蚀刻液生产用反应釜制造技术

本实用新型专利技术提出蚀刻液生产用反应釜，包括反应釜体，所述反应釜体顶部密封配合有釜顶封盖，搅拌电机的输出轴上端连接有旋转底座，提料筒座的顶部通过支撑杆架与反应釜体的内腔壁固定，旋转底座上设有延伸至提料筒座内部的提料转轴，提料转轴上设有提料导液片，搅拌电机工作下，提料转轴随着旋转底座进行转动，由提料转轴上所设提料导液片将反应釜体中的原料沿提料筒座的底部吸入，且由提料筒座的顶部排出，沿提料筒座上端口导出的原液在平流板的平摊流淌，此时在水密转接头顶部所连接的液压泵工作下，将稀释液吸入喷液支管内部，且由喷液环管底部的多个喷头进行喷洒，使喷头喷出的稀释液能够与平流板上的蚀刻原液进行充分的接触。接触。接触。

【技术实现步骤摘要】
蚀刻液生产用反应釜


[0001]本技术涉及蚀刻液生产
，尤其涉及蚀刻液生产用反应釜。

技术介绍

[0002]蚀刻液广泛应用于半导体集成电路的生产制造中，例如在酸性蚀刻液生产的过程中需要用到反应釜，需要人工配置蚀刻液，即需要工人将蚀刻原液和稀释剂按照一定的比例进行混合来制造出可用的蚀刻液。例如申请号为CN202221465943.8公开了一种酸性蚀刻液生产用反应釜，通过控制器启动伺服电机经过转轴带动搅拌叶对反应材料进行均匀搅拌，便于使反应材料混合进行充分反应。但是该装置在混合蚀刻液的过程中，充分混合时需要较长的时长，加工效率低。

技术实现思路

[0003]为了解决上述问题，本技术提出蚀刻液生产用反应釜，以更加确切地解决上述所述问题。
[0004]本技术通过以下技术方案实现的：
[0005]本技术提出蚀刻液生产用反应釜，包括反应釜体，所述反应釜体顶部密封配合有釜顶封盖，反应釜体的顶部一侧设有进料接口，反应釜体的底部一侧设有排料接口，所述反应釜体的底部设有搅拌电机，搅拌电机的输出轴贯穿至反应釜体内腔底部，且搅拌电机的输出轴上端连接有旋转底座，旋转底座的上连接有一对搅拌曲杆，且搅拌曲杆上设有若干个搅拌叶片，所述反应釜体的内腔中部设有一个呈垂直设置的提料筒座，提料筒座的顶部通过支撑杆架与反应釜体的内腔壁固定，所述旋转底座上设有提料转轴，提料转轴延伸至提料筒座内部，且提料转轴与提料筒座呈同轴度设置，提料转轴上设有与提料筒座内壁尺径相配合的提料导液片，所述釜顶封盖中部设有排气室，排气室顶部固定有水密转接头，水密转接头底部转接有喷液支管，喷液支管底端连接有喷液环管，且喷液环管底部设有若干个喷头，多个喷头沿喷液环管的中心呈环形阵列设置。
[0006]进一步的，所述水密转接头顶部连接液压泵的进液接口，液压泵的进液接口通过导液管连接稀释液储存罐机体。
[0007]进一步的，所述提料筒座的上端口外边一体成型有平流板，平流板为水平设置的圆环板体。
[0008]进一步的，所述提料筒座的内壁中内嵌设置有加热片，反应釜体的外壁套设有保温棉套。
[0009]进一步的，所述排气室的顶部一侧设有排气接口，排气接口通过导气管连接排气泵机。
[0010]进一步的，所述喷液支管的中部设有导风扇叶，且导风扇叶的叶片外径与排气室的内腔尺径相配合。
[0011]本技术的有益效果：
[0012]1、在搅拌电机工作下，驱使旋转底座进行旋转，旋转底座两侧搅拌曲杆上所设的多个搅拌叶片对反应釜体内腔中原料进行搅拌，且提料转轴随着旋转底座进行转动，由提料转轴上所设提料导液片将反应釜体中的原料沿提料筒座的底部吸入，且由提料筒座的顶部排出，沿提料筒座上端口导出的原液在平流板的平摊流淌，此时在水密转接头顶部所连接的液压泵工作下，将稀释液储存罐机体中所储存的稀释液吸入喷液支管内部，且由喷液环管底部的多个喷头进行喷洒，使喷头喷出的稀释液能够与平流板上的蚀刻原液进行充分的接触；
[0013]2、本技术在排气泵机的工作下，能够将反应釜体内部由于蚀刻原液或者稀释液蒸发产生的有毒气体排出处理，且在气体沿排气室内腔排出排气接口的过程中，对喷液支管中部所设的导风扇叶进行推动，进而驱使喷液支管及其底部喷液环管进行旋转，进而可使喷液环管底部多个喷头进行旋转喷洒稀释液，保证混合均匀性。
附图说明
[0014]图1为本技术立体结构的半剖视图；
[0015]图2为本技术的立体结构整体示意图；
[0016]图3为本技术结构的正剖视图。
[0017]图中：1、反应釜体；101、釜顶封盖；102、进料接口；103、排料接口；104、排气室；105、排气接口；106、保温棉套；2、提料筒座；201、支撑杆架；202、平流板；203、加热片；3、搅拌电机；4、旋转底座；401、搅拌曲杆；402、搅拌叶片；403、提料转轴；404、提料导液片；5、水密转接头；6、喷液支管；601、喷液环管；602、喷头；603、导风扇叶。
具体实施方式
[0018]为了更加清楚完整的说明本技术的技术方案，下面结合附图对本技术作进一步说明。
[0019]请参考图1
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图3，本技术提出蚀刻液生产用反应釜，包括反应釜体1，其特征在于，反应釜体1顶部密封配合有釜顶封盖101，反应釜体1的顶部一侧设有进料接口102，反应釜体1的底部一侧设有排料接口103，反应釜体1的底部设有搅拌电机3，搅拌电机3的输出轴贯穿至反应釜体1内腔底部，且搅拌电机3的输出轴上端连接有旋转底座4，旋转底座4的上连接有一对搅拌曲杆401，且搅拌曲杆401上设有若干个搅拌叶片402，反应釜体1的内腔中部设有一个呈垂直设置的提料筒座2，提料筒座2的顶部通过支撑杆架201与反应釜体1的内腔壁固定，旋转底座4上设有提料转轴403，提料转轴403延伸至提料筒座2内部，且提料转轴403与提料筒座2呈同轴度设置，提料转轴403上设有与提料筒座2内壁尺径相配合的提料导液片404，在搅拌电机3工作下，驱使旋转底座4进行旋转，旋转底座4两侧搅拌曲杆401上所设的多个搅拌叶片402对反应釜体1内腔中原料进行搅拌，且提料转轴403随着旋转底座4进行转动，由提料转轴403上所设提料导液片404将反应釜体1中的原料沿提料筒座2的底部吸入，且由提料筒座2的顶部排出，提高搅拌的均匀性，提高搅拌效率。
[0020]提料筒座2的内壁中内嵌设置有加热片203，加热片203能够对经过提料筒座2内腔中的进行加热，保持原液一定的温度下进行混合，提高混合效率，反应釜体1的外壁套设有保温棉套106，避免反应釜体1内部温度散失。
[0021]釜顶封盖101中部设有排气室104，排气室104顶部固定有水密转接头5，水密转接头5顶部连接液压泵的进液接口，液压泵的进液接口通过导液管连接稀释液储存罐机体，水密转接头5底部转接有喷液支管6，喷液支管6底端连接有喷液环管601，且喷液环管601底部设有若干个喷头602，多个喷头602沿喷液环管601的中心呈环形阵列设置，在水密转接头5顶部所连接的液压泵工作下，将稀释液储存罐机体中所储存的稀释液吸入喷液支管6内部，且由喷液环管601底部的多个喷头602进行喷洒，提料筒座2的上端口外边一体成型有平流板202，平流板202为水平设置的圆环板体，沿提料筒座2上端口导出的原液在平流板202的平摊流淌，使喷头602喷出的稀释液能够与平流板202上的蚀刻原液进行充分的接触，提高混合效率。
[0022]排气室104的顶部一侧设有排气接口105，排气接口105通过导气管连接排气泵机，在排气泵机的工作下，能够将反应釜体1内部由于蚀刻原液或者稀释液蒸发产生的有毒气体排出处理，喷液支管6的中部设有导风扇叶603，且导风扇叶603的叶片外径与排气室104的内腔尺径相配合，且在气体沿排气室104内腔排出排气接口105的过程中，对导风扇叶603进行推动，进而驱使喷液支管6及其底部喷液环管60本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.蚀刻液生产用反应釜，包括反应釜体(1)，其特征在于，所述反应釜体(1)顶部密封配合有釜顶封盖(101)，反应釜体(1)的顶部一侧设有进料接口(102)，反应釜体(1)的底部一侧设有排料接口(103)，所述反应釜体(1)的底部设有搅拌电机(3)，搅拌电机(3)的输出轴贯穿至反应釜体(1)内腔底部，且搅拌电机(3)的输出轴上端连接有旋转底座(4)，旋转底座(4)的上连接有一对搅拌曲杆(401)，且搅拌曲杆(401)上设有若干个搅拌叶片(402)，所述反应釜体(1)的内腔中部设有一个呈垂直设置的提料筒座(2)，提料筒座(2)的顶部通过支撑杆架(201)与反应釜体(1)的内腔壁固定，所述旋转底座(4)上设有提料转轴(403)，提料转轴(403)延伸至提料筒座(2)内部，且提料转轴(403)与提料筒座(2)呈同轴度设置，提料转轴(403)上设有与提料筒座(2)内壁尺径相配合的提料导液片(404)，所述釜顶封盖(101)中部设有排气室(104)，排气室(104)顶部固定有水密转接头(5)，水密转接头(5)底部转接有喷液支管(6)，喷液支...

【专利技术属性】
技术研发人员：何珂，戈烨铭，
申请(专利权)人：江阴润玛电子材料股份有限公司，
类型：新型
国别省市：