一种基于聚焦离子束的空隙样品切片方法技术

本发明专利技术公开了一种基于聚焦离子束的空隙样品切片方法，涉及空隙样品技术领域，包括：将中性液体填充入空隙样品的空隙内；待中性液体固化，固化后的中性液体为非晶体；在空隙样品上镀第一保护层，并使第一保护层完全覆盖空隙和固化后的中性液体；在第一保护层上镀第二保护层；沿空隙的轴向，采用聚焦离子束对空隙样品切片。本发明专利技术的技术效果在于它能有效防止空隙样品的空隙失真。隙样品的空隙失真。隙样品的空隙失真。

【技术实现步骤摘要】
一种基于聚焦离子束的空隙样品切片方法


[0001]本专利技术涉及空隙样品
，具体涉及一种基于聚焦离子束的空隙样品切片方法。

技术介绍

[0002]空隙样品是一种具有若干空隙的样品，包括经STI(浅槽隔离)刻蚀后的形貌片，单膜层的Ti/TiN(20nm)膜厚片等。
[0003]为了便于在电子显微镜下观察，一般需要采用聚焦离子束对空隙样品进行切片，但在切片时，聚焦离子束会一直撞击空隙内部，从而导致空隙的尺寸变大，进而导致空隙失真。

技术实现思路

[0004]针对上述技术问题，本专利技术提供了一种基于聚焦离子束的空隙样品切片方法，它能有效防止空隙样品的空隙失真。
[0005]为解决上述问题，本专利技术提供的技术方案为：
[0006]一种基于聚焦离子束的空隙样品切片方法，包括：
[0007]将中性液体填充入空隙样品的空隙内；
[0008]待中性液体固化，固化后的中性液体为非晶体；
[0009]在空隙样品上镀第一保护层，并使第一保护层完全覆盖空隙和固化后的中性液体；
[0010本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于聚焦离子束的空隙样品切片方法，其特征在于，包括：将中性液体填充入空隙样品的空隙内；待中性液体固化，固化后的中性液体为非晶体；在空隙样品上镀第一保护层，并使第一保护层完全覆盖空隙和固化后的中性液体；在第一保护层上镀第二保护层；沿空隙的轴向，采用聚焦离子束对空隙样品切片。2.根据权利要求1所述的一种基于聚焦离子束的空隙样品切片方法，其特征在于，所述中性液体为墨水或胶水。3.根据权利要求1所述的一种基于聚焦离子束的空隙样品切片方法，其特征在于，所述第一保护层为碳膜保护层。4.根据权利要求1所述的一种基于聚焦离子束的空隙样品切片方法，其特征在于，所述第二保护层为Pt保护层。5.根据权利要求1
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4任一项所述的一种基于聚焦离子束的空隙样品切片方法，其特征在于，...

【专利技术属性】
技术研发人员：王义林，郭智慧，
申请(专利权)人：镇江乐华电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：