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一种曝光掩模包括：基底层，包括第一区和在第一方向上与第一区间隔开的第二区；第一检查透射图案，限定在基底层的第一区中并且在平面图中布置为具有至少一个连接部的环形状；以及第二检查透射图案，限定在基底层的第二区中并且在平面图中布置为多边形形状或圆...
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