一种镭雕机抽尘罩制造技术

技术编号:39343348 阅读:38 留言:0更新日期:2023-11-18 10:59
本实用新型专利技术公开了一种镭雕机抽尘罩,包括镭雕机本体,还包括吸尘件,吸尘件包括框体、除尘筒和风泵,其中框体水平套设固定在镭雕机本体的加工台上,且框体的外壁上水平固定有吸尘框,且吸尘框的内端面开口设置,且吸尘框的内端面贯穿框体的内壁设置,且吸尘框的外部连通固定有导管,除尘筒的顶端开口设置,且除尘筒的内部竖直插接有布袋,风泵设置在除尘筒的底端,且风泵与除尘筒通过连通管连通。本实用新型专利技术克服现有镭雕机对镭雕机的镭射发射镜头,主要采用风吹的方式,缺少对粉尘进行回收的装置,长时间导致灰尘累积在厂房中,造成厂房的整体洁净性变差的问题。整体洁净性变差的问题。整体洁净性变差的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种镭雕机抽尘罩


[0001]本技术涉及镭雕机
,尤其涉及一种镭雕机抽尘罩。

技术介绍

[0002]镭雕机为一种利用镭射光在待加工物体表面或内部雕刻出永久印记的机器,在加工过程中,镭射对物体的雕刻动作会产生大量扬尘,扬尘不及时清理会附着于镭射发射镜头上,降低加工精度,影响机械寿命,现有对镭雕机进行除尘的结构,多是普通风扇或普通高压气枪,朝向单一方向进行吹风携带粉尘偏离镭射发射镜头,从而保护镭雕机的镭射发射镜头。
[0003]但是上述镭雕机放置灰尘影响镭雕机的镭射发射镜头,是利用风力将灰尘吹走的方式进行除尘,虽然减少了灰尘粘附在镭雕机的镭射发射镜头上,但是粉尘在厂区空间中飘散,缺少对粉尘进行回收的装置,长时间导致灰尘累积在厂房中,造成厂房的整体洁净性变差。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种镭雕机抽尘罩,旨在改善现有镭雕机对镭雕机的镭射发射镜头,主要采用风吹的方式,缺少对粉尘进行回收的装置,长时间导致灰尘累积在厂房中,造成厂房的整体洁净性变差的问题。
[0005]本技术是这样实现的:
[0本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种镭雕机抽尘罩,包括镭雕机本体(1),其特征在于,还包括吸尘件(2),所述吸尘件(2)包括框体(21)、除尘筒(25)和风泵(26),其中框体(21)水平套设固定在镭雕机本体(1)的加工台上,且框体(21)的外壁上水平固定有吸尘框(22),且吸尘框(22)的内端面开口设置,且吸尘框(22)的内端面贯穿框体(21)的内壁设置,且吸尘框(22)的外部连通固定有导管(23),所述除尘筒(25)的顶端开口设置,且除尘筒(25)的内部竖直插接有布袋(27),所述风泵(26)设置在除尘筒(25)的底端,且风泵(26)与除尘筒(25)通过连通管连通。2.根据权利要求1所述的一种镭雕机抽尘罩,其特征在于,所述导管(23)的另一端设置有螺盖(24),且螺盖(24)与导管(23)的端部贯通固定连接。3.根据权利要求2所述的一种镭雕机抽尘罩,其特征在于,所...

【专利技术属性】
技术研发人员:李享
申请(专利权)人:上海阳宇博机电科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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