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光学玻璃、以及压制成型用玻璃料、光学元件坯料、光学元件和它们的制造方法技术

技术编号:3952917 阅读:122 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及光学玻璃、以及压制成型用玻璃料、光学元件坯料、光学元件和它们的制造方法。对于所述光学玻璃,按氧化物换算的玻璃组成中,相对于除了Fe2O3、SnO2和Sb2O3之外的玻璃质量,含有2~50质量%的B2O3和10~60质量%的La2O3,并且TiO2含量为0~1质量%,WO3含量为0~4质量%,其中,含有换算成Fe2O3为大于0ppm且为20ppm以下的Fe,并且额外含有0.01~3质量%的SnO2和0~0.1质量%的Sb2O3。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及适合作为各种光学元件用材料的光学玻璃。另外,本专利技术还涉及由上述光学玻璃构成的压制成型用玻璃料、光学元件坯料、光 学元件以及它们的制造方法。
技术介绍
透镜、棱镜等用作光学元件用的材料的光学玻璃要求具有高的透明性,即着色少。关于降低玻璃的着色,例如日本特开2007-112697号公报提出了添加Sb203和/或 As203以降低含有Ti02的硼酸盐系的光学玻璃的着色的方案。
技术实现思路
上述日本特开2007-112697号公报中公开了涉及降低含有Ti02的玻璃的着色的 技术。与此相对,根据本专利技术人的研究可知,对于硼酸镧系玻璃,即使降低Ti02含量且制成 不含Ti02的玻璃时,也有玻璃发生着色的情况,并且日本特开2007-112697号公报所公开 的技术并不能充分抑制这种着色。因此,本专利技术的目的在于提供减少了着色的硼酸镧系玻璃。为了实现上述目的,本专利技术人反复进行了深入研究,结果得到了下述认知。日本特开2007-112697号公报中,对玻璃的着色机制,其记载了如下内容对于网 络形成成分少且含有大量Ti02的硼酸盐系玻璃,Ti离子导致的显色功能增高是玻璃着色的 原因。但是,根据本专利技术人的研究可知,对于高折射率低分散的硼酸镧系玻璃,除了日本特 开2007-112697号公报记载的着色机理之外,还存在由Fe引起的在波长360nm 370nm附 近的光吸收增强所致的着色机制。即,即使降低Ti02含量,对于日本特开2007-112697号 公报所述的技术,仍存在难以抑制着色的组成体系。因此,本专利技术人基于上述认知进一步进行了反复研究,结果发现,通过添加预定量 的Sn02,能够降低上述组成体系的着色,从而完成了本专利技术。g卩,上述目的通过下述技术方案实现。 一种光学玻璃,按氧化物换算的玻璃组成中,相对于除了 Fe203、Sn02*Sb203之 外的玻璃质量,该光学玻璃含有2 50质量%的B203和10 60质量%的La203,并且Ti02 含量为0 1质量%,W03含量为0 4质量%,其中,含有换算成Fe203为大于Oppm且为 20ppm以下的Fe,并且额外含有0. 01 3质量%的Sn02和0 0. 1质量%的Sb203。如上述技术方案所述的光学玻璃,其中,以相对于除了 Fe203、Sn0dn Sb203 之外的玻璃质量的质量%表示,按氧化物换算的玻璃组成中含有如下成分B2032 一 50%,Si020 --30%,La20310 ‘ 60%,4Gd203Y203Ta205Nb205Ti02W03Zr02ZnO0 30%、 0 20%、 0 19%、 0 20%、 0 1%、 0 4%、 0 15%、 0 40%、BaO、SrO、CaO 和 MgO 的总量 0 30%。如上述技术方案或所述的光学玻璃,其中,按Fe203换算,含有 0. 05ppm 20ppm 的 Fe。如上述技术方案或所述的光学玻璃,其中,在波长200 700nm的范 围,对于lOnm厚度,外部透过率为70%的波长X 70为400nm以下。 一种压制成型用玻璃料,其由上述技术方案 中的任一项所述的光学 玻璃构成。 一种光学元件坯料,其由上述技术方案 中的任一项所述的光学玻璃 构成。 一种光学元件,其由上述技术方案 中的任一项所述的光学玻璃构 成。 一种压制成型用玻璃料的制造方法,其中,将上述技术方案 中的任 一项所述的光学玻璃成型为压制成型用玻璃料。 一种光学元件坯料的制造方法,其中,在通过加热使上述技术方案所述的 压制成型用玻璃料软化的状态下,使用压制成型模具进行压制成型,由此制作光学元件坯 料。 一种光学元件坯料的制造方法,其中,通过上述技术方案所述的方法制 作压制成型用玻璃料,在通过加热使所制作的压制成型用玻璃料软化的状态下,使用压制 成型模具进行压制成型,由此制作光学元件坯料。 一种光学元件的制造方法,其中,通过对上述技术方案所述的光学元件 坯料进行研削和/或研磨来制作光学元件。 一种光学元件的制造方法,其中,通过上述技术方案所述的方法制作光 学元件坯料,对所制作的光学元件坯料进行研削和/或研磨,由此制作光学元件。 一种光学元件的制造方法,其中,在通过加热使上述技术方案所述的压 制成型用玻璃料软化的状态下,使用压制成型模具进行精密压制成型,由此制作光学元件。 一种光学元件的制造方法,其中,通过上述技术方案所述的方法制作压 制成型用玻璃料,在通过加热使所制作的压制成型用玻璃料软化的状态下,使用压制成型 模具进行精密压制成型,由此制作光学元件。根据本专利技术,能够提供着色得以降低的高折射率低分散硼酸镧系光学玻璃以及由 所述光学玻璃构成的压制成型用玻璃料、光学元件坯料、光学元件和它们的制造方法。具体实施例方式本专利技术涉及一种光学玻璃,按氧化物换算的玻璃组成中,相对于除了 Fe203、Sn02* Sb203之外的玻璃质量,其含有2 50质量%的B203和10 60质量%的La203。本专利技术的 光学玻璃的Ti02含量为0 1质量%,W03含量为0 4质量%,含有换算成Fe203为大于 Oppm且为20ppm以下的Fe,并且额外含有0. 01 3质量%的Sn02和0 0. 1质量%的 Sb203。本专利技术中,“按氧化物换算的玻璃组成”是指按照玻璃原料在熔融时全部被分解而 在光学玻璃中以氧化物形式存在的物质进行换算所得到的玻璃组成。另外,本专利技术中,“额 外”是指以按氧化物换算的玻璃组成中除去Fe203、Sn02和Sb203之外的玻璃质量为100%时 的相对质量%。另外,换算成Fe203的Fe的含量方面,用ppm单位表示其相对于包括Fe203、 Sn02和Sb203的玻璃总质量的含量。按氧化物换算的玻璃组成中,相对于除了 Fe203、Sb203之外的玻璃质量, 含有2 50质量%的B203和10 60质量%的La203的光学玻璃能够在维持低分散性 的同时提高折射率。根据本专利技术人的研究,上述组成体系中,即使减少Ti02,Fe引起的 在波长360nm 370nm附近的光吸收增强也会导致发生着色。另一方面,上述的日本特 开2007-112697号公报所述的技术是抑制Ti引起的着色的技术,所以难以通过日本特开 2007-112697号公报所述的技术来减少上述的Fe引起的着色。与此相对,本专利技术的光学玻璃含有Sn化合物作为必要成分,由此能够抑制上述着 色。以Sn02换算,其额外含量在0.01 3质量%的范围。上述含量不足0.01质量%时,难 以得到足够的抑制着色的效果,而大于3质量%时,产生未熔融物。不能得到均质的玻璃。 从兼具玻璃的均质化和减少着色的方面考虑,上述含量优选为0. 01 2质量%、更优选在 0.01 1质量%的范围。另外,本专利技术的光学玻璃含有作为选择性成分的Sb化合物。以Sb203换算,其额外 含量的范围为0 0. 1质量%。上述含量大于0. 1质量%时,不能充分得到添加Sn化合物 所带来的抑制着色的效果。另外,还会引发如下问题构成熔融容器或者构成流通熔融玻璃 的管的钼等耐热性金属或者耐热性合金被侵蚀,以金属离子的形式熔入玻璃,从而使玻璃 着色增强,或者侵蚀物以杂质的形式混入到玻璃中而成为光的散射源,等等。上述含量优选 为本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学玻璃,按氧化物换算的玻璃组成中,相对于除了Fe↓[2]O↓[3]、SnO↓[2]和Sb↓[2]O↓[3]之外的玻璃质量,含有2~50质量%的B↓[2]O↓[3]和10~60质量%的La↓[2]O↓[3],并且TiO↓[2]含量为0~1质量%,WO↓[3]含量为0~4质量%,其中,含有换算成Fe↓[2]O↓[3]为大于0ppm且为20ppm以下的Fe,并且额外含有0.01~3质量%的SnO↓[2]和0~0.1质量%的Sb↓[2]O↓[3]。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:金山雄之进
申请(专利权)人:HOYA株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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