一种电子束蒸发镀膜设备及蒸发镀膜方法技术

本发明专利技术属于蒸镀设备技术领域，具体为一种电子束蒸发机构

【技术实现步骤摘要】
一种电子束蒸发镀膜设备及蒸发镀膜方法


[0001]本专利技术属于电子束蒸镀设备

。
具体涉及一种电子束蒸发镀膜设备及蒸发镀膜方法
。

技术介绍

[0002]电子束蒸镀
(Electron Beam Evaporation)
是物理气相沉积的一种
。
与传统蒸镀方式不同，电子束蒸镀利用电磁场的配合可以精准地实现利用高能电子轰击坩埚内镀膜材料，使之融化并气化进而沉积在基片上
。
[0003]电子束加热蒸镀能获得极高的能量密度，最高可达
109w/cm2，加热温度可达
3000
～
[0004]6000℃
，可以蒸发难熔金属或化合物；被蒸发材料置于水冷的坩埚中，可避免坩埚材料的污染，制备高纯薄膜；另外，由于蒸发物加热面积小，因而热辐射损失减少，热效率高
。
相对电子束蒸镀而言，电子束加热蒸镀可以为待蒸发的物质提供更高的热量，因此蒸镀的速率也更快；电子束定位准确，可以避免坩埚材料的蒸发和污染
>。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种电子束蒸发机构，其特征在于，包括位于底部且对称设置的装配底座，在装配底座上安装有整个电子束蒸发机构的固定结构，机构后方设有两个冷却水管接口；机构中央部分设有坩埚，坩埚内放有蒸发镀膜材料，电子枪电机连接电子枪靶枪头，用以对蒸发镀膜材料进行蒸发
。2.
根据权利要求1所述的一种电子束蒸发机构，其特征在于，所述固定结构，用以对整个机构进行固定支撑
。3.
根据权利要求1所述的一种电子束蒸发机构，其特征在于，所述冷却水管接口用于冷却水的接入和流出
。4.
带有权利要求1‑3任一项所述电子束蒸发机构的电子束蒸发镀膜设备，其特征在于，包括带有斜面的电子束镀膜工艺室，腔室的上方中部设有工件盘系统，工件盘系统使工件盘可以均匀的按照设定进行旋转，工件盘系统下方设有电子束蒸发机构，腔室壁上嵌入式安装有离子源系统，离子源系统为提供工件预清洗和刻蚀工艺的系统，腔室背侧安装有抽真空系统
。5.
根据权利要求6所述的一种电子束蒸发镀膜设备，其特征在于，所述该电子束镀膜工艺室为船型结构<...

【专利技术属性】
技术研发人员：杜鸿基，陈亮，
申请(专利权)人：北京维开科技有限公司，
类型：发明
国别省市：