基于喷釉设备的喷釉控制方法技术

本发明专利技术公开了一种基于喷釉设备的喷釉控制方法

【技术实现步骤摘要】
基于喷釉设备的喷釉控制方法、喷釉控制器及喷釉系统


[0001]本专利技术涉及喷釉方法
，尤其涉及一种基于喷釉设备的喷釉控制方法
、
喷釉控制器及喷釉系统
。

技术介绍

[0002]目前的喷釉机均需要供釉机构以将储釉容器
(
例如储釉罐
)
中的釉料供应至喷釉模块
(
例如喷枪或喷雾器
)。
现有的供釉机构一般是采用泵向喷釉模块中持续泵入釉料
。
但是这种供釉机构工作时，由于泵的压力波动较大，而影响喷釉效果
。

技术实现思路

[0003]本专利技术实施例为了解决现有技术中的供釉机构工作时，由于泵的压力波动较大，而影响喷釉效果的技术问题，提供一种基于喷釉设备的喷釉控制方法
、
喷釉控制器及喷釉系统
。
[0004]为了解决上述技术问题，一方面，本专利技术实施例提供了一种基于喷釉设备的喷釉控制方法，所述喷釉设备包括第一容器
、
第二容器
、
釉料分配器
、
若干喷釉阀门
、
输液装置以及阀门组件，所述第一容器具有第一进气接口
、
第一排气接口以及进液接口；所述第二容器具有第二进气进口和第二排气接口；所述第一进气接口
、
所述第一排气接口
、
所述第二进气进口和所述第二排气接口均连接所述阀门组件，以使所述阀门组件开启或关闭所述第一进气接口
、<br/>所述第一排气接口
、
所述第二进气进口以及所述第二排气接口；所述输液装置通过所述进液接口连接所述第一容器；所述釉料分配器具有输送通道，所述第一容器通过所述输送通道连接所述第二容器，所述釉料分配器上设有与所述输送通道连通的若干喷釉孔，若干所述喷釉阀门分别对应至若干所述喷釉孔；
[0005]所述喷釉控制方法包括：
[0006]关闭所述第一进气接口
、
所述第二进气接口和所述第二排气接口，并开启所述第一排气接口和所述输液装置，以向所述第一容器中输入釉料；
[0007]关闭所述第一排气接口
、
所述第二进气接口和所述第二排气接口，并开启所述第一进气接口，以向所述第一容器中输入加压气体，使所述第一容器内的釉料通过所述输送通道加压输入至所述第二容器；
[0008]控制所述喷釉孔开闭状态，以使所述输送通道中的釉料从所述喷釉孔喷出
。
[0009]在一些实施例中，所述喷釉控制方法还包括：开启第一进气接口和所述第二排气接口，并关闭所述第一排气接口和所述第二进气接口，以使所述第一容器中的液体经所述输送通道输入所述第二容器；
[0010]开启所述第二进气接口和所述第一排气接口，关闭所述第二排气接口和所述第一进气接口，以使所述第二容器中的所述液体经所述输送通道输入所述第一容器
。
[0011]在一些实施例中，所述喷釉控制方法还包括：
[0012]依次开启所述第一进气接口和
/
或所述第二进气接口以及所述喷釉孔，并关闭所
述第一排气接口和所述第二排气接口，以向所述第一容器和所述第二容器中输入加压气体，使所述第一容器和所述第二容器中的釉料从所述喷釉孔流出；
[0013]关闭所述喷釉孔
、
所述第一进气接口
、
所述第二进气接口以及所述第二排气接口，并开启所述第一排气接口以及所述输液装置，以向所述第一容器中输入所述液体，所述液体为清洁液体
。
[0014]在一些实施例中，所述喷釉设备还包括循环装置和均质装置，所述循环装置的输入端连接所述第二容器；所述喷釉控制方法还包括：
[0015]开启所述循环装置，以使所述循环装置抽走所述第一容器和所述第二容器以及连接在两者上的管道中的部分釉料至所述均质装置中进行均质，开启所述输液装置以补充釉料至所述第一容器
。
[0016]在一些实施例中，所述关闭所述第一进气接口
、
所述第二进气接口和所述第二排气接口，并开启所述第一排气接口和所述输液装置，以向所述第一容器中输入釉料，包括：
[0017]获取所述第一容器中釉料的液位；
[0018]当所述第一容器中釉料的液位上升至第一预设液位，关闭所述输液装置；
[0019]所述关闭所述第一排气接口
、
所述第二进气接口和所述第二排气接口，并开启所述第一进气接口，以向所述第一容器中输入加压气体，使所述第一容器内的釉料通过所述输送通道加压输入至所述第二容器，包括：
[0020]获取所述第一容器中釉料的液位；
[0021]当所述第一容器中釉料的液位下降至第二预设液位，维持所述第二进气接口
、
所述第一排气接口和所述第二排气接口关闭，维持所述第一进气接口开启，通过调压装置对所述第一容器进行调压，开启所述输液装置，以向所述第一容器中输入釉料
。
[0022]在一些实施例中，所述喷釉控制方法还包括：
[0023]开启所述第一进气接口和
/
或所述第二进气接口时，根据预设压力调节所述第一容器和所述第二容器的气压
。
[0024]另一方面，本专利技术实施例还提供了一种基于喷釉设备的喷釉控制器，所述喷釉设备包括第一容器
、
第二容器
、
釉料分配器
、
若干喷釉阀门
、
输液装置以及阀门组件，所述第一容器具有第一进气接口
、
第一排气接口以及进液接口；所述第二容器具有第二进气进口和第二排气接口；所述第一进气接口
、
所述第一排气接口
、
所述第二进气进口和所述第二排气接口均连接所述阀门组件，以使所述阀门组件开启或关闭所述第一进气接口
、
所述第一排气接口
、
所述第二进气进口以及所述第二排气接口；所述输液装置通过所述进液接口连接所述第一容器；所述釉料分配器具有输送通道，所述第一容器通过所述输送通道连接所述第二容器，所述釉料分配器上设有与所述输送通道连通的若干喷釉孔，若干所述喷釉阀门分别对应至若干所述喷釉孔；所述阀门组件
、
所述喷釉阀门以及所述输液装置均连接所述喷釉控制器；所述喷釉控制器包括：
[0025]第一控制模块，用于关闭所述第一进气接口
、
所述第二进气接口和所述第二排气接口，并开启所述第一排气接口和所述输液装置，以向所述第一容器中输入釉料；
[0026]第二控制模块，用于关闭所述第一排气接口
、
所述第二进气接口和所述第二排气接口，并开启所述第一进气接口，以向所述第一容器中输入加压气体，使所述第一容器内的釉料通过所述输送通道加压输入至所述第二容器；
[0027]第三控制模块，用于控制所述喷釉孔开闭状态，以使所述输送通道中的釉料从本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种基于喷釉设备的喷釉控制方法，其特征在于，所述喷釉设备包括第一容器
、
第二容器
、
釉料分配器
、
若干喷釉阀门
、
输液装置以及阀门组件，所述第一容器具有第一进气接口
、
第一排气接口以及进液接口；所述第二容器具有第二进气进口和第二排气接口；所述第一进气接口
、
所述第一排气接口
、
所述第二进气进口和所述第二排气接口均连接所述阀门组件，以使所述阀门组件开启或关闭所述第一进气接口
、
所述第一排气接口
、
所述第二进气进口以及所述第二排气接口；所述输液装置通过所述进液接口连接所述第一容器；所述釉料分配器具有输送通道，所述第一容器通过所述输送通道连接所述第二容器，所述釉料分配器上设有与所述输送通道连通的若干喷釉孔，若干所述喷釉阀门分别对应至若干所述喷釉孔；所述喷釉控制方法包括：关闭所述第一进气接口
、
所述第二进气接口和所述第二排气接口，并开启所述第一排气接口和所述输液装置，以向所述第一容器中输入釉料；关闭所述第一排气接口
、
所述第二进气接口和所述第二排气接口，并开启所述第一进气接口，以向所述第一容器中输入加压气体，使所述第一容器内的釉料通过所述输送通道加压输入至所述第二容器；控制所述喷釉孔开闭状态，以使所述输送通道中的釉料从所述喷釉孔喷出
。2.
如权利要求1所述的喷釉控制方法，其特征在于，还包括：开启第一进气接口和所述第二排气接口，并关闭所述第一排气接口和所述第二进气接口，以使所述第一容器中的液体经所述输送通道输入所述第二容器；开启所述第二进气接口和所述第一排气接口，关闭所述第二排气接口和所述第一进气接口，以使所述第二容器中的所述液体经所述输送通道输入所述第一容器
。3.
如权利要求2所述的喷釉控制方法，其特征在于，还包括：依次开启所述第一进气接口和
/
或所述第二进气接口以及所述喷釉孔，并关闭所述第一排气接口和所述第二排气接口，以向所述第一容器和所述第二容器中输入加压气体，使所述第一容器和所述第二容器中的釉料从所述喷釉孔流出；关闭所述喷釉孔
、
所述第一进气接口
、
所述第二进气接口以及所述第二排气接口，并开启所述第一排气接口以及所述输液装置，以向所述第一容器中输入所述液体，所述液体为清洁液体
。4.
如权利要求1所述的喷釉控制方法，其特征在于，所述喷釉设备还包括循环装置和均质装置，所述循环装置的输入端连接所述第二容器；所述喷釉控制方法还包括：开启所述循环装置，以使所述循环装置抽走所述第一容器和所述第二容器以及连接在两者上的管道中的部分釉料至所述均质装置中进行均质，开启所述输液装置以补充釉料至所述第一容器
。5.
如权利要求1至4中任一项所述的喷釉控制方法，其特征在于，所述关闭所述第一进气接口
、
所述第二进气接口和所述第二排气接口，并开启所述第一排气接口和所述输液装置，以向所述第一容器中输入釉料，包括：获取所述第一容器中釉料的液位；当所述第一容器中釉料的液位上升至第一预设液位，关闭所述输液装置；所述关闭所述第一排气接口
、
所述第二进气接口和所述第二排气接口，并开启所述第
一进气接口，以向所述第一容器中输入加压气体，使所述第一容器内的釉料通过所述输送通道加压输入至所述第二容器，包括：获取所述第一容器中釉料的液位；当所述第一容器中釉料的液位下降至第二预设液位，维持所述第二进气接口
、
所述第一排气接口和所述第二排气接口关闭，维持所述第一进气接口开启，通过调压装置对所述第一容器进行调压，开启所述输液装置，以向所述第一容器中输入釉料
。6.
如权利要求1至4中任一项所述的喷釉控制方法，其特征在于，还包括：开启所述第一进气接口和
/
或所述第二进气接口时，根据预设压力调节所述第一容器和所述第二容器的气压
。7.
一种基于喷釉设备的喷釉控制器，其特征在于，所述喷釉设备包括第一容器
、
第二容器
、
釉料分配器
、
若干喷釉阀门
、
输液装置以及阀门组件，所述第一容器具有第一进气接口
、
第一排气接口以及进液接口；所述第二容器具有第二进气进口和第二排气接口；所述第一进气接口
、
所述第一排气接口
、
所述第二进气进口和...

【专利技术属性】
技术研发人员：张勉，刘洁，秦迎军，陈锦，
申请(专利权)人：佛山市赛普飞特科技有限公司，
类型：发明
国别省市：