用于光电器件的有机分子制造技术

发明专利技术涉及一种有机分子，具体地，用于应用在光电器件中的有机分子

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于光电器件的有机分子


[0001]专利技术涉及有机分子以及有机分子在有机发光二极管
(OLED)
中和在其它光电器件中的应用
。

技术实现思路

[0002]本专利技术的目的在于提供适用于在光电器件中使用的有机分子
。
[0003]该目的通过提供了一种新型的有机分子的专利技术来实现
。
[0004]根据专利技术，有机分子是纯有机分子，即，与已知用于光电器件中的金属配合物相比，有机分子不包含任何金属离子
。
[0005]根据本专利技术，有机分子在蓝色光谱范围或天蓝色光谱范围以及绿色光谱范围内表现出发射最大值
。
具体地，有机分子在
420nm
与
540nm
之间
(
具体地，在
420nm
与
520nm
之间，优选地在
440nm
与
495nm
之间，更优选地在
450nm
与
470nm
之间
)
表现出发射最大值
。
具体地，根据专利技术的有机分子的光致发光量子产率是
50
％或更大
。
在光电器件
(
例如，有机发光二极管
(OLED))
中使用根据专利技术的有机分子导致光电器件的较高的效率或由发射的半峰全宽
(FWHM)
表示较高的色纯度
。
对应的<br/>OLED
具有比具有已知的发射体材料的
OLED
高的稳定性和相当的颜色
。
具有发光层的
OLED
具有高稳定性，发光层包括专利技术的有机分子以及主体材料
(
具体地，三重态
‑
三重态
‑
湮灭主体材料
)。
[0006]专利技术的有机分子包括式
I
的结构或由式
I
的结构组成：
[0007][0008]其中，
[0009]R
a
在每次出现时独立地选自于由以下组成的组：氢；氘；
N(R5)2；
OR5；
Si(R5)3；
B(OR5)2；
B(R5)2；
OSO2R5；
CF3；
CN
；
F
；
Br
；
I
；
C1‑
C
40
烷基，可选地取代有一个或更多个取代基
R5，并且其中，一个或更多个不相邻的
CH2基团可选地被
R5C
＝
CR5、C≡C、Si(R5)2、Ge(R5)2、Sn(R5)2、C
＝
O、C
＝
S、C
＝
Se、C
＝
NR5、P(
＝
O)(R5)、SO、SO2、NR5、O、S
或
CONR5取代；
C1‑
C
40
烷氧基，可选地取代有一个或更多个取代基
R5，并且其中，一个或更多个不相邻的
CH2基团可选地被
R5C
＝
CR5、C≡C、Si(R5)2、Ge(R5)2、Sn(R5)2、C
＝
O、C
＝
S、C
＝
Se、C
＝
NR5、P(
＝
O)(R5)、SO、SO2、NR5、O、S
或
CONR5取代；
C1‑
C
40
硫代烷氧基，可选地取代有一个或更多个取代基
R5，并且其中，一个或更多个不相邻的
CH2基团可选地被
R5C
＝
CR5、C≡C、Si(R5)2、Ge(R5)2、Sn(R5)2、C
＝
O、C
＝
S、C
＝
Se、C
＝
NR5、P(
＝
O)(R5)、SO、SO2、NR5、O、S
或
CONR5取代；
C2‑
C
40
烯基，可选地取代有一个或更多个取代基
R5，并且其中，一个或更多个不相邻的
CH2基团可选地被
R5C
＝
CR5、C≡C、Si(R5)2、Ge(R5)2、Sn(R5)2、C
＝
O、C
＝
S、C
＝
Se、C
＝
NR5、P(
＝
O)(R5)、SO、SO2、NR5、O、S
或
CONR5取代；
C2‑
C
40
炔基，可选地取代有一个或更多个取代基
R5，并且其中，一个或更多个不相邻的
CH2基团可选地被
R5C
＝
CR5、C≡C、Si(R5)2、Ge(R5)2、Sn(R5)2、C
＝
O、C
＝
S、C
＝
Se、C
＝
NR5、P(
＝
O)(R5)、SO、SO2、NR5、O、S
或
CONR5取代；
C6‑
C
60
芳基，可选地取代有一个或更多个取代基
R5；以及
C2‑
C
57
杂芳基，可选地取代有一个或更多个取代基
R5；
[0010]R5在每次出现时独立地选自于由以下组成的组：氢；氘；
N(R6)2；
OR6；
Si(R6)3；
B(OR6)2；
B(R6)2；
OSO2R6；
CF3；
CN
；
F
；
Br
；
I
；
C1‑
C
40
烷基，可选地取代有一个或更多个取代基
R6，并且其中，一个或更多个不相邻的
CH2基团可选地被
R6C
＝
CR6、C≡C、Si(R6)2、Ge(R6)2、Sn(R6)2、C
＝
O、C
＝
S、C
＝
Se、C
＝
NR6、P(
＝
O)(R6)、SO、SO2、NR6、O、S
或
CONR6取代；
C1‑
C
40
烷氧基，可选地取代有一个或更多个取代基
R6，并且其中，一个或更多个不相邻的
CH2基团可选地被
R6C
＝
CR6、C≡C、Si(R6)2、Ge(R6)2、Sn(R6)2、C
＝
O、C
＝
S、C
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.
一种有机分子，所述有机分子包括由式
I
表示的结构：其中，
R
a
在每次出现时独立地选自于由以下组成的组：氢；氘；
N(R5)2；
OR5；
Si(R5)3；
B(OR5)2；
B(R5)2；
OSO2R5；
CF3；
CN
；
F
；
Br
；
I
；
C1‑
C
40
烷基，可选地取代有一个或更多个取代基
R5，并且其中，一个或更多个不相邻的
CH2基团可选地被
R5C
＝
CR5、C≡C、Si(R5)2、Ge(R5)2、Sn(R5)2、C
＝
O、C
＝
S、C
＝
Se、C
＝
NR5、P(
＝
O)(R5)、SO、SO2、NR5、O、S
或
CONR5取代；
C1‑
C
40
烷氧基，可选地取代有一个或更多个取代基
R5，并且其中，一个或更多个不相邻的
CH2基团可选地被
R5C
＝
CR5、C≡C、Si(R5)2、Ge(R5)2、Sn(R5)2、C
＝
O、C
＝
S、C
＝
Se、C
＝
NR5、P(
＝
O)(R5)、SO、SO2、NR5、O、S
或
CONR5取代；
C1‑
C
40
硫代烷氧基，可选地取代有一个或更多个取代基
R5，并且其中，一个或更多个不相邻的
CH2基团可选地被
R5C
＝
CR5、C≡C、Si(R5)2、Ge(R5)2、Sn(R5)2、C
＝
O、C
＝
S、C
＝
Se、C
＝
NR5、P(
＝
O)(R5)、SO、SO2、NR5、O、S
或
CONR5取代；
C2‑
C
40
烯基，可选地取代有一个或更多个取代基
R5，并且其中，一个或更多个不相邻的
CH2基团可选地被
R5C
＝
CR5、C≡C、Si(R5)2、Ge(R5)2、Sn(R5)2、C
＝
O、C
＝
S、C
＝
Se、C
＝
NR5、P(
＝
O)(R5)、SO、SO2、NR5、O、S
或
CONR5取代；
C2‑
C
40
炔基，可选地取代有一个或更多个取代基
R5，并且其中，一个或更多个不相邻的
CH2基团可选地被
R5C
＝
CR5、C≡C、Si(R5)2、Ge(R5)2、Sn(R5)2、C
＝
O、C
＝
S、C
＝
Se、C
＝
NR5、P(
＝
O)(R5)、SO、SO2、NR5、O、S
或
CONR5取代；
C6‑
C
60
芳基，可选地取代有一个或更多个取代基
R5；以及
C2‑
C
57
杂芳基，可选地取代有一个或更多个取代基
R5；
R5在每次出现时独立地选自于由以下组成的组：氢；氘；
N(R6)2；
OR6；
Si(R6)3；
B(OR6)2；
B(R6)2；
OSO2R6；
CF3；
CN
；
F
；
Br
；
I
；
C1‑
C
40
烷基，可选地取代有一个或更多个取代基
R6，并且其中，一个或更多个不相邻的
CH2基团可选地被
R6C
＝
CR6、C≡C、Si(R6)2、Ge(R6)2、Sn(R6)2、C
＝
O、C
＝
S、C
＝
Se、C
＝
NR6、P(
＝
O)(R6)、SO、SO2、NR6、O、S
或
CONR6取代；
C1‑
C
40
烷氧基，可选地取代有一个或更多个取代基
R6，并且其中，一个或更多个不相邻的
CH2基团可选地被
R6C
＝
CR6、C≡C、Si(R6)2、Ge(R6)2、Sn(R6)2、C
＝
O、C
＝
S、C
＝
Se、C
＝
NR6、P(
＝
O)(R6)、SO、SO2、NR6、O、S
或
CONR6取代；
C1‑
C
40
硫代烷氧基，可选地取代有一个或更多个取代基
R6，并且其中，一个或更多个不相邻的
CH2基团可选地被
R6C
＝
CR6、C≡C、Si(R6)2、Ge(R6)2、Sn(R6)2、C
＝
O、C
＝
S、C
＝
Se、C
＝
NR6、P(
＝
O)(R6)、SO、SO2、NR6、O、S
或
CONR6取代；
C2‑
C
40
烯基，可选地取代有一个或更多个取代基
R6，并且其中，一个或更多个不相邻的
CH2基团可选地被
R6C
＝
CR6、C≡C、Si(R6)2、Ge(R6)2、Sn(R6)2、C
＝
O、C
＝
S、C
＝
Se、C
＝
NR6、P(
＝
O)(R6)、SO、SO2、NR6、O、S
或
CONR6取代；
C2‑
C
40
炔基，
可选地取代有一个或更多个取代基
R6，并且其中，一个或更多个不相邻的
CH2基团可选地被
R6C
＝
CR6、C≡C、Si(R6)2、Ge(R6)2、Sn(R6)2、C
＝
O、C
＝
S、C
＝
Se、C
＝
NR6、P(
＝
O)(R6)、SO、SO2、NR6、O、S
或
CONR6取代；
C6‑
C
60
芳基，可选地取代有一个或更多个取代基
R6；以及
C2‑
C
57
杂芳基，可选地取代有一个或更多个取代基
R6；
R6在每次出现时独立地选自于由以下组成的组：氢；氘；
OPh
；
CF3；
CN
；
F
；
C1‑
C5烷基，其中，一个或更多个氢原子可选地独立地被氘
、CN、CF3或
F
取代；
C1‑
C5烷氧基，其中，一个或更多个氢原子可选地独立地被氘
、CN、CF3或
F
取代；
C1‑
C5硫代烷氧基，其中，一个或更多个氢原子可选地独立地被氘
、CN、CF3或
F
取代；
C2‑
C5烯基，其中，一个或更多个氢原子可选地独立地被氘
、CN、CF3或
F
取代；
C2‑
C5炔基，其中，一个或更多个氢原子可选地独立地被氘
、CN、CF3或
F
取代；
C6‑
C
18
芳基，可选地取代有一个或更多个
C1‑
C5烷基取代基；
C2‑
C
17
杂芳基，可选地取代有一个或更多个
C1‑
C5烷基取代基；
N(C6‑
C
18
芳基
)2；
N(C2‑
C
17
杂芳基
)2；以及
N(C2‑
C
17
杂芳基
)(C6‑
C
18
芳基
)
；其中，取代基
R
a
、R5和
R6中的任一个可以独立地与一个或更多个其它取代基
R
a
、R5和
/
或
R6形成单环或多环的脂肪族
、
芳香族
、
杂芳香族和
/
或苯并稠合环体系
。2.
根据权利要求1所述的有机分子，所述有机分子包括式
IIa
或式
IIb
的结构：
3.
根据权利要求1或2所述的有机分子，所述有机分子包括式
III
的结构：
其中，
R
b
在每次出现时独立地选自于由以下组成的组：氢；氘；
N(R5)2；
OR5；
Si(R5)3；
B(OR5)2、OSO2R5、CF3、CN、F、Br、I
；
C1‑
C
40
烷基，可选地取代有一个或更多个取代基
R5，并且其中，一个或更多个不相邻的
CH2基团可选地被
R5C
＝
CR5、C≡C、Si(R5)2、Ge(R5)2、Sn(R5)2、C
＝
O、C
＝
S、C
＝
Se、C
＝
NR5、P(
＝
O)(R5)、SO、SO2、NR5、O、S
或
CONR5取代；
C1‑
C
40
烷氧基，可选地取代有一个或更多个取代基
R5，并且其中，一个或更多个不相邻的
CH2基团可选地被
R5C
＝
CR5、C≡C、Si(R5)2、Ge(R5)2、Sn(R5)2、C
＝
O、C
＝
S、C
＝
Se、C
＝
NR5、P(
＝
O)(R5)、SO、SO2、NR5、O、S
或
CONR5取代；
C1‑
C
40
硫代烷氧基，可选地取代有一个或更多个取代基
R5，并且其中，一个或更多个不相邻的
CH2基团可选地被
R5C
＝
CR5、C≡C、Si(R5)2、Ge(R5)2、Sn(R5)2、C
＝
O、C
＝
S、C
＝
Se、C
＝
NR5、P(
＝
O)(R5)、SO、SO2、NR5、O、S
或
CONR5取代；
C2‑
C
40
烯基，可选地取代有一个或更多个取代基
R5，并且其中，一个或更多...

【专利技术属性】
技术研发人员：S，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：