一种图像处理方法及电子设备技术

技术编号:39572101 阅读:5 留言:0更新日期:2023-12-03 19:23
本申请实施例提供一种图像处理方法及电子设备,应用于终端技术领域,能够对与参考图像进行融合的图像的像素信息进行增强,降低未配准的区域在图像融合过程中的负面影响,从而改善融合后的图像清晰度回退的问题,使得图像处理效果更好。该方法中,电子设备根据参考图像和待配准图像相匹配的第一像素点从参考图像到待配准图像上的位置映射关系,对待配准图像的第一像素点进行位置变换,得到第一配准图像。并根据第一配准图像的配准对象与参考图像的配准对象之间的差异值,调整第一配准图像中差异值满足第一条件的配准对象的参考权重,得到待配准图像对应的第二配准图像;之后对参考图像和N张第二配准图像进行融合处理,得到目标图像。标图像。标图像。

【技术实现步骤摘要】
一种图像处理方法及电子设备


[0001]本申请涉及终端
,尤其涉及一种图像处理方法及电子设备。

技术介绍

[0002]由于拍摄环境、拍摄设备的硬件条件、图像压缩等因素的影响,拍摄到的图像往往存在噪点明显、模糊、反光等情况,因此需要进行对图像进行质量增强处理。
[0003]相关技术中针对图像的噪点、模糊、反光等情况,通过获取一组图像序列,对图像序列中的特征信息进行相关分析,基于图像序列中各个图像的特征信息交换,从而将图像序列融合成一张图像。但是采用多张图像融合方式所融合的图像可能会出现清晰度回退的问题。

技术实现思路

[0004]基于此,本申请实施例提供一种图像处理方法及电子设备,能够降低未配准的对象在图像融合过程中的负面影响,从而改善融合后的图像清晰度回退的问题,使得图像处理效果更好。
[0005]第一方面,本申请实施例提供一种图像处理方法,应用于电子设备,该方法中,电子设备获取目标对象对应的多帧图像,其中,多帧图像包括参考图像和N张待配准图像,N为大于0的整数。针对N张待配准图像中的任一待配准图像,电子设备根据第一像素点从参考图像到待配准图像上的位置映射关系,对待配准图像中的第一像素点进行位置变换,得到待配准图像对应的第一配准图像,其中,第一像素点是参考图像和待配准图像相匹配的像素点。然后电子设备针对N张待配准图像中任一待配准图像对应的第一配准图像,根据第一配准图像的配准对象与参考图像的配准对象之间的差异值,调整第一配准图像中差异值满足第一条件的配准对象的参考权重,得到待配准图像对应的第二配准图像。相比于第一配准图像,第二配准图像结合了配准结果的差异度,所以可以降低未配准对象在图像融合过程中的负面影响。之后电子设备对参考图像和N张待配准图像对应的第二配准图像进行融合处理,得到目标对应的目标图像。
[0006]本方案中,上述配准步骤后,并未直接对N张第一配准图像进行融合处理,而是根据N张第一配准图像的配准对象与参考图像的配准对象之间的差异值,调整N张第一配准图像中差异值满足第一条件的配准对象的参考权重。在参考权重的影响下,不同差异值的配准对象对融合结果的影响程度不同。比如在一种实现方式下,差异值越大的配准对象(或者是配准区域)的参考权重越小,那么对融合结果的影响程度小;差异值越小的配准对象的参考权重越大,那么对融合结果的影响程度越大。这样可以调整不同区域在图像过程中对融合结果的重要程度,来降低未配准的对象(或者是区域)在图像融合过程中的负面影响,从而改善融合后的图像清晰度回退的问题,使得图像处理效果更好。
[0007]在第一方面的另一种可能的设计方式中,配准对象包括第一像素点;上述针对N张待配准图像中任一待配准图像对应的第一配准图像,根据第一配准图像的配准对象与参考
图像的配准对象之间的差异值,调整第一配准图像中差异值满足第一条件的配准对象的参考权重,得到待配准图像对应的第二配准图像,包括:
[0008]构建第一掩膜mask矩阵,第一掩模mask矩阵包括多个元素,第一掩膜mask矩阵中的元素表示第一配准图像中的第一像素点与参考图像中的第一像素点的差异值;根据差异值,调整第一配准图像中的每个第一像素点的参考权重,构建第二掩膜mask矩阵,第二掩膜mask矩阵中的元素表示第一配准图像中的第一像素点的参考权重,其中参考权重用于描述第一配准图像中的第一像素点在与参考图像中的第一像素点进行融合处理时的参考度大小;根据第一配准图像与第二掩膜mask矩阵的乘积值,以及参考图像与第三掩模mask矩阵的乘积值的和,得到第二配准图像,其中,第三掩模mask矩阵是第二掩模mask矩阵的同阶单位矩阵与第二掩模mask矩阵的差值。
[0009]该设计方式下,利用第一配准图像与参考图像之间的差异信息,构建与差异信息相关的第二掩膜mask矩阵。第二掩模mask矩阵中的每个元素相当于第一配准图像中的每个配准对象的像素信息的参考权重。具体的,根据第一配准图像的每个配准对象的差异值构建第一掩膜mask矩阵,第一掩模mask矩阵中的一个元素表示一个配准对象的差异值。其中配准对象可以是一个像素点,或者是一组像素点集合。当配准对象是一组像素点集合时,配准对象的差异值可以是一组像素点的差异值和的均值、中位数或最大值等。
[0010]在构建第一掩模mask矩阵之后,以第一掩模mask矩阵的元素a11为例,将元素a11替换为元素a11所对应的配准对象的参考权重a

11,其他第一掩模mask矩阵的其它元素也同上处理,从而得到新的矩阵,即第二掩模mask矩阵。
[0011]以第一配准图像*第二掩模mask矩阵+参考图像*(同阶单位矩阵

第二掩模mask矩阵)得到第二配准图像。其中,同阶单位矩阵与第二掩模mask矩阵的差值相当于上文中第三掩模mask矩阵。
[0012]在第一方面的另一种可能的设计方式中,上述根据差异值,调整第一配准图像中的每个第一像素点的参考权重,包括:
[0013]针对第一配准图像中的任一个第一像素点,在第一像素点与参考图像中的第二像素点的差异值大于或等于预设阈值的情况下,将第一配准图像的第二像素点的参考权重设为预设权重值集合中的最小值,其中,第二像素点是与第一配准图像中的任一个第一像素点相匹配的像素点。
[0014]该设计方式下,如果像素点的差异值大于预设阈值,那么降低该像素点的参考权重。所以将像素点的参考权重设为预设权重值集合中的最小值。预设权重值集合可以是f(x)曲线上的y轴坐标,其中f(x)是以(预设阈值,权重最小值)以及(差异阈值,权重最大值)拟合得到的,例如,预设阈值为10,权重最小值为0,差异阈值为0,权重最大值为1时,根据(10,0)以及(0,1)两个坐标拟合曲线得到f(x)。预设权重值集合是f(x)曲线上的坐标点的y轴坐标。
[0015]在第一方面的另一种可能的设计方式中,上述根据差异值,调整第一配准图像中的每个第一像素点的参考权重,包括:
[0016]针对第一配准图像中的任一个第一像素点,在第一像素点与参考图像的第二像素点的差异值小于预设阈值的情况下,将第一配准图像的第一像素点的参考权重设为与差异值呈反相关的值,其中,第二像素点是与第一配准图像中的任一个第一像素点相匹配的像
素点。
[0017]该设计方式下,如果差异值小于预设阈值,表示第一配准图像中的像素点的像素信息可以作为影响融合结果的因素,因而保留这些像素点的参考权重。且为了呈现差异值越大,参考权重越小;差异值越小,参考权重越大的效果,将像素点的参考权重设为与该像素点的差异值呈反相关的值。比如上文提到f(x)就是一条反相关函数曲线,可以将像素点的差异值代入曲线的x轴坐标,将得到的y轴坐标作为该像素点的参考权重。
[0018]在第一方面的另一种可能的设计方式中,第一条件包括:第一配准图像的配准对象与参考图像的配准对象之间的灰度差大于0。
[0019]其中,灰度差等于0,表示第一配准图像和配准对象和参考图像的本文档来自技高网
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种图像处理方法,其特征在于,应用于电子设备,所述方法包括:获取目标对象对应的多张图像,其中,所述多张图像包括参考图像和N张待配准图像,N为大于0的整数;针对所述N张待配准图像中的任一待配准图像,根据第一像素点从所述参考图像到所述待配准图像上的位置映射关系,对所述待配准图像中的所述第一像素点进行位置变换,得到所述待配准图像对应的第一配准图像,其中,所述第一像素点是所述参考图像和所述待配准图像相匹配的像素点;针对所述N张待配准图像中任一待配准图像对应的第一配准图像,根据所述第一配准图像的配准对象与所述参考图像的配准对象之间的差异值,调整所述第一配准图像中所述差异值满足第一条件的配准对象的参考权重,得到所述待配准图像对应的第二配准图像;对所述参考图像和N张所述待配准图像对应的第二配准图像进行融合处理,得到所述目标对应的目标图像。2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述配准对象包括第一像素点;所述针对所述N张待配准图像中任一待配准图像对应的第一配准图像,根据所述第一配准图像的配准对象与所述参考图像的配准对象之间的差异值,调整所述第一配准图像中所述差异值满足第一条件的配准对象的参考权重,得到所述待配准图像对应的第二配准图像,包括:构建第一掩膜mask矩阵,所述第一掩模mask矩阵包括多个元素,所述第一掩膜mask矩阵中的元素表示所述第一配准图像中的第一像素点与所述参考图像中的所述第一像素点的差异值;根据所述差异值,调整所述第一配准图像中的每个第一像素点的参考权重,构建第二掩膜mask矩阵,所述第二掩膜mask矩阵中的元素表示所述第一配准图像中的第一像素点的参考权重,其中所述参考权重用于描述所述第一配准图像中的第一像素点在与所述参考图像中的第一像素点进行融合处理时的参考度大小;根据所述第一配准图像与所述第二掩膜mask矩阵的乘积值,以及所述参考图像与第三掩模mask矩阵的乘积值的和,得到第二配准图像,其中,所述第三掩模mask矩阵是所述第二掩模mask矩阵的同阶单位矩阵与所述第二掩模mask矩阵的差值。3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述根据所述差异值,调整所述第一配准图像中的每个第一像素点的参考权重,包括:针对所述第一配准图像中的任一个第一像素点,在所述第一像素点与所述参考图像中的第...

【专利技术属性】
技术研发人员:王振兴荀潇阳张宁肖斌
申请(专利权)人:荣耀终端有限公司
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1