【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体清洗剂电解装置,特别涉及一种用于验证半导体清洗剂效果的ec电解装置。
技术介绍
1、半导体水基清洗剂主要用于清洗表面沾污有石蜡、油脂和油脂类以及表面沾污有金属原子和金属离子等。在和中、中能够完全代替传统半导体清洗工艺中使用的清洗液;电解工业,主要是利用一电解槽中设置阴极板与阳极板,然后对阴极板与阳极板进行通电借以对电解液(如:水、食盐水等)进行电解,以取得电解后的产物(如:氢气、氧气或二氧化氯等),且可于电槽中设置隔膜以将阴极与阳极所生得的产物隔离,借以提高电解产物的纯度。
2、电解作业对阴极板与阳极板进行通电以进行电解作业,而于通电,电解时其会于阴极板产生热能,使电解槽中电解槽内的温度随之升高,其除了容易造成电解产物的温度升高使产物的质量下降外,同时电解池内电解液的温度过高,进而降低电解效益而使电解产物减少,且很容易因此造成阴极板与阳极板的损坏,从而造成使用不便。
技术实现思路
1、本技术的目的在于,提供一种用于验证半导体清洗剂效果的ec电解装置,降温槽内部冷却气体进行流通操作,流通至冷却槽的内部,对电解池进行冷却操作,冷却降低阴极因通电所产生的温度,提高电解效益。
2、为实现上述目的,提供一种用于验证半导体清洗剂效果的ec电解装置,包括:电解装置主体,所述电解装置主体的内部设置有电解池,所述电解池和电解装置主体之间开设有冷却槽,所述冷却槽的底端设置有降温槽,所述降温槽的内部上方两侧均固定连接有限位块,所述限位块的内部贯穿有冷却管;
...【技术保护点】
1.一种用于验证半导体清洗剂效果的EC电解装置,其特征在于,包括:电解装置主体(1),所述电解装置主体(1)的内部设置有电解池(7),所述电解池(7)和电解装置主体(1)之间开设有冷却槽(9),所述冷却槽(9)的底端设置有降温槽(12),所述降温槽(12)的内部上方两侧均固定连接有限位块(13),所述限位块(13)的内部贯穿有冷却管(17);
2.根据权利要求1所述的一种用于验证半导体清洗剂效果的EC电解装置,其特征在于,所述驱动电机(14)的驱动端固定连接有扇片(15),所述扇片(15)的上方降温槽(12)内固定连接有进气网。
3.根据权利要求1所述的一种用于验证半导体清洗剂效果的EC电解装置,其特征在于,所述冷却管(17)的两端均固定连接有循环管(6),所述循环管(6)的一端插接有冷却水箱(4)。
4.根据权利要求3所述的一种用于验证半导体清洗剂效果的EC电解装置,其特征在于,所述冷却水箱(4)的一侧固定连接有半导体制冷片(5)。
5.根据权利要求1所述的一种用于验证半导体清洗剂效果的EC电解装置,其特征在于,所述电解池(7)的
6.根据权利要求1所述的一种用于验证半导体清洗剂效果的EC电解装置,其特征在于,所述冷却槽(9)和降温槽(12)之间固定连接有回流管(10)。
7.根据权利要求6所述的一种用于验证半导体清洗剂效果的EC电解装置,其特征在于,所述回流管(10)的中部固定连接有气体交换管(11)。
8.根据权利要求6所述的一种用于验证半导体清洗剂效果的EC电解装置,其特征在于,所述回流管(10)的一端开设有进气口(16)。
...【技术特征摘要】
1.一种用于验证半导体清洗剂效果的ec电解装置,其特征在于,包括:电解装置主体(1),所述电解装置主体(1)的内部设置有电解池(7),所述电解池(7)和电解装置主体(1)之间开设有冷却槽(9),所述冷却槽(9)的底端设置有降温槽(12),所述降温槽(12)的内部上方两侧均固定连接有限位块(13),所述限位块(13)的内部贯穿有冷却管(17);
2.根据权利要求1所述的一种用于验证半导体清洗剂效果的ec电解装置,其特征在于,所述驱动电机(14)的驱动端固定连接有扇片(15),所述扇片(15)的上方降温槽(12)内固定连接有进气网。
3.根据权利要求1所述的一种用于验证半导体清洗剂效果的ec电解装置,其特征在于,所述冷却管(17)的两端均固定连接有循环管(6),所述循环管(6)的一端插接有冷却水箱(4)。
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【专利技术属性】
技术研发人员:封晓猛,
申请(专利权)人:江苏科沃泰材料科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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