一种高透低雾光学基膜及其制备方法技术

本发明专利技术涉及薄膜技术领域，具体涉及一种高透低雾光学基膜及其制备方法，包括如下步骤：将苯二甲酸

【技术实现步骤摘要】
一种高透低雾光学基膜及其制备方法


[0001]本专利技术涉及薄膜
，尤其涉及一种高透低雾光学基膜及其制备方法
。

技术介绍

[0002]目前双向拉伸聚酯薄膜
(BOPET)
是一种综合性能优良的高分子薄膜材料，它以聚对苯二甲酸乙二醇酯
(PET)
为主要原料，经结晶干燥
、
挤出熔融
、
铸片和双轴拉伸定向而得，其具有机械强度高
、
耐温性好
、
电绝缘性能优良和耐化学腐蚀的有点，被广泛使用在护目镜以及各种头盔的镜片保护上
。
[0003]但在前述的现有技术中，在使用过程中，遭遇雨水
、
受潮或者冷气，容易导致膜面起雾，影响使用，同时光学基膜的透明性也较差，因此使用体验不佳
。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于提供一种高透低雾光学基膜及其制备方法，解决现有技术中在使用过程中，遭遇雨水
、
受潮或者冷气，容易导致膜面起雾，影响使用，同时光学基膜的透明性也较差，因此使用体验不佳的问题
。
[0005]为实现上述目的，本专利技术提供了一种高透低雾光学基膜，按重量份计，其制备原料包括：
[0006]100
‑
130
份苯二甲酸
、100
‑
130
份乙二醇
、1
‑3份醋酸钴
、10
‑
12
份纳米分散液
、1
‑3份聚乙烯基吡咯烷酮
、1
‑3份平平加
、10
‑
12
份蒸馏水
、2
‑6份光固化剂
、2
‑6份光引发剂和1‑3份催化剂
。
[0007]其中，所述光固化剂为酚醛环氧丙烯酸酯
、
改性环氧丙烯酸酯或环氧化油丙烯酸酯的一种
。
[0008]其中，所述光引发剂为二芳基碘鎓盐
、
三芳基硫鎓盐或烷基硫鎓盐的一种
。
[0009]本专利技术还提供一种高透低雾光学基膜制备方法，采用上述所述的高透低雾光学基膜，包括如下步骤：
[0010]将所述苯二甲酸
、
所述乙二醇和所述醋酸钴依次加入所述蒸馏水，使用搅拌机搅拌均匀，得到第一产物；
[0011]将所述纳米分散液加入所述第一产物并搅拌加热，得到第二产物；
[0012]将所述聚乙烯基吡咯烷酮
、
所述平平加和所述蒸馏水进行混合搅拌，使其溶解，然后等待沉淀，得到第三产物；
[0013]将所述第二产物和所述第三产物混合搅拌并加热，得到第四产物；
[0014]在所述第四产物内依次加入所述光固化剂
、
所述光引发剂和所述催化剂，并进行均匀搅拌和加热，然后等待其反应结束，得到第五产物；
[0015]将所述第五产物送入腔体中进行成型，再进行冷却铸片，最后经过重新预热拉伸后完成定型，得到高透低雾光学基膜
。
[0016]其中，在所述将苯二甲酸
、
所述乙二醇和所述醋酸钴依次加入所述蒸馏水，使用搅
拌机搅拌均匀，得到第一产物的步骤中：
[0017]搅拌速率为
100
‑
130r/min。
[0018]其中，在将所述纳米分散液加入所述第一产物并搅拌加热，得到第二产物的步骤中：
[0019]搅拌速率为
100
‑
130r/min
，温度为
220
‑
260℃。
[0020]其中，在将所述聚乙烯基吡咯烷酮
、
所述平平加和所述蒸馏水进行混合搅拌，使其溶解，然后等待沉淀，得到第三产物的步骤中：
[0021]搅拌速率为
100
‑
130r/min
，温度为
220
‑
260℃
，沉淀时间为
24
‑
26
小时
。
[0022]其中，在将所述第二产物和所述第三产物混合搅拌并加热，得到第四产物的步骤中：
[0023]搅拌速率为
100
‑
130r/min
，温度为
220
‑
260℃。
[0024]其中，在所述第四产物内依次加入所述光固化剂
、
所述光引发剂和所述催化剂，并进行均匀搅拌和加热，然后等待其反应结束，得到第五产物的步骤中：
[0025]搅拌速率为
100
‑
130r/min
，温度为
220
‑
260℃
，反应时间为1‑3小时
。
[0026]其中，在将所述第五产物送入腔体中进行成型，再进行冷却铸片，最后经过重新预热拉伸后完成定型，得到高透低雾光学基膜的步骤中：
[0027]预热温度为
70
‑
90℃
，热定型温度为
220
‑
260℃。
[0028]本专利技术的一种高透低雾光学基膜及其制备方法，将所述苯二甲酸
、
所述乙二醇和所述醋酸钴依次加入所述蒸馏水，使用搅拌机搅拌均匀，得到第一产物，将所述纳米分散液加入所述第一产物并搅拌加热，得到第二产物，将所述聚乙烯基吡咯烷酮
、
所述平平加和所述蒸馏水进行混合搅拌，使其溶解，然后等待沉淀，得到第三产物，将所述第二产物和所述第三产物混合搅拌并加热，得到第四产物，在所述第四产物内依次加入所述光固化剂
、
所述光引发剂和所述催化剂，并进行均匀搅拌和加热，然后等待其反应结束，得到第五产物，将所述第五产物送入腔体中进行成型，再进行冷却铸片，最后经过重新预热拉伸后完成定型，得到高透低雾光学基膜，由此使得光学基膜具备高透光性和低雾的使用性能
。
附图说明
[0029]为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍
。
[0030]图1是本专利技术的第一实施例的步骤流程图
。
[0031]图2是本专利技术的第二实施例的步骤流程图
。
[0032]图3是本专利技术的第三实施例的步骤流程图
。
具体实施方式
[0033]下面详细描述本专利技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本专利技术，而不能理解为对本专利技术的限制
。
[0034]第一实施例：
[0035]请参阅图1，其中图1是本专利技术的第一实施例的步骤流程图，本专利技术提供一种高透低雾光学基膜制备方法，包括如下步骤：
[0036]S1
：将
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种高透低雾光学基膜，其特征在于，按重量份计，其制备原料包括：
100
‑
130
份苯二甲酸
、100
‑
130
份乙二醇
、1
‑3份醋酸钴
、10
‑
12
份纳米分散液
、1
‑3份聚乙烯基吡咯烷酮
、1
‑3份平平加
、10
‑
12
份蒸馏水
、2
‑6份光固化剂
、2
‑6份光引发剂和1‑3份催化剂
。2.
如权利要求1所述的高透低雾光学基膜，其特征在于，所述光固化剂为酚醛环氧丙烯酸酯
、
改性环氧丙烯酸酯或环氧化油丙烯酸酯的一种
。3.
如权利要求2所述的高透低雾光学基膜，其特征在于，所述光引发剂为二芳基碘鎓盐
、
三芳基硫鎓盐或烷基硫鎓盐的一种
。4.
一种高透低雾光学基膜制备方法，采用如权利要求3所述的高透低雾光学基膜，其特征在于，包括如下步骤：将所述苯二甲酸
、
所述乙二醇和所述醋酸钴依次加入所述蒸馏水，使用搅拌机搅拌均匀，得到第一产物；将所述纳米分散液加入所述第一产物并搅拌加热，得到第二产物；将所述聚乙烯基吡咯烷酮
、
所述平平加和所述蒸馏水进行混合搅拌，使其溶解，然后等待沉淀，得到第三产物；将所述第二产物和所述第三产物混合搅拌并加热，得到第四产物；在所述第四产物内依次加入所述光固化剂
、
所述光引发剂和所述催化剂，并进行均匀搅拌和加热，然后等待其反应结束，得到第五产物；将所述第五产物送入腔体中进行成型，再进行冷却铸片，最后经过重新预热拉伸后完成定型，得到高透低雾光学基膜
。5.
如权利要求4所述的高透低雾光学基膜制备方法，其特征在于，在所述将苯二甲酸
、
所述乙二醇和所述醋酸钴依次加入所述蒸馏水，使用搅拌机搅拌均匀，得到第一产物的步骤中：搅...

【专利技术属性】
技术研发人员：李绪猛，刘晓军，梁仙发，
申请(专利权)人：佛山赛和薄膜科技有限公司，
类型：发明
国别省市：