防眩层及其制作方法技术

本发明专利技术提供一种防眩层及其制作方法。防眩层的制作方法包括提供基板，涂布防眩材料层于基板上，以及通过灰阶光罩对防眩材料层进行光刻工艺，以形成防眩层，其中防眩层包括多个高度不同的凸出结构。度不同的凸出结构。度不同的凸出结构。

【技术实现步骤摘要】
防眩层及其制作方法


[0001]本专利技术涉及一种防眩表面及其制作方法，尤其涉及一种防眩层及其制作方法。

技术介绍

[0002]一般而言，显示设备的表面通常会设置防眩层，以减少使用者因眩光导致的视觉不适，而降低对显示设备的整体体验。常见的防眩层的制作方式包括利用喷淋粒子的方式或是钢板压印的方式，以在表面形成凹凸结构，使光线散射，进而达到防眩的效果。然而，利用喷淋粒子的方式所制造的防眩层，因其粒子随机分布，而无法生产具有相同表面结构及表面粗糙度的防眩层，导致防眩层的质量不稳定。此外，以钢板压印的方式制作的防眩层，压印的钢版虽具固定图案，但压印材料具有流动性，因此每次压印的图案并不相同，也无法生产具有相同表面结构及表面粗糙度的防眩层，导致防眩层的质量不稳定。

技术实现思路

[0003]本专利技术是针对一种防眩层及其制作方法，其易于量化并使防眩层的结构具有再现性，进而使防眩层的质量稳定。
[0004]根据本专利技术的实施例，本专利技术的防眩层的制作方法包括提供基板，涂布防眩材料层于基板上，以及通过灰阶光罩对防眩材料层进行光刻工艺，以形成防眩层，其中防眩层包括多个高度不同的凸出结构。
[0005]在根据本专利技术的实施例的防眩层的制作方法中，上述的光刻工艺还形成防眩层的连续部，连续部连续的延伸于凸出结构之间。
[0006]在根据本专利技术的实施例的防眩层的制作方法中，上述的光刻工艺还将防眩层的凸出结构分隔开来。
[0007]在根据本专利技术的实施例的防眩层的制作方法中，上述的光刻工艺还将防眩层形成为具有在0.5μm至2μm之间的表面粗糙度。
[0008]在根据本专利技术的实施例的防眩层的制作方法中，上述的光刻工艺还将防眩层中相邻的凸出结构分隔小于1mm的距离。
[0009]在根据本专利技术的实施例的防眩层的制作方法中，上述的光刻工艺还将防眩层中凸出结构形成为具有高度在0.1μm至10μm之间或宽高比在0至1之间。
[0010]在根据本专利技术的实施例的防眩层的制作方法中，上述的防眩层的材料包括光敏感性树脂。
[0011]在根据本专利技术的实施例的防眩层的制作方法中，上述的光刻工艺还将防眩层中凸出结构形成为具有包括矩形或梯形的截面形状。
[0012]在根据本专利技术的实施例的防眩层的制作方法中，上述的灰阶光罩包括至少四种透光率不同的区域。
[0013]在根据本专利技术的实施例的防眩层的制作方法中，上述的光刻工艺还将防眩层中凸出结构形成为包括至少四种不同的高度，分别对应灰阶光罩的至少四种透光率不同的区
域。
[0014]在根据本专利技术的实施例的防眩层的制作方法中，还包括将防眩层设置于电子装置的外表面，其中凸出结构向外凸出。
[0015]根据本专利技术的实施例，本专利技术的防眩层包括基板以及多个凸出结构。多个凸出结构设置于基板上，其中多个凸出结构由光刻工艺制成，且相邻的凸出结构的分隔距离小于1mm。
[0016]在根据本专利技术的实施例的防眩层中，上述的防眩层还包括连续部，设置于基板上，且连续的延伸于凸出结构之间。
[0017]在根据本专利技术的实施例的防眩层中，上述的防眩层的表面粗糙度在0.5μm至2μm之间。
[0018]在根据本专利技术的实施例的防眩层中，上述的多个凸出结构具有至少四种不同的高度。
[0019]在根据本专利技术的实施例的防眩层中，上述的多个凸出结构的高度介于0.1μm至10μm之间或宽高比介于0至1之间。
[0020]在根据本专利技术的实施例的防眩层中，上述的多个凸出结构的材料包括光敏感性树脂。
[0021]在根据本专利技术的实施例的防眩层中，上述的多个凸出结构具有包括矩形或梯形的截面形状。
[0022]基于上述，本专利技术利用灰阶光罩并以光刻工艺制作防眩层，因此使防眩层的结构可具有再现性且易于量化，进而可使防眩层的质量稳定。
附图说明
[0023]图1至图2是依照本专利技术的一实施例的一种防眩层的制作流程的剖视示意图；
[0024]图3是依照本专利技术的另一实施例的一种防眩层的制作流程的剖视示意图。
[0025]附图标记说明
[0026]100、200:防眩层
[0027]110、210:基板
[0028]120、120a、120b、120c、120d、220、220a、220b、220c:凸出结构
[0029]130:电子装置
[0030]222:连续部
[0031]d1:第一距离
[0032]d2:第二距离
[0033]d3:第三距离
[0034]h1、h1
’
:第一高度
[0035]h2、h2
’
:第二高度
[0036]h3、h3
’
:第三高度
[0037]h4、h4
’
:第四高度
[0038]M1、M2:灰阶光罩
[0039]R1:第一区
[0040]R2:第二区
[0041]R3:第三区
[0042]R4:第四区
[0043]R5:第五区
具体实施方式
[0044]现将详细地参考本专利技术的示范性实施例，示范性实施例的实例说明于附图中。只要有可能，相同组件符号在附图和描述中用来表示相同或相似部分。
[0045]图1至图2是依照本专利技术的一实施例的一种防眩层的制作流程的剖视示意图。
[0046]请参照图1，首先提供基板110，基板110可以为透光基板。举例来说，基板110的材质可以为聚对苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate，PET)、聚甲基丙烯酸甲酯(poly(methyl methacrylate)，PMMA)、聚碳酸酯(polycarbonate，PC)、聚酰亚胺(Polyimide，PI)、聚合体基复材(polymer matrix composite，PMC)、玻璃或其他合适的透光材料。在一实施例中，基板110也可以为电子装置的外基板，例如显示设备的保护盖板等，本专利技术不以此为限。
[0047]请继续参照图1，涂布防眩材料层(未示出)于基板110上，且通过灰阶光罩M1对防眩材料层进行光刻工艺，以形成防眩层100，其中防眩层100包括多个高度不同的凸出结构120。举例来说，防眩材料层可以通过旋转涂布的方式形成于基板110上，防眩材料层(或凸出结构120)可为透光材质，其材料包括光敏感性树脂，例如光阻，但本专利技术不以此为限。
[0048]灰阶光罩M1包括至少四种透光率不同的区域，以使防眩材料层在进行光刻工艺后，同时于基板110上产生至少四种不同高度的凸出结构120。举例来说，在本实施例中，灰阶光罩M1包括第一区R1、第二区R2、第三区R3、第四区R4及第五区R5。第一区R1的透光率大于第二区R2的透光率，第二区R2的透光率大于第三区R3的透光率，第三区R3的透光率大于第四区R4的透光率，第四区R4的透光率大于第五区R5的透光率，第五区R5本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种防眩层的制作方法，其特征在于，包括：提供基板；涂布防眩材料层于所述基板上；以及通过灰阶光罩对所述防眩材料层进行光刻工艺，以形成所述防眩层，其中所述防眩层包括多个高度不同的凸出结构。2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述光刻工艺还形成所述防眩层的连续部，所述连续部连续的延伸于所述凸出结构之间。3.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述光刻工艺还将所述防眩层的所述凸出结构分隔开来。4.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述光刻工艺还将所述防眩层形成为具有在0.5μm至2μm之间的表面粗糙度。5.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述光刻工艺还将所述防眩层中相邻的所述凸出结构分隔小于1mm的距离。6.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述光刻工艺还将所述防眩层中所述凸出结构形成为具有高度介于0.1μm至10μm之间或宽高比介于0至1之间。7.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述凸出结构的材料包括光敏感性树脂。8.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述光刻工艺还将所述防眩层中所述凸出结构形成为具有包括矩形或梯形的截面形状。9.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述灰阶光罩包括至少四种透光率不同...

【专利技术属性】
技术研发人员：张建兴，
申请(专利权)人：川奇光电科技扬州有限公司，
类型：发明
国别省市：