一种自反馈类正则化反演方法技术

本发明专利技术公开了一种自反馈类正则化反演方法，涉及电磁波成像技术领域，其技术要点为：包括以下步骤：S1、获取成像数据；S2、预处理成像数据；S3、建立反演模型，设置正则化参数和阈值参数，并进行初始反演，得到初步反演结果；S4、根据初步反演结果，计算误差反馈系数；S5、利用误差反馈系数对反演模型进行更新；S6、将更新后的反演模型再进行迭代反演，直到满足收敛条件；S7、进行后处理操作，得到最终的成像结果。本发明专利技术的方法结合了传统的正则化反演方法和自反馈控制技术，能够在保证反演结果稳定性的同时，有效地提高成像质量；并且，本发明专利技术所提出的方法在电磁波成像技术中具有重要的应用价值和实际意义。值和实际意义。值和实际意义。

【技术实现步骤摘要】
一种自反馈类正则化反演方法


[0001]本专利技术涉及电磁波成像
，具体涉及一种自反馈类正则化反演方法。

技术介绍

[0002]电磁波成像技术是一种非常重要的成像技术，其在军事、医学、地质、工程等领域均有广泛应用。它通过对电磁波的反射、折射和散射等特性的分析，实现对被成像对象的识别和定位。在实际应用中，电磁波成像技术受到了噪声、信号衰减等因素的影响，因此如何有效地提高成像质量是该领域的研究重点。
[0003]目前，已经有许多反演方法被应用于电磁波成像技术中，如最小二乘法、全变分正则化等。其中，正则化反演方法是一种重要的方法，它可以有效地克服反演过程中的噪声和衰减问题。经过检索，公开号为CN113466954B的中国专利公开了一种自反馈类正则化反演方法，其解决的技术问题为：现有反演方法中存在容易受数据噪声影响，同时存在容易陷入局部最小值，对数据过拟合的问题。其公开的解决技术问题的方法包括以下步骤：
[0004]步骤S1：将平面磁异常数据进行化极并成图；步骤S2：根据化极后的磁异常平面图进行圈定，并对圈定数据进行插值；步骤S3本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种自反馈类正则化反演方法，其特征是：包括以下步骤：S1、获取成像数据；S2、预处理成像数据；S3、建立反演模型，设置正则化参数和阈值参数，并进行初始反演，得到初步反演结果；S4、根据初步反演结果，计算误差反馈系数；S5、利用误差反馈系数对反演模型进行更新；S6、将更新后的反演模型再进行迭代反演，直到满足收敛条件；S7、进行后处理操作，得到最终的成像结果。2.如权利要求1所述的一种自反馈类正则化反演方法，其特征是：步骤S4中所述的误差反馈系数的计算公式为：β＝γ
×
(1+ε)，其中，γ为正则化参数，ε为误差项。3.如权利要求1所述的一种自反馈类正则化反演方法，其特征是：步骤S5中所述的反演模型的更新公式为：m
k+1
...

【专利技术属性】
技术研发人员：王绪本，惠哲剑，
申请(专利权)人：成都理工大学，
类型：发明
国别省市：