反射式薄膜晶体管阵列基板及其制作方法技术

一种反射式薄膜晶体管阵列基板，包括：衬底；栅极和多个支撑垫，形成在衬底上；栅极绝缘层，具有与多个支撑垫位置一一对应的多个第一凸块；晶体管半导体层和多个支撑块；晶体管半导体层对应设置在栅极的上方；多个支撑块一一叠置在多个第一凸块上，每一第一凸块与叠置第一凸块上方的支撑块形成一个支撑结构；源极

【技术实现步骤摘要】
反射式薄膜晶体管阵列基板及其制作方法、反射式显示面板


[0001]本专利技术涉及显示
，特别是涉及一种反射式薄膜晶体管阵列基板及其制作方法
、
反射式显示面板
。

技术介绍

[0002]液晶显示装置
(liquid crystal display
，
LCD)
具有画质好
、
体积小
、
重量轻
、
低驱动电压
、
低功耗
、
无辐射和制造成本相对较低的优点，在平板显示领域占主导地位
。
[0003]液晶显示装置包括穿透式显示装置
、
半透半反射式显示装置和反射式显示装置
。
穿透式显示装置要设置背光源才能显示影像
。
半透半反射式显示装置设置有反射层用于反射从环境中入射的光线，但同样也需要设置背光源
。
反射式显示装置是完全利用外界环境光来显示影像，无需设置背光源，功耗低，且可以与网络互联互通
、
易于更新
、
价格便宜等优点，具有广阔的市场前景
。
[0004]现有的一种反射式显示装置中，显示面板在阵列基板上通常设有反射层，通过反射层反射环境光来实现画面显示，为了实现较好的反射效果，将反射层下方的平坦层设置成凹凸不平的突起，但平坦层的厚度较厚，导致显示面板表面膜层出现凹凸不平的现象，进而导致液晶层扩散时产生气泡
(bubble)
，最终形成气泡不良
。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的在于提供一种反射式薄膜晶体管阵列基板及其制作方法
、
反射式显示面板，能有效地改善反射式显示面板的液晶层中的气泡不良
。
[0006]本专利技术实施例提供一种反射式薄膜晶体管阵列基板，包括：衬底；栅极和多个支撑垫；该栅极和多个该支撑垫形成在该衬底上；栅极绝缘层；该栅极绝缘层具有与多个该支撑垫位置一一对应的多个第一凸块；晶体管半导体层和多个支撑块；该晶体管半导体层对应设置在该栅极的上方；多个该支撑块一一叠置在多个该第一凸块上，每一该第一凸块与叠置该第一凸块上方的该支撑块形成一个支撑结构；该晶体管半导体层具有半导体沟道；源极
、
漏极和反射层；该源极和该漏极相互间隔设置，该半导体沟道位于源极和漏极之间，该反射层与漏极相连；该反射层远离该衬底的一面为反射面；绝缘保护层；该绝缘保护层上形成有多条第三凹槽，每相邻的两条第三凹槽之间形成有多个棱镜结构，该棱镜结构包括对应设置在每个该支撑结构上方的第一棱镜结构和第二棱镜结构，该第一棱镜结构和该第二棱镜结构呈镜相对称设置；以及透明电极层；该透明电极层形成在该绝缘保护层上
。
[0007]进一步地，多个该支撑垫在每个子像素单元内呈阵列排布
。
[0008]进一步地，该第三凹槽包括第一子凹槽和第二子凹槽，该第一子凹槽对应设置在每列该支撑垫上方，该第二子凹槽对应设置在每相邻两列该支撑垫之间，该第一棱镜结构和该第二棱镜结构分别设置在该第一子凹槽的两侧
。
[0009]进一步地，该第二子凹槽的深度大于该第一子凹槽的深度
。
[0010]进一步地，该栅极绝缘层靠近该半导体薄膜层一侧形成有多条相互平行的第一凹
槽和与该第一凹槽交叉设置且相互平行的多条第二凹槽，其中，每两列该支撑垫之间设有一条该第一凹槽，每两行该支撑垫之间设有一条该第二凹槽，该第一凹槽与该第二凹槽的交叉位置重合；该第一凸块设置在相邻的两条该第一凹槽和相邻的两条该第二凹槽之间
。
[0011]进一步地，该栅极绝缘层对应该第一凹槽
/
该第二凹槽位置具有第一厚度
h1
，该栅极绝缘层对应该支撑垫位置具有第二厚度
h2
，其中，
h1<h2。
[0012]本专利技术实施例还提供一种反射式薄膜晶体管阵列基板的制作方法，包括：提供衬底，在该衬底上沉积形成第一金属薄膜层，并对该第一金属薄膜层进行蚀刻，使该第一金属薄膜层图案化形成栅极和多个支撑垫；在形成该栅极和多个该支撑垫后的该衬底上依次沉积形成栅极绝缘薄膜层和半导体薄膜层并对该半导体薄膜层和该栅极绝缘薄膜层进行蚀刻，以形成晶体管半导体层和多个支撑结构；其中，对该半导体薄膜层进行蚀刻使该半导体薄膜层图案化后形成晶体管半导体层和多个支撑块；该晶体管半导体层对应设置在该栅极的上方；多个该支撑块一一设置在多个该支撑垫上方；对栅极绝缘薄膜层进行蚀刻形成栅极绝缘层，该栅极绝缘层具有与多个该支撑垫位置一一对应的多个第一凸块，多个该支撑块一一叠置在多个该第一凸块的上，每一该第一凸块与叠置该第一凸块上方的该支撑块形成一个该支撑结构；在形成该栅极绝缘层后的该衬底上形成第二金属薄膜层，并对该第二金属薄膜层和该晶体管半导体层进行蚀刻，以形成源极
、
漏极
、
反射层和半导体沟道；其中，该源极和该漏极相互间隔设置，该半导体沟道位于源极和漏极之间，该反射层与漏极相连；该反射层远离该衬底的一面为反射面；在蚀刻形成该反射层后的该衬底上沉积形成绝缘保护薄膜层并对该绝缘保护薄膜层进行蚀刻，以形成绝缘保护层；其中，该绝缘保护层上形成有多条第三凹槽，每相邻的两条第三凹槽之间形成有多个棱镜结构，该棱镜结构包括对应设置在每个该支撑结构上方的第一棱镜结构和第二棱镜结构，该第一棱镜结构和该第二棱镜结构呈镜相对称设置；以及在该绝缘保护层上形成透明电极层
。
[0013]进一步地，该栅极绝缘层靠近该半导体薄膜层一侧经蚀刻后形成有多条相互平行的第一凹槽和与该第一凹槽交叉设置且相互平行的多条第二凹槽，其中，每两列该支撑垫之间设有一条该第一凹槽，每两行该支撑垫之间设有一条该第二凹槽，该第一凹槽与该第二凹槽的交叉位置重合；该第一凸块形成在相邻的两条该第一凹槽和相邻的两条该第二凹槽之间；该栅极绝缘层对应该第一凹槽
/
该第二凹槽位置具有第一厚度
h1
，该栅极绝缘层对应该支撑垫位置具有第二厚度
h2
，其中，
h1<h2。
[0014]进一步地，该第三凹槽包括第一子凹槽和第二子凹槽，该第一子凹槽对应设置在每列该支撑垫上方，该第二子凹槽对应设置在每相邻两列该支撑垫之间；该第二子凹槽的深度大于该第一子凹槽的深度；该第一棱镜结构和该第二棱镜结构位于相邻的两条该第二子凹槽之间并分别设置在该第一子凹槽的两侧
。
[0015]本专利技术实施例还提供一种反射式显示面板，其特征在于，包括上述的反射式薄膜晶体管阵列基板，该反射式显示面板还包括与该反射式薄膜晶体管阵列基板对置的彩色滤光基板，以及夹设在该反射式薄膜晶体管阵列基板和该彩色滤光基板之间的液晶层
。
[0016]本专利技术实施例提供的反射式薄膜晶体管阵列基板及其制作方法，反射式显示面板中，反射式薄膜晶体管阵本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种反射式薄膜晶体管阵列基板，其特征在于，包括：衬底
(11)
；栅极
(121)
和多个支撑垫
(122)
；该栅极
(121)
和多个该支撑垫
(122)
形成在该衬底
(11)
上；栅极绝缘层
(13)
；该栅极绝缘层
(13)
具有与多个该支撑垫
(122)
位置一一对应的多个第一凸块
(133)
；晶体管半导体层
(141)
和多个支撑块
(142)
；该晶体管半导体层
(141)
对应设置在该栅极
(121)
的上方；多个该支撑块
(142)
一一叠置在多个该第一凸块
(133)
上，每一该第一凸块
(133)
与叠置该第一凸块
(133)
上方的该支撑块
(142)
形成一个支撑结构
(134)
；该晶体管半导体层
(141)
具有半导体沟道
(1411)
；源极
(151)、
漏极
(152)
和反射层
(153)
；该源极
(151)
和该漏极
(152)
相互间隔设置，该半导体沟道
(1411)
位于源极
(151)
和漏极
(152)
之间，该反射层
(153)
与漏极
(152)
相连；该反射层
(153)
远离该衬底
(11)
的一面为反射面；绝缘保护层
(16)
；该绝缘保护层
(16)
上形成有多条第三凹槽
(161)
，每相邻的两条第三凹槽
(161)
之间形成有多个棱镜结构
(162)
，该棱镜结构
(162)
包括对应设置在每个该支撑结构
(134)
上方的第一棱镜结构
(1621)
和第二棱镜结构
(1622)
，该第一棱镜结构
(1621)
和该第二棱镜结构
(1622)
呈镜相对称设置；以及透明电极层
(17)
；该透明电极层
(17)
形成在该绝缘保护层
(16)
上
。2.
如权利要求1所述的反射式薄膜晶体管阵列基板，其特征在于，多个该支撑垫
(122)
在每个子像素单元
(P)
内呈阵列排布
。3.
如权利要求1所述的反射式薄膜晶体管阵列基板，其特征在于，该第三凹槽
(161)
包括第一子凹槽
(1611)
和第二子凹槽
(1612)
，该第一子凹槽
(1611)
对应设置在每列该支撑垫
(122)
上方，该第二子凹槽
(1612)
对应设置在每相邻两列该支撑垫
(122)
之间，该第一棱镜结构
(1621)
和该第二棱镜结构
(1622)
分别设置在该第一子凹槽
(1611)
的两侧
。4.
如权利要求3所述的反射式薄膜晶体管阵列基板，其特征在于，该第二子凹槽
(1612)
的深度大于该第一子凹槽
(1611)
的深度
。5.
如权利要求1所述的反射式薄膜晶体管阵列基板，其特征在于，该栅极绝缘层
(13)
靠近该半导体薄膜层
(140)
一侧形成有多条相互平行的第一凹槽
(131)
和与该第一凹槽
(131)
交叉设置且相互平行的多条第二凹槽
(132)
，其中，每两列该支撑垫
(12)
之间设有一条该第一凹槽
(131)
，每两行该支撑垫
(12)
之间设有一条该第二凹槽
(132)
，该第一凹槽
(131)
与该第二凹槽
(132)
的交叉位置重合；该第一凸块
(133)
设置在相邻的两条该第一凹槽
(131)
和相邻的两条该第二凹槽
(132)
之间
。6.
如权利要求5所述的反射式薄膜晶体管阵列基板，其特征在于，该栅极绝缘层
(13)
对应该第一凹槽
(131)/
该第二凹槽
(132)
位置具有第一厚度
h1
，该栅极绝缘层
(13)
对应该支撑垫
(122)
位置具有第二厚度
h2
，其中，
h1<h2。7.
一种反射式薄膜晶体管阵列基板的制作方法，其特征在于，包括：提供衬底
(11)
，在该衬底
(11)
上沉积形成第一金属薄膜层，并对该第一金属薄膜层进行蚀刻，使该第一金属薄膜层图案化形成栅极
(121)
和多个支撑垫
(122)
；在形成该栅极
(121)
和多个该支撑垫
(122)
后的该衬底
(11)
上依次沉积形成栅极绝缘
薄膜层
(130)
和半导体薄膜层
(140)
并对该半导体薄膜层
(140)
和该栅极绝缘薄膜层...

【专利技术属性】
技术研发人员：李志凯，王红美，
申请(专利权)人：昆山龙腾光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：