透明导电薄膜及透明导电图案的形成方法技术

[课题]提供使用脉冲激光在透明树脂薄膜的两个主面上形成不同的透明导电图案的方法。[解决手段]在透明树脂薄膜的第一、第二主面上形成包含具有金属纳米线的交叉部的纳米结构网络和粘结剂树脂的第一、第二透明导电膜，第一、第二透明导电膜在透射光谱中具有基于纳米结构网络的吸收峰，透明树脂薄膜的厚度为40μm以上，在第一、第二透明导电膜上形成第一、第二保护膜后，利用脉冲宽度短于1纳秒且波长为基于纳米结构网络的吸收峰极大波长

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】透明导电薄膜及透明导电图案的形成方法


[0001]本专利技术涉及透明导电薄膜及透明导电图案的形成方法。更详细而言，涉及具有正反不同的透明导电图案的透明导电薄膜及正反不同的透明导电图案的形成方法。

技术介绍

[0002]近年来，在智能手机、汽车导航系统、自动售货机等中也采用了触摸面板。尤其是，可折弯的智能手机备受瞩目，因此触摸面板也需要可折弯。
[0003]为了实现可折弯的触摸面板，可折弯的透明薄膜和透明导电膜、即耐弯曲性优异的透明导电薄膜是必不可缺的。希望透明导电薄膜的厚度尽可能地薄。这是因为，若薄膜厚度过厚，则在折弯时容易断裂。
[0004]作为将透明导电薄膜的厚度减薄的手段，可举出在基材的两个主面上设置导电层。其原因是，通过在基材的两个主面上设置导电层，能够由1张透明导电薄膜兼作为X、Y传感器这两者。若使用仅在基材的一个主面上具有导电层的透明导电薄膜，则必须将2张薄膜贴合，总厚变厚是不可避免的。
[0005]在将透明导电薄膜传感器化的情况下，一般需要对实心膜的导电层进行蚀刻从而描绘布线图案。
[0006]作为蚀刻方法，大体区分时可分为干式蚀刻(激光)和湿式蚀刻这2种。若考虑到因湿式蚀刻而产生的废液等的环境负荷，则可以说前者的激光蚀刻是更优异的方法。
[0007]即，为了实现可折弯的触摸面板，需要能够制造在用作基材的透明树脂薄膜的两个主面上设置有透明导电膜的透明导电薄膜，并通过激光蚀刻将两个透明导电膜分别图案化。
[0008]但是，发现存下如下课题：若使用厚度较薄的透明树脂薄膜作为基材，则在对设置于一个主面上的透明导电膜进行激光蚀刻加工时，激光贯穿基材(透明树脂薄膜)，被加工至设置于与想要加工的面相反侧的面上的透明导电膜。
[0009]以往已知有通过激光蚀刻对在聚碳酸酯基材上形成银纳米线层而得到的透明导电薄膜进行图案化加工的方法(专利文献1)。但是，并未示出对同一基材的两个主面进行激光蚀刻加工的例子。即，没有认识到本专利技术的课题。
[0010]另外，公开了通过增大由透明导电薄膜的聚合物材料制成的透明支持基板的厚度并使能量密度减少50％以上，从而防止激光的贯穿的方法(专利文献2)。虽然在说明书中例示了激光的波长和可用作透明支持基板的聚合物材料种类，但实际上，并未示出对导电层进行了蚀刻加工的结果，完全不清楚利用所公开的方法是否能够实现所希望的加工。
[0011]需要说明的是，本申请的专利技术人先前通过专利文献3公开了一种透明导电基板，其具有基材、在基材的至少一个主面上形成的包含粘结剂树脂和导电性纤维(金属纳米线)的透明导电膜、以及在透明导电膜上形成的保护膜，但专利文献3中的专利技术所要解决的课题是提供除了良好的光学特性、电特性以外、耐光性也优异的透明导电基板，与本专利技术所要解决的课题完全不同。
[0012]现有技术文献
[0013]专利文献
[0014]专利文献1：日本特开2015
‑
15009号公报
[0015]专利文献2：US2020/0409486号公报
[0016]专利文献3：国际公开第2018/101334号

技术实现思路

[0017]专利技术所要解决的课题
[0018]本专利技术的目的之一是提供在作为基材的透明树脂薄膜的两个主面具有不同的透明导电图案的透明导电薄膜。另外，本专利技术的目的之一是提供在两个主面上形成不同的透明导电图案的方法，所述方法使用了在透明树脂薄膜的两个主面具有透明导电膜的透明导电薄膜。
[0019]用于解决课题的手段
[0020]为了达成上述目的，本专利技术具有以下的实施方式。
[0021][1]一种透明导电薄膜，其特征在于，在作为基材的透明树脂薄膜的第一主面具有第一透明导电图案膜，在第二主面具有与第一透明导电图案膜的图案不同的第二透明导电图案膜，在所述第一透明导电图案膜上具有第一保护膜，在所述第二透明导电图案膜上具有第二保护膜，所述第一透明导电图案膜由第一导电性区域及第一非导电性区域构成，所述第一导电性区域包含具有金属纳米线的交叉部的纳米结构网络和粘结剂树脂，所述第二透明导电图案膜包含第二导电性区域，所述第二导电性区域包含具有金属纳米线的交叉部的纳米结构网络和粘结剂树脂，所述第一透明导电膜在透射光谱中具有基于纳米结构网络的吸收峰，所述透明树脂薄膜在透射光谱中的基于所述纳米结构网络的吸收峰极大波长
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30nm的波长区域及可见光区域的光线透射率为80％以上，并且，所述透明树脂薄膜的厚度为40μm以上。
[0022][2]根据[1]所述的透明导电薄膜，所述第二透明导电图案膜还包含第二非导电性区域，所述第二透明导电膜在透射光谱中具有基于纳米结构网络的吸收峰。
[0023][3]根据[1]所述的透明导电薄膜，所述第一非导电性区域包含具有金属纳米线的交叉部的纳米结构网络的片段。
[0024][4]根据[2]所述的透明导电薄膜，所述第二非导电性区域包含具有金属纳米线的交叉部的纳米结构网络的片段。
[0025][5]根据[1]至[4]中任一项所述的透明导电薄膜，所述透明树脂薄膜的厚度为200μm以下。
[0026][6]根据[1]至[5]中任一项所述的透明导电薄膜，所述透明树脂薄膜的树脂为选自环烯烃聚合物、聚碳酸酯、聚酯、聚烯烃、聚芳酰胺、丙烯酸树脂中的树脂。
[0027][7]根据[1]至[6]中任一项所述的透明导电薄膜，所述具有金属纳米线的交叉部的纳米结构网络是在金属纳米线的交叉部的至少一部分被熔接而成的网络。
[0028][8]根据[1]至[7]中任一项所述的透明导电薄膜，所述金属纳米线为银纳米线。
[0029][9]根据[1]至[8]中任一项所述的透明导电薄膜，所述粘结剂树脂为N
‑
乙烯基乙酰胺(NVA)的均聚物。
[0030][10]根据[1]至[9]中任一项所述的透明导电薄膜，所述第一保护膜及第二保护膜为固化性树脂组合物的热固化膜，所述固化性树脂组合物包含：(A)含有羧基的聚氨酯，(B)在分子内具有两个以上的环氧基的环氧化合物，和(C)固化促进剂。
[0031][11]一种透明导电图案的形成方法，其特征在于，具有下述工序：透明导电膜形成工序，在透明树脂薄膜的第一主面上形成包含具有金属纳米线的交叉部的纳米结构网络和粘结剂树脂的第一透明导电膜，在所述透明树脂薄膜的第二主面上形成包含具有金属纳米线的交叉部的纳米结构网络和粘结剂树脂的第二透明导电膜；保护膜形成工序，在所述第一透明导电膜上形成第一保护膜，在所述第二透明导电膜上形成第二保护膜；和图案形成工序，使用脉冲宽度短于1纳秒的脉冲激光，从所述第一保护膜侧仅对所述第一透明导电膜进行蚀刻加工，形成第一透明导电图案，所述第一透明导电膜及第二透明导电膜在透射光谱中具有基于纳米结构网络的吸收峰，所述透明树脂薄膜在透射光谱中的基于所述纳米结构网络的吸收峰极大波长
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30nm的波长区域及可见光区域的光线透射率为80本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种透明导电薄膜，其特征在于，在作为基材的透明树脂薄膜的第一主面具有第一透明导电图案膜，在第二主面具有与第一透明导电图案膜的图案不同的第二透明导电图案膜，在所述第一透明导电图案膜上具有第一保护膜，在所述第二透明导电图案膜上具有第二保护膜，所述第一透明导电图案膜由第一导电性区域及第一非导电性区域构成，所述第一导电性区域包含具有金属纳米线的交叉部的纳米结构网络和粘结剂树脂，所述第二透明导电图案膜包含第二导电性区域，所述第二导电性区域包含具有金属纳米线的交叉部的纳米结构网络和粘结剂树脂，所述第一透明导电膜在透射光谱中具有基于纳米结构网络的吸收峰，所述透明树脂薄膜在透射光谱中的基于所述纳米结构网络的吸收峰极大波长
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30nm的波长区域及可见光区域的光线透射率为80％以上，并且，所述透明树脂薄膜的厚度为40μm以上。2.根据权利要求1所述的透明导电薄膜，所述第二透明导电图案膜还包含第二非导电性区域，所述第二透明导电膜在透射光谱中具有基于纳米结构网络的吸收峰。3.根据权利要求1所述的透明导电薄膜，所述第一非导电性区域包含具有金属纳米线的交叉部的纳米结构网络的片段。4.根据权利要求2所述的透明导电薄膜，所述第二非导电性区域包含具有金属纳米线的交叉部的纳米结构网络的片段。5.根据权利要求1～4中任一项所述的透明导电薄膜，所述透明树脂薄膜的厚度为200μm以下。6.根据权利要求1至5中任一项所述的透明导电薄膜，所述透明树脂薄膜的树脂为选自环烯烃聚合物、聚碳酸酯、聚酯、聚烯烃、聚芳酰胺、丙烯酸树脂中的树脂。7.根据权利要求1至5中任一项所述的透明导电薄膜，所述具有金属纳米线的交叉部的纳米结构网络是在金属纳米线的交叉部的至少一部分被熔接而成的网络。8.根据权利要求1至6...

【专利技术属性】
技术研发人员：山木繁，米田周平，宫村泰直，寺尾久美子，
申请(专利权)人：株式会社力森诺科，
类型：发明
国别省市：