【技术实现步骤摘要】
一种紫外LED外延片及其制备方法、LED芯片
[0001]本专利技术涉及半导体
,特别涉及一种紫外
LED
外延片及其制备方法
、LED
芯片
。
技术介绍
[0002]紫外
LED(UV LED)
主要应用在生物医疗
、
防伪鉴定
、
净化
(
水
、
空气等
)
领域
、
计算机数据存储和军事等方面
。
[0003]与
GaN
基蓝光
LED
相比,紫外
LED
的研制面临着许多独特的技术困难,如:高
Al
组分
AlGaN
的材料的外延生长困难,一般而言,
Al
组分越高,晶体质量越低,位错密度普遍在
109~10
10
/cm2乃至更高; AlGaN
材料的掺杂与
GaN
相比要困难得多,不论
n
型掺杂还是
p
型掺杂,随着
Al
组分的增加,外延层的电导率迅速降低,尤其是
p
‑
AlGaN
的掺杂尤为棘手,掺杂剂
Mg
的激活效率低下,导致空穴不足,导电性和发光效率锐降,等等
。
[0004]由于上述情况的存在,目前的紫外
LED
外延片的内量子效率并不高,现有技术
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种紫外
LED
外延片,其特征在于,包括有源层,所述有源层包括周期性交替生长的量子阱层和量子垒层,其中,所述量子阱层和所述量子垒层均为
AlGaN
层,生长所述量子阱层的过程中,控制
Al
组分进行三个阶段的变化;第一阶段,控制
Al
组分由初始组分逐渐降低至第一组分;第二阶段,控制
Al
组分至少存在一个变化周期,其中,一个变化周期为由所述第一组分阶段性增长至第二组分,稳定第一预设时间后,逐渐降低至所述第一组分;第三阶段,控制
Al
组分由所述第一组分阶段性增长至所述初始组分
。2.
根据权利要求1所述的紫外
LED
外延片,其特征在于,所述紫外
LED
外延片还包括衬底
、AlN
层
、N
型半导体层
、EBL
电子阻挡层和
P
型半导体层;其中,在所述衬底上沿外延生长方向依次沉积所述
AlN
层
、
所述
N
型半导体层
、
所述有源层
、
所述
EBL
电子阻挡层和所述
P
型半导体层
。3.
根据权利要求1或2所述的紫外
LED
外延片,其特征在于,所述第二组分小于所述初始组分
。4.
根据权利要求1或2所述的紫外
LED
外延片,其特征在于,由所述第一组分阶段性增长至第二组分的过程中,控制
Al
组分由所述第一组分逐渐增长至第三组分,稳定第二预设时间后,再逐渐增长至所述第二组分
。5.
根据权利要求4所述的紫外
LED
外延片,其特征在于,在所述第二阶段的任意一个变化周...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘春杨,吕蒙普,胡加辉,金从龙,顾伟,
申请(专利权)人:江西兆驰半导体有限公司,
类型:发明
国别省市:
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