曝光掩模制造技术

一种曝光掩模包括：基底层，包括第一区和在第一方向上与第一区间隔开的第二区；第一检查透射图案，限定在基底层的第一区中并且在平面图中布置为具有至少一个连接部的环形状；以及第二检查透射图案，限定在基底层的第二区中并且在平面图中布置为多边形形状或圆形形状。并且在平面图中布置为多边形形状或圆形形状。并且在平面图中布置为多边形形状或圆形形状。

【技术实现步骤摘要】
曝光掩模


[0001]本公开的实施例涉及曝光掩模和使用该曝光掩模制造显示装置的方法。

技术介绍

[0002]最近，随着显示装置具有增大的尺寸，在显示装置的制造工艺中使用划分基板并且在移动曝光掩模的同时对划分成多个拍摄区的基板进行曝光的方法。在这种情况下，可能在拍摄区之间的边界处发生包括偏移、旋转和失真的对准误差。在发生对准误差的情况下，显示装置的电特性可能被劣化，并且斑点可能被识别且显示质量可能被劣化。

技术实现思路

[0003]实施例提供一种能够改善显示装置的显示质量的曝光掩模。
[0004]实施例提供一种使用曝光掩模来制造显示装置的方法。
[0005]根据实施例的曝光掩模可以包括：基底层，包括第一区和在第一方向上与第一区间隔开的第二区；第一检查透射图案，限定在基底层的第一区中并且在平面图中布置为具有至少一个连接部的环形状；以及第二检查透射图案，限定在基底层的第二区中并且在平面图中布置为多边形形状或圆形形状。
[0006]在实施例中，第一检查透射图案可以包括：第一透射部；第二透射部，在第一方向上与第一透射部本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种曝光掩模，其特征在于，包括：基底层，包括第一区和在第一方向上与所述第一区间隔开的第二区；第一检查透射图案，限定在所述基底层的所述第一区中并且在平面图中布置为具有至少一个连接部的环形状；以及第二检查透射图案，限定在所述基底层的所述第二区中并且在所述平面图中布置为多边形形状或圆形形状。2.根据权利要求1所述的曝光掩模，其中，所述第一检查透射图案包括：第一透射部；第二透射部，在所述第一方向上与所述第一透射部间隔开；以及第一连接部，限定在所述第一透射部与所述第二透射部之间。3.根据权利要求2所述的曝光掩模，其中，所述第一检查透射图案进一步包括：第三透射部，在垂直于所述第一方向的第二方向上与所述第二透射部间隔开；以及第二连接部，限定在所述第二透射部与所述第三透射部之间。4.根据权利要求3所述的曝光掩模，其中，所述第一检查透射图案进一步包括：第四透射部，在与所述第一方向相反的方向上与所述第三透射部间隔开并且在所述第二方向上与所述第一透射部间隔开；第三连接部，限定在所述第三透射部与所述第四透射部之间；以及第四连接部，限定在所述第一透...

【专利技术属性】
技术研发人员：全秀洪，宋炯真，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：新型
国别省市：