一种分体成型的等离子源腔体结构制造技术

本实用新型专利技术提供一种分体成型的等离子源腔体结构，其包括四个分体结构，四个分体结构为分子泵真空腔、离子源主腔体、分子泵法兰和内挡板，四个分体结构相互配合组合成一体化的等离子源腔体结构；分子泵真空腔主体内表面为正圆柱体结构，主体外表面为多面体结构，其各个面体的边长相等，多面体结构的外表面起到加强固定的作用，主体外表面的柱形体上端平面上设置有圆锥形凸台，柱体一侧设有长方体空心槽，长方体空心槽内表面同为长方体，柱体下端平面上设置有两个凹槽，凹槽呈不规则形状，凹槽的轮廓与柱体、长方体空心槽下表面的轮廓重合。本实用新型专利技术通过将结构复杂的离子源腔体分割为结构简单的四个分体，使得制造工艺的难度大幅降低。大幅降低。大幅降低。

【技术实现步骤摘要】
一种分体成型的等离子源腔体结构


[0001]本技术属于半导体设备
，具体涉及一种分体成型的等离子源腔体结构。

技术介绍

[0002]离子源腔体是离子注入机的重要组成部分，离子源、引出电极、磁场线圈、分子泵等部件都需要安装在离子源腔体上，所以其结构很复杂。
[0003]中国专利申请第CN202221024061.8号公开了一种离子源腔体，其包括腔体本体，所述腔体本体的底部设有底孔、顶部设有顶孔，所述底孔的过流面积大于等于所述顶孔的过流面积。其在离子源下腔体上方设置离子源上腔体，同时离子源下腔体安装在真空腔室的顶盖上，虽然在离子源下腔体与离子源上腔体之间以及离子源下腔体与顶盖之间设置了密封结构，但仍存在泄漏风险；同时离子源下腔体与离子源上腔体之间存在装配误差，导致离子通道存在装配误差。
[0004]为了克服现有技术存在的缺陷，本申请人提出了一种一体浇注成型的离子源腔体，其能有效解决了现有技术所存在的装配误差的问题。但是离子源腔体浇筑成型后需要再对内外表面进行机加工，但是由于其结构复杂这种加工工艺难度大，工艺繁琐。
[0005]因此离子源腔体的制造工艺需要进行改进。

技术实现思路

[0006]基于现有技术存在的问题，本技术提供一种分体成型的等离子源腔体结构，本技术的离子源腔体是一种分体成型的离子源腔体，其将原有的一体腔体分割为四个分体分别制造加工，然后将四个分体通过焊接的工艺方式进行连接。
[0007]依据本技术的技术方案，本技术提供了一种分体成型的等离子源腔体结构，其包括四个分体结构，四个分体结构为分子泵真空腔、离子源主腔体、分子泵法兰和内挡板，四个分体结构相互配合组合成一体化的等离子源腔体结构；分子泵真空腔主体内表面为正圆柱体结构，主体外表面为多面体结构，主体外表面的各个面体的边长相等，多面体结构的外表面起到加强固定的作用，主体外表面的柱形体上端平面上设置有圆锥形凸台，柱体一侧设有长方体空心槽，长方体空心槽内表面同为长方体，柱体下端平面上设置有两个凹槽，凹槽呈不规则形状，凹槽的轮廓与柱体、长方体空心槽下表面的轮廓重合，每个凹槽上分别设置一个螺纹孔。
[0008]其中，分子泵真空腔用于连接离子源主腔体和分子泵法兰，分子泵真空腔用于安装分子泵，为离子源主腔体提供真空的环境。进一步地，分子泵真空腔内表面为圆柱形设计的腔体结构。
[0009]另外地，离子源主腔体是离子束的发生腔体，离子源、引出电极、磁场线圈都安装在离子源主腔体上。进一步地，充气阀、泄压阀安装在离子源主腔体上。
[0010]优选地，分子泵法兰用于连接分子泵，分子泵法兰结构设计用于适配分子泵的接
口形式。更优选地，分子泵法兰与分子泵连接的表面用于安装密封圈。
[0011]优选地，内挡板安装在分子泵真空腔和离子源主腔体连接处，靠近分子泵真空腔圆形开口的一侧。分子泵真空腔的长方形开口面与离子源主腔体的一侧长方形开口面连接，内外边缘重合。
[0012]此外，分子泵法兰与分子泵真空腔的圆形开口面连接，分子泵法兰与分子泵真空腔的圆形开口面的圆心同轴。
[0013]与现有技术相比，本技术的分体成型的等离子源腔体结构的有益技术效果如下：本技术通过将结构复杂的离子源腔体分割为结构简单的四个分体，使得制造工艺的难度大幅降低。
附图说明
[0014]图1是本技术分体成型的等离子源腔体结构的结构示意图。
[0015]图2是本技术分体成型的离子源主腔体的结构示意图。
[0016]附图中的附图标记说明：分子泵真空腔1；离子源主腔体2；分子泵法兰3；内挡板4。
具体实施方式
[0017]为使本技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术中的附图，对本技术中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0018]另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与有关技术相关的部分。在不冲突的情况下，本技术中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
[0019]需要注意，本技术中提及的“第一”、“第二”等概念仅用于对不同的装置、模块或单元进行区分，并非用于限定这些装置、模块或单元所执行的功能的顺序或者相互依存关系。
[0020]需要注意，本技术中提及的“一个”、“多个”的修饰是示意性而非限制性的，本领域技术人员应当理解，除非在上下文另有明确指出，否则应该理解为“一个或多个”。
[0021]本技术提供一种分体成型的等离子源腔体结构，其包括四个分体结构，具体为分子泵真空腔1、离子源主腔体2、分子泵法兰3和内挡板4，四个分体结构相互配合组合成如图1所示的一体化的等离子源腔体结构。
[0022]进一步地，如图2所示，分子泵真空腔1，用于连接离子源主腔体2和分子泵法兰3，其主要作用用于安装分子泵，为离子源主腔体提供真空的环境，其内表面圆柱形设计的腔体结构使气流平稳，并且使离子源主腔体2内产生的污染颗粒物在此处沉积，防止污染颗粒物进入分子泵，造成分子泵的损伤和影响分子泵的使用寿命；
[0023]离子源主腔体2，其是离子束的发生腔体，离子源、引出电极、磁场线圈都安装在离子源主腔体2上，另外充气阀、泄压阀等辅助部件也安装在此腔体上，为离子束的产生和发射提供必要的空间结构和稳定的条件；
[0024]分子泵法兰3，用于连接分子泵，其结构设计用于适配分子泵的接口形式，其与分
子泵连接的表面用于安装密封圈，起到密封的作用；
[0025]内挡板4，安装在分子泵真空腔1和离子源主腔体2连接处，靠近分子泵真空腔1圆形开口的一侧，用于阻挡离子源主腔体2内产生的污染颗粒物，防止污染颗粒物进入分子泵，造成分子泵的损伤和影响分子泵的使用寿命；
[0026]分子泵真空腔1的长方形开口面与离子源主腔体2的一侧长方形开口面连接，内外边缘重合；分子泵法兰3与分子泵真空腔1的圆形开口面连接，分子泵法兰3与分子泵真空腔1的圆形开口面的圆心同轴；内挡板4在分子泵真空腔1的内部，与其靠近离子源主腔体2的一侧内壁上方连接。
[0027]分子泵真空腔1，其主体内表面为正圆柱体结构，主体外表面为多面体结构，各个面体的边长相等，多面体结构的外表面起到加强固定的作用，其柱形体上端平面上设置有圆锥形凸台，柱体一侧设有长方体空心槽，长方体空心槽内表面同为长方体，柱体下端平面上设置有两个凹槽，凹槽呈不规则形状，其轮廓与柱体、长方体空心槽下表面的轮廓重合，每个凹槽上分别设置一个螺纹孔。
[0028]离子源主体腔2，其内表面和外表面均为长方体结构，腔体各处厚度一致，如图2所示，其主体腔面1上分布4个通孔，每个通孔的外侧圆周位置上均匀分布6个螺纹孔，面1对侧面上设有两个圆形通孔，两个通孔直径不同，直径本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种分体成型的等离子源腔体结构，其特征在于，其包括四个分体结构，四个分体结构为分子泵真空腔、离子源主腔体、分子泵法兰和内挡板，四个分体结构相互配合组合成一体化的等离子源腔体结构；分子泵真空腔主体内表面为正圆柱体结构，主体外表面为多面体结构，主体外表面的各个面体的边长相等，多面体结构的外表面起到加强固定的作用，主体外表面的柱形体上端平面上设置有圆锥形凸台，柱体一侧设有长方体空心槽，长方体空心槽内表面同为长方体，柱体下端平面上设置有两个凹槽，凹槽呈不规则形状，凹槽的轮廓与柱体、长方体空心槽下表面的轮廓重合，每个凹槽上分别设置一个螺纹孔。2.如权利要求1所述的分体成型的等离子源腔体结构，其特征在于，分子泵真空腔用于连接离子源主腔体和分子泵法兰，分子泵真空腔用于安装分子泵，为离子源主腔体提供真空的环境。3.如权利要求2所述的分体成型的等离子源腔体结构，其特征在于，分子泵真空腔内表面为圆柱形设计的腔体结构。4.如权利要求3所述的分体成型的等离子源腔体结构，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨光亮，夏世伟，李书晓，闫磊，张彦彬，
申请(专利权)人：北京凯世通半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：