一种晶托表面抛光设备制造技术

本发明专利技术涉及抛光设备技术领域，尤其涉及一种晶托表面抛光设备，包括升降框上设有用于对晶托顶面进行抛光的顶面抛光机构，且在支撑板上设有用于推动晶托进行移动的推料机构；在升降框靠近输送辊轮端部的两侧上均固定设有第二导向杆，且第二导向杆的轴向与晶托的宽度方向一致，设置在升降框两侧的第二导向杆上均滑动地设有对称布置的侧面抛光机构；在升降框上装设有双轴气缸，且双轴气缸两侧的伸缩杆分别与不同的侧面抛光机构连接。本发明专利技术操作简单，且实现对晶托的自动化抛光处理，从而大大提高了抛光效率；并且在各个机构的配合下，在抛光的过程中以防止对晶托造成损伤，与现有的抛光设备相比，降低了生产成本。降低了生产成本。降低了生产成本。

【技术实现步骤摘要】
一种晶托表面抛光设备


[0001]本专利技术涉及抛光设备
，尤其涉及一种晶托表面抛光设备。

技术介绍

[0002]光伏切片行业主要的生产流程包括锭检、粘胶、切片、脱胶、清洗、分选六个工序，其中第四个工序脱胶可主要分为两个工序：一是将切好的硅片从晶托上取下，二是将晶托表面的胶水铲除，以实现对晶托表面进行脱胶处理。然而，仅通过脱胶处理不足以彻底去除胶水，如果去除不彻底，其表面质量直接影响到使用的性能，因此，对晶托表面进行抛光处理是非常重要的一步。
[0003]传统的抛光设备通常采用机械研磨或化学腐蚀的方式进行抛光，但这些方法存在一些问题，例如，机械研磨可能会对晶托造成损伤，而化学腐蚀则可能会对环境造成污染，此外，这些方法的抛光效率也不高，不能满足大规模生产的需求。
[0004]综上所述，新的抛光设备需要能够在不损伤晶托的情况下，实现高效、环保的抛光处理；目前，市场上已经有一些新型的抛光设备，例如采用离子束或激光抛光的设备，这些设备能够实现高精度、高效率的抛光处理，但其设备成本较高，且操作复杂，不适合大规模生产。因此，开发一种既本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种晶托表面抛光设备，其特征在于：包括支撑架体(1)，在支撑架体(1)上设有若干用于运输晶托的输送辊轮(2)；支撑板(6)置于输送辊轮(2)的上方且通过支撑杆(5)与支撑架体(1)固定设置，在支撑板(6)的下方设有升降框(7)，且在支撑板(6)上设有用于驱动升降框(7)进行上下活动的升降机构(8)；在升降框(7)上设有用于对晶托顶面进行抛光的顶面抛光机构(9)，且在支撑板(6)上设有用于推动晶托进行移动的推料机构(13)；在升降框(7)靠近输送辊轮(2)端部的两侧上均固定设有第二导向杆(10)，且第二导向杆(10)的轴向与晶托的宽度方向一致，设置在升降框(7)两侧的第二导向杆(10)上均滑动地设有对称布置的侧面抛光机构(11)；在升降框(7)上装设有双轴气缸(12)，且双轴气缸(12)两侧的伸缩杆分别与不同的侧面抛光机构(11)连接，以驱动两侧的侧面抛光机构(11)在第二导向杆(10)上进行相互靠近或相互远离地移动。2.根据权利要求1所述的一种晶托表面抛光设备，其特征在于：支撑板(6)上还设有用于对晶托表面进行喷水的喷淋机构(14)。3.根据权利要求1所述的一种晶托表面抛光设备，其特征在于：在支撑架体(1)上设有安装架(15)，且在安装架(15)上装设有距离传感器(16)，以对运输中的晶托进行距离检测。4.根据权利要求1所述的一种晶托表面抛光设备，其特征在于：在支撑架体(1)上设有若干对晶托进行限位的限位滚轮(4)，以使晶托呈直线运输。5.根据权利要求2所述的一种晶托表面抛光设备，其特征在于：升降机构(8)包括有固定设置在支撑板(6)底部的第一导向杆(801)，且第一导向杆(801)竖直向下布置，在第一导向杆(801)上滑动地设有滑块(802)，且滑块(802)与升降框(7)固定设置；在升降框(7)上设有固定块(803)，且在支撑板(6)上通过安装座(804)装设有第一步进电机(805)，第一步进电机(805)的输出轴朝下布置，且输出轴上设有第一丝杆(806)，第一丝杆(806)与固定块(803)螺纹连接。6.根据权利要求1所述的一种晶托表面抛光设备，其特征在于：顶面抛光机构(9)包括有通过...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡运俊，赵江风，姚禄华，李成，阮清山，
申请(专利权)人：东莞市鼎力自动化科技有限公司，
类型：发明
国别省市：