【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】含有氟代聚醚基的硅烷化合物
[0001]本专利技术涉及含有氟代聚醚基的硅烷化合物
。
技术介绍
[0002]已知将某些种类的含氟硅烷化合物用于基材的表面处理时，能够提供优异的拨水性
、
拨油性
、
防污性等
。
由含有含氟硅烷化合物的表面处理剂得到的层
(
以下又称“表面处理层”)
作为所谓的功能性薄膜，被施加于例如玻璃
、
塑料
、
纤维
、
建筑材料等多种多样的基材
。
[0003]作为这样的含氟化合物，已知分子主链具有氟代聚醚基
、
分子末端或末端部具有与
Si
原子键合的能够水解的基团的含有氟代聚醚基的硅烷化合物
(
专利文献
1)。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本特开
2000
－
327772
号公报
技术实现思路
[0007]专利技术要解决的技术问题
[0008]对于如上述那样的表面处理层，要求具有更好的物性
。
本专利技术提供一种有助于形成具有更好的物性的表面处理层的含有氟代聚醚基的硅烷化合物
。
[0009]用于解决技术问题的技术方案
[0010]本专利技术提供以下的
[1]～
[19]。
[0011][1]一种含有
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.
一种含有氟代聚醚基的硅烷化合物，其特征在于：所述含有氟代聚醚基的硅烷化合物由以下式
(A1)
或
(A2)
表示：
R
F1
‑
X1‑
CR
Si2
(OR
11
)
…
(A1)(R
11
O)R
Si2
C
‑
X1‑
R
F2
‑
X1‑
CR
Si2
(OR
11
)
…
(A2)
式中：
R
F1
由
Rf1‑
R
F
‑
O
q
‑
表示；
R
F2
由
‑
Rf
2p
‑
R
F
‑
O
q
‑
表示；
Rf1为可以被1个或1个以上的氟原子取代的
C1‑
16
烷基；
Rf2为可以被1个或1个以上的氟原子取代的
C1‑6亚烷基；
R
F
分别独立地为式：
‑
(OC6F
12
)
a
‑
(OC5F
10
)
b
‑
(OC4F8)
c
‑
(OC3R
Fa6
)
d
‑
(OC2F4)
e
‑
(OCF2)
f
‑
所示的基团；
a、b、c、d、e
和
f
分别独立地为0～
200
的整数，
a、b、c、d、e
和
f
之和为1以上，标注
a、b、c、d、e
或
f
并以括号括起的各重复单元的存在顺序在式中是任意的；
R
Fa
在各出现处分别独立地为氢原子
、
氟原子或氯原子；
p
为0或1；
q
独立地为0或1；
X1在各出现处分别独立地由以下式：
‑
(CR
502
)
n51
‑
(CR
51
＝
CR
52
)
n52
‑
((CH2)
n55
‑
Y
51
‑
(CH2)
n54
)
n53
‑
表示；
R
50
在各出现处分别独立地为氢原子
、
卤素原子
、
羟基或1价有机基团；
R
51
和
R
52
在各出现处分别独立地为氢原子或1价有机基团；
Y
51
在各出现处分别独立地为
O、CONR
15
、NR
15
、S
或亚芳基；
n54
分别独立地为0或1；
n55
分别独立地为0或1；
R
15
在各出现处分别独立地为氢原子
、
具有芳香环的基团
、C1‑6烷基
、
‑
O
‑
C1‑6烷基
、
或
C3‑
10
环烷基；
n51
为0～
10
的整数；
n52
为0～
10
的整数；
n53
为0～
10
的整数；标注
n51、n52
或
n53
并以括号括起的各重复单元的存在顺序在式中是任意的，
n51、n52
和
n53
的合计为1以上；
R
Si
分别独立地为以下式
(S1)
所示的基团：
‑
X3‑
SiR
b1l1
R
cl3
‑
l1
…
(S1)X3在各出现处分别独立地为单键
、
氧原子或2价有机基团；
R
b1
在各出现处分别独立地为羟基或能够水解的基团；
R
c1
在各出现处分别独立地为氢原子或1价有机基团；
l1
在各出现处分别独立地为0～3的整数；但是，在式
(A1)
和
(A2)
各自中，至少1个
11
为1；
R
11
在各出现处分别独立地为氢原子
、
苄基
、
甲氧基苯基
、
苯甲酰基
、
三苯甲基
、
‑
SiR
71
或
‑
(R
72
‑
O)
n7
‑
R
73
，
R
71
分别独立地为
C1‑4烷基，
R
72
分别独立地为
C1‑4亚烷基，
n7
分别独立地为1～
10
的整数；
R
73
分别独立地为氢原子或可以含有环结构的1价烃基
。2.
如权利要求1所述的含有氟代聚醚基的硅烷化合物，其特征在于：
X1在各出现处分别独立地由式
(X1)
或
(X2)
表示：
‑
X
51
‑
CR
51
＝
CR
52
‑
X
52
‑…
(X1)
‑
X
53
‑…
(X2)X
51
由
‑
(CR
502
)
n511
‑
((CH2)
n55
‑
Y
51
‑
(CH2)
n54
)
n512
‑
表示；
R
50
在各出现处分别独立地为氢原子
、
卤素原子
、
羟基或1价有机基团；
Y
51
在各出现处分别独立地为
O、CONR
15
、NR
15
、S
或亚芳基；
n54
分别独立地为0或1；
n55
分别独立地为0或1；
R
15
在各出现处分别独立地为氢原子
、
具有芳香环的基团
、C1－6烷基
、
－
O
－
C1－6烷基
、
或
C3－
10
环烷基；
n511
为0～
10
的整数；
n512
为0～
10
的整数；标注
n511
或
n512
并以括号括起的各重复单元的存在顺序在式中是任意的；
X
52
由－
(CR
502
)
n511
′
－
((CH2)
n55
－
Y
51
－
(CH2)
n54
)
n512
′
－表示；
n511
′
为0～
10
的整数；
n512
′
为0～
10
的整数；标注
n511
′
或
n512
′
并以括号括起的各重复单元的存在顺序在式中是任意的；
R
51
和
R
52
分别独立地为氢原子或1价有机基团；
X
53
分别独立地由－
(CR
502
)
n521
－
((CH2)
n55
－
Y
51
－
(CH2)
n54
)
n522
－表示；
n521
为0～
10
的整数；
n522
为0～
10
的整数；标注
n521
或
n522
并以括号括起的各重复单元的存在顺序在式中是任意的，
n521
和
n522
的合计为1以上
。3.
如权利要求1或2所述的含有氟代聚醚基的硅烷化合物，其特征在于：
R
50
在各出现处分别独立地为氢原子
、
卤素原子
、
羟基
、
－
O
－
(R
14
－
O)
n4
－
R
14
′
或
C1－4烷基，式中：
R
14
分别独立地为
C1－4亚烷基；
n4
分别独立地为0～
100
的整数；
R
14
′
分别独立地为
C1－4烷基；所述
C1－4烷基可以具有取代基
。4.
如权利要求1所述的含有氟代聚醚基的硅烷化合物，其特征在于：
X1在各出现处分别独立地为－
CHR
13
－
[(CR
50
′2)
n51
′
－
(CR
51
＝
CR
52
)
n52
－
((CH2)
n55
－
Y
51
－
(CH2)
n54
)
n53
]
－所示的基团，
R
13
由－
OH、
或－
O
－
(R
14
－
O)
n4
－
R
14
′
表示；
R
14
分别独立地为
C1－4亚烷基；
n4
为0～
100
的整数；
R
14
′
为
C1－4烷基；
R
50
′
分别独立地为氢原子
、
卤素原子
、
羟基或1价有机基团；
n51
′
为0～
10
的整数；
n52
为0～
10
的整数；
n53
为0～
10
的整数；标注
n51
′
、n52
或
n53
并以括号括起的各重复单元的存在顺序在－
(CR
50
′2)
n51
′
－
(CR
51
＝
CR
52
)
n52
－
((CH2)
n55
－
Y
51
－
(CH2)
n54
)
n53
－内是任意的，
R
51
和
R
52
分别独立地为氢原子或1价有机基团；
Y
51
分别独立地为
O、CONR
15
、NR
15
、S
或亚芳基，
R
15
在各出现处分别独立地为氢原子
、
具有芳香环的基团
、C1－6烷基
、
－
O
－
C1－6烷基
、
或
C3－
10
环烷基；
n54
分别独立地为0或1，
n55
分别独立地为0或
1。5.
如权利要求4所述的含有氟代聚醚基的硅烷化合物，其特征在于：
R
50
′
为氢原子
。6.
如权利要求1～5中任一项所述的含有氟代聚醚基的硅烷化合物，其特征在于：
R
51
和
R
52
为氢原子
。7.
如权利要求1～6中任一项所述的含有氟代聚醚基的硅烷化合物，其特征在于：
R
11
在各出现处分别独立地为氢原子或－
(R
72
－
O)
n7
－
R
73
所示的基团，
R
72
分别独立地为
C1－4亚烷基，
R
73
为氢原子
、
可以含有环结构的1价烃基，
n7
为1～
10
的整数
。8.
如权利要求1～7中任一项所述的含有氟代聚醚基的硅烷化合物，其特征在于：
R
11
在各出现处分别独立地为－
CH2O
－
R
11
′
，
R
11
′
为氢原子或－
(R
72
－
O)
n7
′
－
R
73
，
R
72
分别独立地为
C1－4亚烷基，
R
73
为氢原子
、
可以含有环结构的1价烃基，
n7
′
为0～9的整数
。9.
如权利要求1～8中任一项所述的含有氟代聚醚基的硅烷化合物，其特征在于：
R
73
分别独立地为氢原子或
C1－4烷基
。10.
如权利要求1～9中任一项所述的含有氟代聚醚基的硅烷化合物，其特征在于：
n55
为
1。11.
如权利要求1～9中任一项所述的含有氟代聚醚基的硅烷化合物，其特征在于：
n54
和
n55
为
0。12.
一种表面处理剂，其特征在于：含有选自权利要求1～
11
中任一项所述的含有氟代聚醚基的硅烷化合物
、
以及该含有
氟代聚醚基的硅烷化合物的至少一部分缩合而成的缩合物中的至少1种
。13.
一种表面处理剂，其特征在于：含有权利要求1～
11
中任一项所述的含有氟代聚醚基的硅烷化合物
。14.
一种物品，其特征在于：包含基材
、
以及在该基材的表面由权利要求1～
11
中任一项所述的含有氟代聚醚基的硅烷化合物或权利要求
12
或
13
所述的表面处理剂形成的层
。15.
一种含有氟代聚醚基的化合物的制造方法，其特征在于：包括使式
(a11)
或式
(a12)
所示的化合物与式
(a13)
所示的化合物反应，得到式
(a21)
或式
(a22)
所示的化合物的工序，
R
F1
‑
X
61
‑
CR
61
＝
CH2…
(a11)CH2＝
CR
61
‑
X
61
‑
R
F2
‑
X
61
‑
CR
61
＝
CH2…
(a12)
式中：
R
F1
由
Rf1‑
R
F
‑
O
q
‑
表示；
R
F2
由
‑
Rf
2p
‑
R
F
‑
O
q
‑
表示；
Rf1为可以被1个或1个以上的氟原子取代的
C1‑
16
烷基；
Rf2为可以被1个或1个以上的氟原子取代的
C1‑6亚烷基；
R
F
分别独立地为式：
‑
(OC6F
12
)
a
‑
(OC5F
10
)
b
‑
(OC4F8)
c
‑
(OC3R
Fa6
)
d
‑
(OC2F4)
e
‑
(OCF2)
f
‑
所示的基团；
a、b、c、d、e
和
f
分别独立地为0～
200
的整数，
a、b、c、d、e
和
f
之和为1以上，标注
a、b、c、d、e
或
f
并以括号括起的各重复单元的存在顺序在式中是任意的；
R
Fa
在各出现处分别独立地为氢原子
、
氟原子或氯原子；
p
为0或1；
q
独立地为0或1；
X
61
分别独立地由
‑
(CR
602
)
n611
‑
((CH2)
n614
‑
Y
61
‑
(CH2)
n613
)
n612
‑
表示；
R
60
在各出现处分别独立地表示氢原子
、
卤素原子或1价有机基团；
Y
61
在各出现处分别独立地为
O、CONR
15
、NR
15
、S
或亚芳基；
n613
分别独立地为0或1；
n614
分别独立地为0或1；
n611
为0～
10
的整数；
n612
为0～
10
的整数；标注
n611
或
n612
并以括号括起的各重复单元的存在顺序在式中是任意的；
X
62
分别独立地由
‑
(CR
602
)
n611
′
‑
((CH2)
n614
‑
y
61
‑
(CH2)
n613
)
n612
′
‑
表示；
n611
′
为0～
10
的整数；
n612
′
为0～
10
的整数；标注
n611
′
或
n612
′
并以括号括起的各重复单元的存在顺序在式中是任意的；
R
15
在各出现处分别独立地为氢原子
、
具有芳香环的基团
、C1‑6烷基
、
‑
O
‑
C1‑6烷基
、
或
C3‑
10
环烷基；
R
61
和
R
62
在各出现处分别独立地为氢原子或1价有机基团；
R
63
在各出现处分别独立地为氢原子或1价有机基团
。16.
一种含有氟代聚醚基的化合物的制造方法，其特征在于：包括使式
(a31)
或式
(a32)
所示的化合物与以下式
...
【专利技术属性】
技术研发人员：池内秀幸，高野真也，野村孝史，
申请(专利权)人：大金工业株式会社，
类型：发明
国别省市：
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