反应设备制造技术

本申请涉及一种反应设备，所述反应设备包括：机架，机架限定出反应腔，反应腔内设置有支撑架，支撑架上设有至少一个放置部，放置部的底部具有避让口；调整机构，调整机构包括至少一个推动部，推动部用于推动产品沿第一方向移动，推动部至少具有沿第一方向排列的第一位置和第二位置，推动部在第一位置和第二位置之间移动形成的轨迹穿过避让口；驱动结构，驱动结构设于机架上，驱动结构与推动部传动连接以驱动推动部移动。根据本实用新型专利技术的反应设备，能够避免在玻璃化学抛光过程中留下印迹，节省了后续加工打磨的步骤。后续加工打磨的步骤。后续加工打磨的步骤。

【技术实现步骤摘要】
反应设备


[0001]本申请涉及抛光
，尤其涉及一种反应设备。

技术介绍

[0002]化抛即化学抛光，利用化学试剂与玻璃进行化学反应，将玻璃均匀咬蚀到一定的深度，造成玻璃表面雾化达到一定光学效果的制程。特别地，针对玻璃产品，化学抛光利用氢氟酸溶液和氢氧化钠溶液的化学腐蚀作用，使玻璃表面达到光滑。在化抛液中还添加了一些添加剂，使盐类溶解或使盐类缓慢溶解成细微粒。
[0003]现有的化学蚀刻中，通常将玻璃垂直插在架子里面，整个架子放进溶液中，设定一定的温度、时间，保证溶液的药水浓度，最后达到蚀刻的效果，但是玻璃和架子接触的地方会阻碍化学反应的发生，导致这个地方比其它地方高，显现出架子印。尤其是3D产品，与其架子接触的点和面较多，产品非常的薄，化抛后不能进行机械抛光修复，显现出来的架子印无法解决。

技术实现思路

[0004]本技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本技术提出一种反应设备，所述反应设备能够避免在玻璃化学抛光过程中留下架子印，节省了后续进行加工打磨的步骤，节省了成本，简化了工序，缩短了加工时长。
[0005]根据本技术的反应设备，包括：机架，机架限定出反应腔，反应腔内设置有支撑架，支撑架上设有至少一个放置部，放置部的底部具有避让口；调整机构，调整机构包括至少一个推动部，推动部用于推动产品沿第一方向移动，推动部至少具有沿第一方向排列的第一位置和第二位置，推动部在第一位置和第二位置之间移动形成的轨迹穿过避让口；驱动结构，驱动结构设于机架上，驱动结构与推动部传动连接以驱动推动部移动。
[0006]根据本技术的反应设备，推动部包括基座，基座上设有至少两根推杆，任意两个推杆的固接端之间的距离小于两个推杆的自由端之间的距离。
[0007]可选地，推杆的上表面设有导向斜面，在沿推杆的自靠近基座的一端至远离基座的一端的方向上，导向斜面逐渐朝向靠近机架底部的方向倾斜。
[0008]根据本技术的反应设备，驱动结构还包括驱动部以及导向连接组件，驱动部通过导向连接组件与调整机构相连。
[0009]可选地，导向连接组件包括限位件，限位件用于限定调整机构在第一方向上的最低位置。
[0010]可选地，导向连接组件包括连接件和导向杆，导向杆沿第一方向延伸，连接件连接驱动部和推动部，连接件可活动地套设于导向杆上。
[0011]可选地，放置部包括多个，多个放置部沿第二方向排列，任意相邻的两个放置部之间设有间隔，间隔沿第一方向贯穿支撑架，放置部包括底板以及沿第三方向相对设置于底板上的第一挡板，底板上设有避让口，沿第二方向，底板的远离推动部的一侧设有第二挡
板，第一挡板和/或第二挡板上设有第一进液口，第一挡板、第二挡板以及底板共同限定出放置位，第一方向、第二方向以及第三方向两两垂直。
[0012]可选地，第二挡板包括第一子板和第二子板，第一子板和第二子板间隔设置以间隔出第一进液口。
[0013]可选地，两个第一挡板彼此靠近的一侧均设有凸筋，凸筋沿第一方向延伸。
[0014]可选地，调整机构还包括立柱，立柱可活动地穿设于间隔中，立柱的第一端与连接件连接，立柱的第二端与推动部连接，第二方向垂直于第一方向，连接件包括相互连接的第一连接部和第二连接部，第一连接部位于驱动部和第二连接部之间。
[0015]根据本技术的反应设备，当反应设备运行使用时，第一方向为上下方向，反应腔内用于盛放化学溶液，用于与产品发生化学反应从而对产品进行加工，驱动部驱动推动部在第一位置和第二位置之间往复移动，驱动部为推动部的移动提供动力，例如，第一位置在第二位置之上(第二位置在第一位置之上同理)，在推动部带动产品由第二位置向第一位置处移动时，产品的一端随着推动部上升，另一端在放置部上移动，在推动部带动产品由第一位置处向第二位置处移动时，推动部下降时，产品一侧受到溶液的浮力会与推动部分离，产品的另一侧会在浮力的作用下抬起，从而使得整个产品与放置部之间无接触，产品在溶液中漂浮着缓慢下降，当下降到放置部处时，推动部即上升再次把产品的一侧抬起，依次循环，从而使得在整个反应的过程中，产品与放置部无固定接触点，较长时间处于漂浮状态中，进而防止在产品上留下印迹，节省了后续进行加工打磨的步骤，节省了成本，简化了工序，缩短了加工时长。
附图说明
[0016]此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本技术的实施例，并与说明书一起用于解释本技术的原理。
[0017]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0018]图1为根据本技术实施例的反应设备的立体图；
[0019]图2为图1中A处的放大图；
[0020]图3为根据本技术实施例的反应设备的俯视图；
[0021]图4为图3中B处的放大图；
[0022]图5为根据本技术实施例的反应设备的正视图；
[0023]图6为根据本技术实施例的反应设备的调整机构的立体图；
[0024]图7为根据本技术实施例的反应设备的推动部处于第二位置时的示意图；
[0025]图8为根据本技术实施例的反应设备的推动部处于第一位置时的示意图；
[0026]图9为根据本技术实施例的反应设备的局部结构的立体图。
[0027]附图标记：
[0028]反应设备1，机架10，反应腔11，支撑架12，第二进液口121，放置部13，避让口14，底板15，第一挡板16，凸筋161，第二挡板17，第一进液口171，第一子板172，第二子板173，调整机构20，推动部21，推杆211，导向斜面212，立柱22，基座23，驱动结构30，连接件31，第一连
接部311，第二连接部312，导向杆32，驱动部33，导向连接组件34，限位件35，
[0029]产品2。
具体实施方式
[0030]为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
[0031]如图1、图2、图7以及图8所示，根据本技术实施例的反应设备1，包括：机架10、支撑架12、调整机构20以及驱动结构30。
[0032]具体地，机架10限定出反应腔11，反应腔11内设置有支撑架12上设有至少一个放置部13，放置部13具有避让口14，放置部13用于放置待加工的产品2；调整机构20包括至少一个推动部21，推动部21可移动地设于反应腔11内，推动部21用于推动产品2沿第一方本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种反应设备，其特征在于，包括：机架(10)，所述机架(10)限定出反应腔(11)，所述反应腔(11)内设置有支撑架(12)，所述支撑架(12)上设有至少一个放置部(13)，所述放置部(13)具有避让口(14)；调整机构(20)，所述调整机构(20)包括至少一个推动部(21)，所述推动部(21)用于推动产品(2)沿第一方向移动，所述推动部(21)至少具有沿第一方向排列的第一位置和第二位置，所述推动部(21)在所述第一位置和所述第二位置之间移动形成的轨迹穿过所述避让口(14)；驱动结构(30)，所述驱动结构(30)设于所述机架(10)上，所述驱动结构(30)与所述推动部(21)传动连接以驱动所述推动部(21)移动。2.根据权利要求1所述的反应设备，其特征在于，所述推动部(21)包括基座(23)，所述基座(23)上设有至少两根推杆(211)，任意两个所述推杆(211)的固接端的距离小于两个所述推杆(211)的自由端之间的距离。3.根据权利要求2所述的反应设备，其特征在于，所述推杆(211)的上表面设有导向斜面(212)，在沿所述推杆(211)的自靠近所述基座(23)的一端至远离所述基座(23)的一端的方向上，所述导向斜面(212)逐渐朝向靠近机架(10)底部的方向倾斜。4.根据权利要求1所述的反应设备，其特征在于，所述驱动结构(30)还包括驱动部(33)以及导向连接组件(34)，所述驱动部(33)通过所述导向连接组件(34)与所述调整机构(20)相连。5.根据权利要求4所述的反应设备，其特征在于，所述导向连接组件(34)包括限位件(35)，所述限位件(35)用于限定所述调整机构(20)在所述第一方向上的最低位置。6.根据权利要求5所述的反应设备，其特征在于，所述导向连接组件(34)包括连接件(31)和导向杆(32)，所述导向杆(32)沿...

【专利技术属性】
技术研发人员：姜富有，彭思华，左燕红，
申请(专利权)人：蓝思科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：