一种半导体清洗剂生产过程中使用的反应釜制造技术

本实用新型专利技术公开了一种半导体清洗剂生产过程中使用的反应釜，包括釜体：所述釜体的上侧固定连接有电机，所述釜体的外侧固定连接有固定进料管，所述釜体左右两端的外侧均固定连接有平台，所述平台的下侧固定连接有支撑杆，所述平台的上侧设置有输料单元，所述输料单元包括多个限位板，多个所述限位板固定连接在平台的上侧，所述限位板的外侧转动连接有转轴，所述转轴的外端固定连接有量筒，所述量筒的数量有多个

【技术实现步骤摘要】
一种半导体清洗剂生产过程中使用的反应釜


[0001]本技术涉及反应釜
，特别涉及一种半导体清洗剂生产过程中使用的反应釜
。

技术介绍

[0002]一般使用到的半导体水机清洁剂主要是进行外表面污染，不然白蜡
、
油脂的基础清洁，还有外表沾污的金属原子和金属离子的清洁等
。
同时在半导体的分离器材中，也可以地带传统半导体的清洁液，可以保证清洁效果满足日常生产加工的需要
。
在生产半导体清洗剂需要使用到反应釜对多种液体与固体进行混合
。
[0003]经检索，申请号为“202211613754.5”，提供了一种半导体硅晶圆片打磨清洗剂混合反应釜，需要添加液体原料时，操作人员将单种液体原料倾倒进量筒7内后，液体原料在添加过程中，操作人员可以通过量筒7前端的刻度判断量筒7内已添加的液体原料的量，液体原料添加完一定的量后，再将量筒7与连通管6之间的阀门打开，量筒7与连通管6之间就处于相连通的状态，然后再开启水泵3，在水泵3的作用下，就可通过进料管
16
进入混合反应釜体
10
内
。
[0004]上述在添加液体原料时，通过单个量筒将单种液体原料添加到反应釜中，当需要添加多种液体原料时，需要等待单个液体添加好再进行添加，便于精准控制液体的量，若多种液体均使用一个量筒进行传输，容易使不同液体中的杂质混合在一起，影响到下一次使用
。

技术实现思路

[0005]为了克服现有技术中使用单个量筒输送多个液体原料需要注意输送，输送速度慢的不足，本技术的目的之一在于提供一种半导体清洗剂生产过程中使用的反应釜
。
[0006]本技术的目的之一采用如下技术方案实现：一种半导体清洗剂生产过程中使用的反应釜，包括釜体：所述釜体的上侧固定连接有电机，所述釜体的外侧固定连接有固定进料管，所述釜体左右两端的外侧均固定连接有平台，所述平台的下侧固定连接有支撑杆，所述平台的上侧设置有输料单元；
[0007]所述输料单元包括多个限位板，多个所述限位板固定连接在平台的上侧，所述限位板的外侧转动连接有转轴，所述转轴的外端固定连接有量筒，所述量筒的数量有多个，多个所述量筒的下侧固定连接有出料管，多个所述出料管之间固定连接有连接管，所述连接管的外侧固定连接有输出管，所述输出管的外侧固定连接有水泵，所述釜体的上侧固定连接有液体进料管，所述输出管的上端与液体进料管的上侧固定连接
。
[0008]根据所述的一种半导体清洗剂生产过程中使用的反应釜，所述连接管的外侧设置有流量阀
。
便于控制量筒中液体的流量
。
[0009]根据所述的一种半导体清洗剂生产过程中使用的反应釜，多个所述转轴的左端的外侧固定连接有转盘，两个所述转盘之间设置有传送带
。
便于控制多个转轴同时转动
。
[0010]根据所述的一种半导体清洗剂生产过程中使用的反应釜，其中一个所述转轴的外侧固定连接有固定环，所述固定环的外侧固定连接有卡块，所述限位板上下两端的外侧均固定连接有固定块，所述固定块的外侧固定连接有两个限位块
。
便于对转轴进行限位
。
[0011]根据所述的一种半导体清洗剂生产过程中使用的反应釜，中部所述转轴的外侧固定连接有转把
。
[0012]根据所述的一种半导体清洗剂生产过程中使用的反应釜，所述水泵与釜体固定连接
。
[0013]有益效果：
[0014]1、
通过设置有多个限位块
、
多个转轴
、
多个量筒
、
连接管
、
输出管与水泵，便于同时将多种原料同时输入到釜体中进行混合，并通过流量阀对量筒中的流量进行控制，相比于单个量筒输料，输料速度更快
。
[0015]2、
通过设置有转轴
、
转盘
、
传送带
、
固定环
、
固定块与限位块，便于控制多个量筒同时倾斜，方便后期对多个量筒内部进行清洗
。
[0016]本技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本技术的实践了解到
。
附图说明
[0017]下面结合附图和实施例对本技术进一步地说明；
[0018]图1为本技术一种半导体清洗剂生产过程中使用的反应釜的整体立体结构图；
[0019]图2为本技术一种半导体清洗剂生产过程中使用的反应釜另一视角的立体结构图；
[0020]图3为图1中
A
处的放大图；
[0021]图4为图2中
B
处的放大图
。
[0022]图例说明：
[0023]1、
釜体；
2、
电机；
3、
固定进料管；
4、
平台；
5、
支撑杆；
6、
输料单元；
601、
限位板；
602、
转轴；
603、
量筒；
604、
出料管；
605、
连接管；
606、
流量阀；
607、
输出管；
608、
水泵；
609、
液体进料管；
610、
转盘；
611、
传送带；
612、
固定环；
613、
卡块；
614、
固定块；
615、
限位块
。
具体实施方式
[0024]本部分将详细描述本技术的具体实施例，本技术之较佳实施例在附图中示出，附图的作用在于用图形补充说明书文字部分的描述，使人能够直观地
、
形象地理解本技术的每个技术特征和整体技术方案，但其不能理解为对本技术保护范围的限制
。
[0025]参照图1‑4，本技术实施例一种半导体清洗剂生产过程中使用的反应釜，包括釜体1：釜体1的上侧固定连接有电机2，釜体1的外侧固定连接有固定进料管3，釜体1左右两端的外侧均固定连接有平台4，平台4的下侧固定连接有支撑杆5，平台4的上侧设置有输料单元6，其中平台4的上侧放置有半导体清洗剂生产时使用的物料，釜体1中设置有转杆与搅拌板，便于控制多种原料进行搅拌
。
[0026]输料单元6包括多个限位板
601
，多个限位板
601
固定连接在平台4的上侧，限位板
601
的外侧转动连接有转轴
602
，转轴
602
的外端固定连接有量筒
603
，量筒
603
的数量有多个，多个本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种半导体清洗剂生产过程中使用的反应釜，其特征在于，包括釜体
(1)
：所述釜体
(1)
的上侧固定连接有电机
(2)
，所述釜体
(1)
的外侧固定连接有固定进料管
(3)
，所述釜体
(1)
左右两端的外侧均固定连接有平台
(4)
，所述平台
(4)
的下侧固定连接有支撑杆
(5)
，所述平台
(4)
的上侧设置有输料单元
(6)
；所述输料单元
(6)
包括多个限位板
(601)
，多个所述限位板
(601)
固定连接在平台
(4)
的上侧，所述限位板
(601)
的外侧转动连接有转轴
(602)
，所述转轴
(602)
的外端固定连接有量筒
(603)
，所述量筒
(603)
的数量有多个，多个所述量筒
(603)
的下侧固定连接有出料管
(604)
，多个所述出料管
(604)
之间固定连接有连接管
(605)
，所述连接管
(605)
的外侧固定连接有输出管
(607)
，所述输出管
(607)
的外侧固定连接有水泵
(608)
，所述釜体
(1)
的上侧固...

【专利技术属性】
技术研发人员：封晓猛，
申请(专利权)人：江苏科沃泰材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：