【技术实现步骤摘要】
化学强化后玻璃基板的制造方法、化学强化后玻璃基板的再加工方法和化学强化后玻璃基板
[0001]本专利技术涉及化学强化后玻璃基板的制造方法、化学强化后玻璃基板的再加工方法和化学强化后玻璃基板。
技术介绍
[0002]以往，作为各种信息终端装置等显示器用的保护玻璃，从薄型且不易破裂等观点考虑，使用通过离子交换等化学强化在玻璃表面形成有压应力层的化学强化后玻璃。
[0003]化学强化后玻璃在表面具有压应力层，因此外观的损伤、表面异物有可能导致发生爆发性破碎、强度大幅降低。因此，化学强化后不满足所期望的外观标准的玻璃，例如，当产生低于标准的水平的外观的损伤、表面异物时，会有不得不将其废弃的情况。
[0004]外观的损伤、表面异物这样的缺陷能够通过研磨工序去除。特别是在损伤或表面异物有深度的情况下，通过实施相当于该深度的量的研磨，能够去除缺陷。该研磨工序包括使用研磨材料的物理研磨和通过使用化学品的化学反应而进行的化学研磨(蚀刻)这两种。
[0005]即使是在化学强化后的表面具有压应力的玻璃，也能够通过研磨工序去除损伤、表面异物这样的缺陷。但是，通过研磨导致表层部的压应力层也被去除。因此，在对化学强化后的玻璃进行研磨的工艺中，需要再次形成压应力层的工艺。
[0006]作为去除化学强化后玻璃的压应力层并再次形成压应力层的方法，例如，在专利文献1中公开了去除在化学强化后的玻璃的主表面上形成的压应力层的一部分或全部，然后通过化学强化工序再次形成压应力层(以下也简称为再强化)的方法。
[0007]...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种化学强化后玻璃基板的制造方法，其中，所述化学强化后玻璃基板的制造方法包含：(A)准备具有主表面和端面的化学强化后玻璃基板A；(B)对所述化学强化后玻璃基板A的表面进行研磨而得到玻璃基板；和(C)使所述玻璃基板与含有90质量％以上的KNO3和1.0质量％以上且6.0质量％以下的NaNO3的无机盐组合物接触而进行离子交换，从而得到化学强化后玻璃基板C。2.一种化学强化后玻璃基板的制造方法，其中，所述化学强化后玻璃基板的制造方法包含：(A)准备具有主表面和端面的化学强化后玻璃基板A；(B)对所述化学强化后玻璃基板A的表面进行研磨而得到玻璃基板；和(C)至少进行一次使所述玻璃基板与含有90质量％以上的KNO3、大于等于0质量％且小于5.0质量％的NaNO3和大于等于0质量％且小于1.0质量％的LiNO3的无机盐组合物接触的离子交换，从而得到化学强化后玻璃基板C。3.一种化学强化后玻璃基板的制造方法，所述化学强化后玻璃基板的制造方法包含：(A)通过使一次无机盐组合物与具有主表面和端面的化学强化用玻璃基板接触而准备具有主表面和端面的化学强化后玻璃基板A；(B)对所述化学强化后玻璃基板A的表面进行研磨而得到玻璃基板；和(C)至少进行一次使所述玻璃基板与二次无机盐组合物接触的离子交换，从而得到化学强化后玻璃基板C，其中，在所述(A)中的所述一次无机盐组合物的累积处理面积小于0.2m2/kg的情况下，所述(C)中的所述二次无机盐组合物为含有90质量％以上的KNO3和大于等于0质量％且小于1.0质量％的LiNO3的无机盐组合物，在所述(A)中的所述一次无机盐组合物的累积处理面积为0.2m2/kg以上的情况下，所述(C)中的所述二次无机盐组合物为含有90质量％以上的KNO3、大于等于0质量％且小于5.0质量％的NaNO3和大于等于0质量％且小于1.0质量％的LiNO3的无机盐组合物。4.一种化学强化后玻璃基板的制造方法，所述化学强化后玻璃基板的制造方法包含：(A)通过使一次无机盐组合物与具有主表面和端面的化学强化用玻璃基板接触而准备具有主表面和端面的化学强化后玻璃基板A；(B)对所述化学强化后玻璃基板A的表面进行研磨而得到玻璃基板；和(C)至少进行一次使所述玻璃基板与二次无机盐组合物接触的离子交换，从而得到化学强化后玻璃基板C，其中，在所述(A)中的所述一次无机盐组合物中的LiNO3的浓度小于0.8质量％的情况下，将所述(C)中的所述二次无机盐组合物设定为含有90质量％以上的KNO3和大于等于0质量％且小于1.0质量％的LiNO3的无机盐组合物，在所述(A)中的所述一次无机盐组合物中的LiNO3浓度为0.8质量％以上的情况下，将所述(C)中的所述二次无机盐组合物设定为含有90质量％以上的KNO3、大于等于0质量％且小于5.0质量％的NaNO3和大于等于0质量％且小于1.0质量％的LiNO3的无机盐组合物。5.一种化学强化后玻璃基板的制造方法，所述化学强化后玻璃基板的制造方法包含：(A)准备具有主表面和端面的化学强化后玻璃基板A；
(B)对所述化学强化后玻璃基板A的表面进行研磨而得到玻璃基板；和(C)至少进行一次使所述玻璃基板与无机盐组合物接触的离子交换，从而得到化学强化后玻璃基板C，其中，关于拉应力CT(MPa)，所述化学强化后玻璃基板C的CT除以所述化学强化后玻璃基板A的CT而得到的值为0.90以上且1.20以下。6.一种化学强化后玻璃基板的制造方法，所述化学强化后玻璃基板的制造方法包含：(A)通过使一次无机盐组合物与具有主表面和端面的化学强化用玻璃基板接触而准备具有主表面和端面的化学强化后玻璃基板A；(B)对所述化学强化后玻璃基板A的表面进行研磨而得到玻璃基板；和(C)至少进行一次使所述玻璃基板与二次无机盐组合物接触的离子交换，从而得到化学强化后玻璃基板C，其中，关于拉应力CT(MPa)，在所述(A)中的所述一次无机盐组合物的累积处理面积小于0.2m2/kg的情况下，所述化学强化后玻璃基板C的CT除以所述化学强化后玻璃基板A的CT而得到的值为0.90以上且1.10以下，在所述(A)中的所述一次无机盐组合物的累积处理面积为0.2m2/kg以上的情况下，所述化学强化后玻璃基板C的CT除以所述化学强化后玻璃基板A的CT而得到的值为0.90以上且1.20以下。7.一种化学强化后玻璃基板的制造方法，所述化学强化后玻璃基板的制造方法包含：(A)通过使一次无机盐组合物与具有主表面和端面的化学强化用玻璃基板接触而准备具有主表面和端面的化学强化后玻璃基板A；(B)对所述化学强化后玻璃基板A的表面进行研磨而得到玻璃基板；和(C)至少进行一次使所述玻璃基板与二次无机盐组合物接触的离子交换，从而得到化学强化后玻璃基板C，其中，关于拉应力CT(MPa)，在所述(A)中的所述一次无机盐组合物的LiNO3浓度小于0.8质量％的情况下，所述化学强化后玻璃基板C的CT除以所述化学强化后玻璃基板A的CT而得到的值为0.90以上且1.10以下，在所述(A)中的所述一次无机盐组合物LiNO3浓度为0.8质量％以上的情况下，所述化学强化后玻璃基板C的CT除以所述化学强化后玻璃基板A的CT而得到的值为0.90以上且1.20以下。8.根据权利要求1～7中任一项所述的化学强化后玻璃基板的制造方法，其中，由下述定义的所述化学强化后玻璃基板C的强化膨胀率除以所述化学强化后玻璃基板A的强化膨胀率而得到的值为0.90以上且1.10以下，强化膨胀率(％)＝{[(化学强化后玻璃基板的尺寸)
‑
(化学强化前玻璃基板的尺寸)]/(化学强化前玻璃基板的尺寸)]}
×
100。9.根据权利要求1～7中任一项所述的化学强化后玻璃基板的制造方法，其中，在所述(A)与所述(B)之间包含：
(A
’
)进行所述化学强化后玻璃基板A表面的外观检查，在判定所述外观检查的结果不满足规定的标准的情况下，进行所述(B)。10.根据权利要求1～7中任一项所述的化学强化后玻璃基板的制造方法，其中，重复进行所述(B)和(C)。11.根据权利要求1～7中任一项所述的化学强化后玻璃基板的制造方法，其中，所述化学强化后玻璃基板的制造方法在所述(C)之后包含：(C
’
)测定所述化学强化后玻璃基板C的应力值，并判定所述应力值是否满足规定的标准，并且重复进行从所述(B)至所述(C
’
)，直到所述应力值满足规定的标准为止。12.根据权利要求11所述的化学强化后玻璃基板的制造方法，其中，在所述(C
’
)中，在所述应力值满足规定的标准的情况下，所述化学强化后玻璃基板的制造方法还包含：(D)进行所述化学强化后玻璃基板C的外观检查，并判定所述外观检查的结果是否满足规定的标准，并且重复进行从所述(B)至所述(D)，直到所述外观检查的结果满足规定的标准为止。13.根据权利要求1～7中任一项所述的化学强化后玻璃基板的制造方法，其中，在所述(B)中，所述化学强化后玻璃基板A的每个主表面的研磨量为0.5μm以上。14.根据权利要求11所述的化学强化后玻璃基板的制造方法，其中，所述化学强化后玻璃基板A具有所述主表面和所述端面，在所述主表面中包含平面部和曲面部，且在与所述主表面的所述平面部垂直的方向上形成所述端面，在将所述端面上的在所述平面部的水平方向上的最突出部设为点A，将以所述点A为起点的所述曲面部的不连续点设为点B，将相对于所述平面部的以所述点A为起点的平行线与相对于所述平面部的以所述点B为起点的法线的交点设为点C，将所述(A)中所述化学强化后玻璃基板A中的、所述点A与所述点C之间的距离设为X0、所述点B与所述点C之间的距离设为Y0、所述平面部中央的最大板厚设为t0，将重复n次从所述(B)到所述(D)而得到的所述化学强化后玻璃基板C中的、所述点A与所述点C之间的距离定义为X
n
、所述点B与所述点C之间的距离定义为Y
n
、所述平面...
【专利技术属性】
技术研发人员：关谷要，藤原祐辅，静井章朗，郑盛吉，江藤孝司，
申请(专利权)人：AGC株式会社，
类型：发明
国别省市：
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