、10%
‑
25%
钠长石
、
硅酸锆
10%
‑
23%、
石英
7%
‑
25%、
氧化铝
1%
‑
7%、
氧化锌
0%
‑
4%。
[0016]在一些实施方式中，所述釉料还包括以下重量百分比的组分：羧甲基纤维素钠
0.1%
‑
0.3%、0.1%
‑
0.5%
的三聚磷酸钠
。
[0017]在一些实施方式中，所述哑光熔块包括以下重量百分比的组分：二氧化硅
40%
‑
60%、
氧化钾
2%
‑
6%、
氧化铝
5%
‑
20%、
氧化锌
5%
‑
10%、
氧化钡
5%
‑
20%、
氧化钙
5%
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种具有上下浮雕效果的瓷砖，所述瓷砖包括坯体，其特征在于：所述瓷砖包括凸出区域和凹进区域，所述凸出区域还包括设置在所述坯体上的自下而上依次设置的釉料层
、
胶水墨水层和干粒层，所述凹进区域还包括设置在所述坯体上的自下而上依次设置的硅油墨水层和釉料层；所述凸出区域和所述凹进区域的高度差为
2.6mm
‑
5mm
；所述硅油墨水层的原料由溶剂和硅油组成，所述溶剂为脂肪酸；所述胶水墨水层的原料包括以重量百分比计的以下组分：丙烯酸聚合物
10%
‑
20%、
分散剂
1%
‑
9%、
氧化锌
3%
‑
10%、
硅灰石
15%
‑
35%、
有机溶剂
45%
‑
68%
；所述干粒层的原料为干粒，所述干粒为金属氧化物的混合物
。2.
根据权利要求1所述的具有上下浮雕效果的瓷砖，其特征在于：所述凸出区域和所述凹进区域的高度差为
3.2mm
‑
5mm。3.
根据权利要求1所述的具有上下浮雕效果的瓷砖，其特征在于：所述硅油墨水层的原料以重量百分比计，由
70%
‑
85%
的溶剂和
15%
‑
30%
的硅油组成，所述脂肪酸选自油酸
、
硬脂酸
、
月桂酸
、
亚油酸中的一种或多种的组合
。4.
根据权利要求1所述的具有上下浮雕效果的瓷砖，其特征在于：所述分散剂为多聚甲醛；所述有机溶剂选自脂肪酸
、
己二酸二己酯和油酸异丙酯中的一种或多种的组合
。5.
根据权利要求1所述的具有上下浮雕效果的瓷砖，其特征在于：所述干粒包括以重量百分比计的以下组分：氧化硅
55%
‑
75%、
氧化钙
5%
‑
20%、
氧化钾
6%
‑
15%、
氧化铝
3%
‑
12%、
氧化锌
6%
‑
16%。6.
根据权利要求1所述的具有上下浮雕效果的瓷砖，其特征在于：所述釉料层由釉料形成，所述釉料按照重量百分比计，含有以下组分：高岭土
6%
‑
...

【专利技术属性】
技术研发人员：塞恩思，
申请(专利权)人：陶丽西苏州陶瓷釉色料有限公司，
类型：发明
国别省市：