【技术实现步骤摘要】
一种体声波谐振器及其制备方法、滤波器和电子设备
[0001]本专利技术涉及电子通信
,更具体地,涉及一种体声波谐振器及其制备方法、滤波器和电子设备。
技术介绍
[0002]薄膜腔声谐振滤波器(filmbulkacousticresonator,FBAR)作为射频(Radio Frequency,RF)前端的核心器件之一,正在受到越来越大的关注,主要是因为FBAR滤波器的高功率、高带宽以及优异的滚降等性能,可以很好的满足当下对于射频性能的需求。特别是和SAW(surfaceacousticwave,声表面波)滤波器相比,FABR滤波器的高功率方面有很大的优势,因为FBAR属于体声波的纵波传播方式,可以利用AlN材料优异的e33性能,对声波能量有更好的转化。
[0003]然而,对于FBAR来说,压电层材料和电极材料并非是完美的Z轴晶型取向的完美单晶,因此会存在一定的缺陷,从而导致纵波传播过程会耦合出横波。如果不对这部分能量进行限制,其就会从横向泄露出去,进而降低谐振器的品质因数(Q值)。
[0004]为了限制能量的横向泄露,现有技术一般是顶电极附近设置边界结构,也就是设置空气环结构和框架结构,以限制谐振器边缘的震动并增加横向声波的反射,从而提升Q值。现有的空气环结构和框架结构一般被设置在压电层(即,PZ层)和顶电极之间或者设置在PZ中。然而,这几种设置方式虽然也可以减少横向能量的泄露,但是其只能是限制一种膜层内的能量的泄露。进一步而言,无论是将空气环结构和框架结构设置在PZ层和顶电极之间,还是设置在 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种体声波谐振器,其特征在于,包括:衬底(10),所述衬底(10)一侧形成有声学镜(19);底电极(12),形成在所述声学镜(19)上方,并覆盖所述声学镜(19),其中所述底电极(12)的面向所述声学镜(19)的面是水平的,并且所述底电极(12)下方形成有种子层;压电层(13),形成在所述底电极(12)上方,并覆盖所述底电极(12);以及顶电极(16),形成在所述压电层(13)上方;其中所述体声波谐振器还包括框架结构,形成在所述体声波谐振器的边缘,使得所述体声波谐振器的边缘的厚度大于所述体声波谐振器的中央区域的厚度,其中所述框架结构包括第一框架结构和第二框架结构,所述第一框架结构形成在所述压电层(13)内部,所述第二框架结构形成在所述压电层(13)上方,所述第一框架结构和所述第二框架结构彼此连通。2.根据权利要求1所述的体声波谐振器,其特征在于,所述体声波谐振器还包括:空气环结构(14),形成在所述体声波谐振器的边缘,所述空气环结构(14)和所述框架结构配在所述体声波谐振器的非连接边形成翼式结构,所述空气环结构(14)和所述框架结构配合在所述体声波谐振器的连接边形成桥式结构。3.根据权利要求2所述的体声波谐振器,其特征在于,所述第一框架结构的外边界在所述空气环结构(14)的内边界以里;以及所述第一框架结构的内边界与所述第二框架结构的内边界平齐、在所述第二框架结构的内边界以外或在所述第二框架结构的内边界以里。4.根据权利要求2所述的体声波谐振器,其特征在于,所述第一框架结构的外边界与所述空气环结构(14)的内边界平齐;以及所述第一框架结构的内边界与所述第二框架结构的内边界平齐、在所述第二框架结构的内边界以外或在所述第二框架结构的内边界以里。5.根据权利要求2所述的体声波谐振器,其特征在于,所述第一框架结构的外边界在所述空气环结构(14)的内边界以外;以及所述第一框架结构的内边界与所述第二框架结构的内边界平齐、在所述第二框架结构的内边界以外或在所述第二框架结构的内边界以里。6.根据权利要求2至5中任一项所述的体声波谐振器,其特征在于,所述空气环结构(14)包括第一空气环结构和第二空气环结构,其中所述第一空气环结构形成在所述压电层(13)内部且与所述第一框架结构相接触,所述第二空气环结构形成在所述压电层(13)上方且与所述第二框架结构相接触,所述第一空气环结构和所述第二空气环结构彼此连通。7.根据权利要求6所述的体声波谐振器,其特征在于,所述第一空气环结构的外边界在所述声学镜(19)的边界以外。8.一种制备体声波谐振器的方法,其特征在于,包括:在衬底(10)的一侧形成声学镜(19);在所述声学镜(19)上方形成覆盖所述声学镜(19)的底电极(12),其中将所述底电极(12)的面向所述声学镜(19...
【专利技术属性】
技术研发人员:万晨庚,
申请(专利权)人:北京芯溪半导体科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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