一种氖同位素比值质量歧视效应校准的方法技术

本发明专利技术涉及同位素测量领域，特别是涉及一种氖同位素比值质量歧视效应校准的方法，包括提供

【技术实现步骤摘要】
一种氖同位素比值质量歧视效应校准的方法


[0001]本专利技术涉及同位素测量领域，特别是涉及一种氖同位素比值质量歧视效应校准的方法
。

技术介绍

[0002]氖
(Ne)
具有三种同位素，
20
Ne、
21
Ne
和
22
Ne
，其相对简单的同位素分馏过程和易于区分的端元特征使得氖同位素被广泛应用于地壳
、
地幔
、
行星
、
大气
、
太阳风
、
宇宙射线等端元的识别
。
由此，对氖同位素更高精度的测量方法需要被开发，苏菲等开发了一种
Ne
气同位素测量方法，主要针对稀有气体质谱仪静态测量时
40
Ar
2+
对
20
Ne
+
的干扰提出了相关的校准和解决方案；等开发了一种高精度测量
21
Ne
的方法，主要针对稀有气体质谱仪静态测量时
20...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种氖同位素比值质量歧视效应校准的方法，包括如下步骤：
S1、
提供
N
种不同气体信号量的标准气体
(
空气
)
，采用质谱仪分别测试
N
种标准气体
(
空气
)
中的
20
Ne
和
22
Ne
，获得
N
个数据组，
N
为大于3的整数；
S2、
将
S1
步骤中的
N
个数据组，采用数学拟合方法获得如式
(1)
所示的函数方程；
(
20
Ne/
22
Ne)
air
＝
20
Ne/
22
Ne
＝
A(
22
Ne)+B(1)
，其中
A、B
均为常数；
S3、
提供测试样品，采用质谱仪测试样品中
20
Ne
sample
和
22
Ne
sample
；
S4、
令式
(1)
中的
22
Ne
与
22
Ne
sample
相等，获得如式
(2)
所示的函数方程：
(
20
Ne/
22
Ne)
air(sample) ＝ A(
22
Ne
sample
)+B
ꢀꢀ
(2)S5、
根据式
(3)
获得质量歧视因子：
D
＝
(
20
Ne/
22
Ne)
air(sample)
/(
20
Ne/
22
Ne)
standard
(3)
，其中，
(
20
Ne/
22
Ne)
standard
为标准气体
(
空气
)
中
20
Ne
和
22
Ne
同位素的丰度比；
S6、
根据式
(4)
获得样品真实值；
(
20
Ne/
22
Ne)
samplereal
＝
(
20
Ne
sample
/
22
Ne
sample
)/D
ꢀꢀ
(4)。2.
根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：张徐航，苏菲，贺怀宇，
申请(专利权)人：中国科学院地质与地球物理研究所，
类型：发明
国别省市：