【技术实现步骤摘要】
一种低介电低膨胀聚四氟乙烯高频覆铜板的制备方法
[0001]本专利技术属于覆铜板生产制造
,涉及一种低介电低膨胀聚四氟乙烯高频覆铜板的制备方法
。
技术介绍
[0002]随着第五代移动通讯技术
(5G)
的快速发展和普及,数字电路逐渐步入信息处理高速化
、
信号传输高频化阶段
。
为处理不断增加的数据,电子设备的频率变得越来越高,高频覆铜板将朝着低介电常数
(Dk)、
低热膨胀系数
(Df)、
薄型多层化及耐热化等趋势方向发展,以满足当前及未来电子和通讯产品的需求
。
[0003]在覆铜板的制造过程中,添加填料已经是用来增加覆铜板的性能
、
功能和价值的直接手段
。
如能合理的添加和使用填料,则可以提高或改善覆铜板的性能,否则将带来负面影响
。
如填料在树脂体系中分散不均匀
、
基体树脂对填料的润湿
、
渗透
、
包覆不良
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种低介电低膨胀聚四氟乙烯高频覆铜板的制备方法,其特征在于:包括如下步骤:步骤
1、
制备胶水,所述胶水包括胶水
A
和胶水
B
;其中胶水
A
的制备方法为:将无机填料与硅烷偶联剂处理后,再与水在高速剪切的条件下,将水与无机填料的混合物与氟类树脂乳液进行混合分散制得胶水
A
;胶水
B
的制备方法为:将短玻纤与硅烷偶联剂处理后,再与水在高速剪切的条件下,将水与短玻纤的混合物与氟类树脂乳液进行混合分散制得胶水
B
;步骤
2、
介质层制备:将胶水
A
和胶水
B
与玻璃纤维布在高温上胶机上经过多次浸渍涂覆
、
晾干
、
低温烘烤和高温烘烤后制得介质层,其中胶水
B
用再最后一次涂覆上;所述介质层以体积百分数总和
100
%计包括下述组分:氟类树脂体积百分数
12
%
‑
25
%,硅烷偶联剂体积百分数3%
‑6%,无机填料体积百分数
60
‑
65
%,增强材料体积百分数
10
%
‑
20
%;其中无机填料包括中空玻璃微珠
、
空心球硅中的任意一种或两种混合物;步骤
3、
压合成型:在介质层上方和下方各加一层铜箔,再在铜箔上下表面加上钢板,然后放入高温压机进行压合制得高频覆铜板
。2.
根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述无机填料以体积百分数总和
100
%计,所述中空玻璃微珠的体积百分数0~
100
%;所述空心球硅的体积百分数0~
100
%
。3.
根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述短玻纤长度为
100
‑
150
μ
m
,直径为1‑3μ
m
,胶水
B
的涂覆厚度为
10
‑
15
μ
m。4.
根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:将硅烷偶联剂与水按比例混合,在
30
‑
45℃
的温度下充分搅拌后加入无机填料,以
4500
‑
5500rpm/min
...
【专利技术属性】
技术研发人员:杨萍,雷成,
申请(专利权)人:江苏生益特种材料有限公司,
类型:发明
国别省市:
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