含氟代聚醚基的硅烷化合物制造技术

本发明专利技术提供一种式(A1)或(A2)所示的含氟代聚醚基的硅烷化合物[式中，各符号的含义与说明书中的记载相同。]。]。]。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】含氟代聚醚基的硅烷化合物


[0001]本专利技术涉及一种含氟代聚醚基的硅烷化合物。

技术介绍

[0002]已知将某些种类的含氟硅烷化合物用于基材的表面处理时，能够提供优异的拨水性、拨油性、防污性等。由含有含氟硅烷化合物的表面处理剂得到的层(以下又称“表面处理层”)作为所谓的功能性薄膜，被施用于例如玻璃、塑料、纤维、建筑材料等多种多样的基材。
[0003]作为这样的含氟化合物，已知分子主链具有氟代聚醚基、分子末端或末端部具有与Si原子键合的能够水解的基团的含氟代聚醚基的硅烷化合物(专利文献1)。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本特开2000－327772号公报

技术实现思路

[0007]专利技术所要解决的技术问题
[0008]对于上述那样的表面处理层，进一步要求具有良好的物性。本专利技术提供一种能够有助于形成具有更良好的物性的表面处理层的含氟代聚醚基的硅烷化合物。
[0009]用于解决技术问题的技术方案
[0010]本专利技术提供以本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种下述式(A1)或(A2)所示的含氟代聚醚基的硅烷化合物，其中，式(A1)和(A2)中：R
F1
由Rf1－R
F
－O
q
－表示；R
F2
由－Rf
2p
－R
F
－O
q
－表示；Rf1为可以被1个或1个以上的氟原子取代的C
1－16
烷基；Rf2为可以被1个或1个以上的氟原子取代的C
1－6
亚烷基；R
F
在每次出现时分别独立地为式：－(OC6F
12
)
a
－(OC5F
10
)
b
－(OC4F8)
c
－(OC3R
Fa6
)
d
－(OC2F4)
e
－(OCF2)
f
－所示的基团；a、b、c、d、e和f分别独立地为0～200的整数，a、b、c、d、e和f之和为1以上，标注a、b、c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的；R
Fa
在每次出现时分别独立地为氢原子、氟原子或氯原子；p为0或1；q独立地为0或1；α为1～9的整数；β为1～9的整数；γ分别独立地为1～9的整数；X1在每次出现时分别独立地为单键或2～10价有机基团；R1在每次出现时分别独立地为氢原子、C
1－4
烷基、－R2或－R
Si
；X2在每次出现时分别独立地为单键或2～10价有机基团；其中，－X1－C(O)NR1－X2－所示的基团在每次出现时分别独立地为2～10价有机基团；R2在每次出现时分别独立地由－CH2－R
51
表示；R
51
分别独立地为具有氧亚烷基的1价有机基团；R
Si
在每次出现时分别独立地为下述式(S1)所示的基团：
‑
X3‑
SiR
b1l1
R
c13
‑
11
…
(S1)X3在每次出现时分别独立地为单键、氧原子或2价有机基团；R
b1
在每次出现时分别独立地为羟基或能够水解的基团；R
c1
在每次出现时分别独立地为氢原子或1价有机基团；l1在每次出现时分别独立地为0～3的整数；其中，在式(A1)和(A2)的各自中，至少1个l1为1。2.如权利要求1所述的含氟代聚醚基的硅烷化合物，其特征在于：α为1，X1在每次出现时分别独立地为单键或下述式：－(R
80
)
p4
－所示的2价有机基团，R
80
在每次出现时分别独立地表示可以被1个或1个以上的氟原子取代的C
1－4
亚烷基、或亚苯基，
p4为1或2。3.如权利要求1或2所述的含氟代聚醚基的硅烷化合物，其特征在于：α为1，X1为单键。4.如权利要求1～3中任一项所述的含氟代聚醚基的硅烷化合物，其特征在于：β和γ为1，X2在每次出现时分别独立地为单键或下述式：－(R
80
′
)
p4
′
－所示的2价有机基团，R
80
′
在每次出现时分别独立地表示可以被1个或1个以上的氟原子取代的C
1－4
亚烷基、或亚苯基，p4
′
为1或2。5.如权利要求1～4中任一项所述的含氟代聚醚基的硅烷化合物，其特征在于：β和γ为1，X2分别独立地为C
1－4
亚烷基。6.如权利要求1～5中任一项所述的含氟代聚醚基的硅烷化合物，其特征在于：R
51
在每次出现时分别独立地由－R
52
－O－(R
53
－O)
n4
－R
54
、或－R
55
－R
56
表示；R
52
分别独立地为单键或C
1－10
亚烷基；R
53
分别独立地为C
1－4
亚烷基；n4分别独立地为0～10的整数；R
54
分别独立地为可以含有环结构的1价烃基；R
55
分别独立地为单键或C
1－4
亚烷基；R
56
分别独立地具有在环结构中含有至少1个氧原子的3～20元环结构。7.如权利要求1～6中任一项所述的含氟代聚醚基的硅烷化合物，其特征在于：R
51
在每次出现时分别独立地由－R
52
－O－(R
53
－O)
n4
－R
54
表示；R
52
为单键或C
1－4
亚烷基；R
53
分别独立地为C
1－4
亚烷基；n4分别独立地为1～10的整数；R
54
分别独立地为可以含有环结构的1价烃基。8.如权利要求1～6中任一项所述的含氟代聚醚基的硅烷化合物，其特征在于：R
51
在每次出现时分别独立地由－R
52
－O－R
54
表示；R
52
为C
1－4
亚烷基；R
54
分别独立地为可以含有环结构的1价烃基。9.如权利要求6～8中任一项所述的含氟代聚醚基的硅烷化合物，其特征在于：R
54
分别独立地为C
1－4
烷基。10.如权利要求1～6中任一项所述的含氟代聚醚基的硅烷化合物，其特征在于：R
51
在每次出现时分别独立地由－R
55
－R
56
表示；R
55
为单键或C
1－4
亚烷基；R
56
具有在环结构中含有至少1个氧原子的3～20元环结构。11.一种表面处理剂，其特征在于：含有权利要求1～10中任一项所述的含氟代聚醚基的硅烷化合物。12.如权利要求11所述的表面处理剂，其特征在于：
所述含氟代聚醚基的硅烷化合物为式(A1)所示的化合物和式(A2)所示的化合物。13.一种表面处理剂，其特征在于：含有选自权利要求1～10中...

【专利技术属性】
技术研发人员：松井元志，野村孝史，高野真也，本多有佳里，渡边裕介，片冈真奈美，后藤章广，
申请(专利权)人：大金工业株式会社，
类型：发明
国别省市：