一种氧化铝表面包覆的复方祛痘珍珠粉制造技术

本发明专利技术涉及一种化妆品，具体是一种氧化铝表面包覆的复方祛痘珍珠粉，是将ＰＥＧ－１０００、复方珍珠粉、偏铝酸钠溶液和硫酸溶液经过打浆、研磨、包膜处理、水洗、干燥、气流粉碎后而制成；所述复方珍珠粉是将植物提取液喷淋至粒径小于２００纳米的纳米珍珠粉上，经过干燥、粉碎而制成；所述植物提取液是金盏花提取液、马齿苋提取液、芦荟提取液、甘草提取液的混合液。本发明专利技术工艺简单，所提供的二氧化硅包覆的复方美白珍珠粉包膜效果好，包膜完整，颗粒之间无絮状物，可以广泛应用到化妆品中的乳剂和霜剂中，有利于促进化妆品与珍珠、中药的结合发展，大大的拓宽的珍珠粉在化妆品中的应用范围。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属化妆品领域，具体是一种氧化铝表面包覆的复方祛痘珍珠粉。
技术介绍
珍珠一直被公认为美容佳品，其美容机理是珍珠中含有各种人体所需的氨基酸和 微 量元素，珍珠中含有的营养成分与人类肌肤所需养分接近，很容易被人体吸收，具有很好 的美容保健的效果。珍珠经加工后制备的珍珠粉是运用珍珠美容最普遍的一种方式。珍珠粉在化妆品中的应用受到很大的限制，因为珍珠粉中含有90%以上的碳酸 钙，碳酸钙是一种破乳剂，可以破坏化妆品的乳化体系；珍珠粉中含有二十多种微量元素， 直接添加到化妆品中会极大的增加化妆品的离子强度，破坏化妆品的乳化体系和悬浮体 系。以上原因限制了珍珠粉开放性在化妆品中的添加使用，影响了化妆品与珍珠的结合发 展，导致化妆品的美容营养性能难于取得突破性的进展，阻滞化妆品行业的发展。
技术实现思路
本专利技术的目的是针对现有技术的不足而提供一种氧化铝表面包覆的复方祛痘珍 珠粉，通过对珍珠粉进行氧化铝表面包覆，不仅使珍珠粉中含有的碳酸钙和微量元素处于 一个密闭的空间，还使其表面具有亲水性，可以直接添加到化妆品中，使珍珠粉在美容方面 的使用更为方便和广泛。本专利技术采用的包覆原理氧化铝表面包覆反应主要是中和沉淀反应，其反应方程 式如下2NaA103+H2S04+ (x_l) H2O — Al2O3. xH20+Na2S04将纳米级珍珠粉打浆使纳米级珍珠粉充分分散，比表面积增大，当反应析出水合 氧化铝的时候，析出的水合氧化铝会吸附在纳米级珍珠粉表面，通过陈化使吸附较牢固，水 洗时不会洗去纳米级珍珠粉表面的水合氧化铝。经过烘干加热的时候，珍珠粉表面的水合 氧化铝脱去水分，在纳米级珍珠粉表面生产氧化铝，即对珍珠粉形成了氧化铝表面包覆，通 过电镜检测其包覆效果。本专利技术所采用的技术方案一种氧化铝表面包覆的复方祛痘珍珠粉，是将PEG-1000、复方珍珠粉、60g/L偏铝 酸钠溶液和10. 7%硫酸溶液经过打浆、研磨、包膜处理、水洗、干燥、气流粉碎后而制成，其 中按质量比计各组分的份数比例为PEG-10003.5 5复方珍珠粉0.8 1.560g/L偏铝酸钠溶液 0. 8 1. 510. 7%硫酸溶液0.8 1.5所述复方珍珠粉是将金盏花提取液、马齿苋提取液、芦荟提取液和甘草提取液混 合后喷淋至粒径小于200纳米的纳米珍珠粉上，经过干燥、粉碎而制成，其原料按重量百分比计分别为金盏花提取液5% 9%、马齿苋提取液5% 9%、芦荟提取液5% 9%、甘 草提取液5 % 9 %，余量为纳米珍珠粉。一种上述氧化铝表面包覆的复方祛痘珍珠粉的制备方法，其步骤如下 1、按配比取金盏花提取液、马齿苋提取液、芦荟提取液、甘草提取液进行混合得到 混合液，取粒径小于200纳米的纳米珍珠粉铺成薄薄的一层，然后把混合液均勻喷淋在纳 米珍珠粉上，经烘干、粉碎得到复方珍珠粉。2、按配比取PEG-1000加入搅拌锅中，加热至40 50°C，加入复方珍珠粉，搅拌均 勻制成珍珠粉浆液，将珍珠粉浆液进行碾磨充分后加入搅拌锅中，加热至80°C 85°C，在 加入速度保持一致的条件下缓慢加入60g/L的偏铝酸钠溶液和10. 7%的硫酸，搅拌后降温 至40°C以下，放出料液，陈化45 55小时后水洗过滤，烘干并通过气流粉碎即得到氧化铝 表面包覆的复方祛痘珍珠粉。本专利技术对复方珍珠粉进行氧化铝表面包覆，经电镜检测包覆后的粒子表面光滑， 界面清晰，说明包膜效果良好，为致密包膜；颗粒之间无絮状物，说明包膜完整。所得的氧化 铝表面包覆的珍珠粉可以广泛应用到化妆品中的乳剂和霜剂中，大大的拓宽的珍珠粉在化 妆品中的应用范围，使珍珠粉能够更好的在化妆品中发挥美容功效。为了解氧化铝表面包覆的复方祛痘珍珠粉在化妆品中的应用情况，以实验方式对 化妆品中添加氧化铝表面的复方祛痘珍珠粉后的稳定性进行检验，针对的化妆品剂型包括 乳剂和霜剂，检测项目包括添加氧化铝表面包覆的复方祛痘珍珠粉后样品及原样品的PH 值、粘度、耐寒稳定性和耐热稳定性。列表如下 其中1#样品为原样品。2#样品为添加氧化铝表面包覆的复方祛痘珍珠粉的珍珠祛痘膏。最终实验结论如下1、pH值添加氧化铝表面包覆的复方祛痘珍珠粉后样品及原样品的pH值无明显 变化；2、粘度添加氧化铝表面包覆的复方祛痘珍珠粉后样品及原样品的粘度值无明显 变化；3、耐热稳定性加氧化铝表面包覆的复方祛痘珍珠粉后样品及原样品的耐热稳定 性无明显变化；4、耐寒稳定性加氧化铝表面包覆的复方祛痘珍珠粉后样品及原样品的耐寒稳定 性无明显变化。实验结果显示氧化铝表面包覆的复方祛痘珍珠粉可以广泛运用到化妆品中的乳 剂和霜剂中，对化妆品本身的PH值、粘度、耐寒稳定性和耐热稳定性无不良影响。本专利技术工艺简单，所提供的氧化铝表面包覆的复方祛痘珍珠粉包膜效果好，包膜 完整，颗粒之间无絮状物，可以广泛应用到化妆品中的乳剂和霜剂中，有利于促进化妆品与 珍珠、中药的结合发展，大大的拓宽的珍珠粉在化妆品中的应用范围。具体实施例方式下面用非限定实施例对本专利技术作进一步说明。实施例一、取粒径小于200纳米珍珠粉25kg平铺成薄层，取金盏花提取液、马齿苋提取液、芦 荟提取液、甘草提取液各2kg，将提取液混勻后，喷淋至珍珠粉上，烘干并气流粉碎即得到复 方珍珠粉； 取200kg的PEG-1000加入搅拌锅中，加热至45°C，加入上述气流粉碎好的复方珍 珠粉，搅拌均勻制成珍珠粉浆液，将珍珠粉浆液加入胶体磨碾磨充分，加入搅拌锅中，加热， 使温度保持在80°C至85°C之间，在加入速度保持一致的条件下缓慢加入60g/L的偏铝酸钠 溶液50kg和10. 7%的硫酸50kg，搅拌60分钟后降温至40°C以下，放出料液，陈化48小时 后水洗过滤，烘干并通过气流粉碎即得到氧化铝表面包覆的复方祛痘珍珠粉。实施例二、取粒径小于200纳米珍珠粉38kg平铺成薄层，取金盏花提取液、马齿苋提取液、芦 荟提取液、甘草提取液各3kg，将提取液混勻后，喷淋至珍珠粉上，烘干并气流粉碎即得到复 方珍珠粉；取170kg的PEG-1000加入搅拌锅中，加热至45°C，加入上述气流粉碎好的复方珍 珠粉，搅拌均勻制成珍珠粉浆液，将珍珠粉浆液加入胶体磨碾磨充分，加入搅拌锅中，加热， 使温度保持在80°C至85°C之间，在加入速度保持一致的条件下缓慢加入60g/L的偏铝酸钠 溶液40kg和10. 7%的硫酸40kg，搅拌60分钟后降温至40°C以下，放出料液，陈化48小时 后水洗过滤，烘干并通过气流粉碎即得到氧化铝表面包覆的复方祛痘珍珠粉。权利要求一种氧化铝表面包覆的复方祛痘珍珠粉，其特征在于是将PEG-1000、复方珍珠粉、60g/L偏铝酸钠溶液和10.7％硫酸溶液经过打浆、研磨、包膜处理、水洗、干燥、气流粉碎后而制成，其中按质量比计各组分的份数比例为PEG-1000 3.5～5复方珍珠粉 0.8～1.560g/L偏铝酸钠溶液0.8～1.510.7％硫酸溶液 0.8～1.5所述复方珍珠粉是将金盏花提取液、马齿苋提取液、芦荟提取液和甘草提取液混合后喷淋至粒径小于200纳米的纳米珍珠粉上，经过干燥、粉碎而制成，其原料按重量百分比计分别为金盏花提取液5％～9％、马齿苋提取液5％～9％、芦荟提取液5％～9％、甘草提取液5％～9％，余量为本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种氧化铝表面包覆的复方祛痘珍珠粉，其特征在于：是将ＰＥＧ－１０００、复方珍珠粉、６０ｇ／Ｌ偏铝酸钠溶液和１０．７％硫酸溶液经过打浆、研磨、包膜处理、水洗、干燥、气流粉碎后而制成，其中按质量比计各组分的份数比例为：ＰＥＧ－１０００３．５～５复方珍珠粉０．８～１．５６０ｇ／Ｌ偏铝酸钠溶液０．８～１．５１０．７％硫酸溶液０．８～１．５所述复方珍珠粉是将金盏花提取液、马齿苋提取液、芦荟提取液和甘草提取液混合后喷淋至粒径小于２００纳米的纳米珍珠粉上，经过干燥、粉碎而制成，其原料按重量百分比计分别为：金盏花提取液５％～９％、马齿苋提取液５％～９％、芦荟提取液５％～９％、甘草提取液５％～９％，余量为纳米珍珠粉。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：周树立，
申请(专利权)人：海南京润珍珠生物技术股份有限公司，
类型：发明
国别省市：66[中国|海南]