一种通用分体式真空吸盘制造技术

本发明专利技术是一种通用分体式真空吸盘，其结构包括基座和吸盘本体。所述基座外接气压阀，通过气压阀开关获得真空负压。吸盘本体为方形或圆形，方形吸盘和圆形吸盘应根据零件形状来进行选择。方形吸盘或圆形吸盘位于基座正上方，通过连接螺栓固定于基座上。同时两者连接处有密封条，当吸盘处于真空状态时，密封条能有效密封，防止漏气，使吸盘处于理想的真空状态。该通用分体式真空吸盘的吸盘本体与基座采取分离设计，可快速调节吸附区域来适应不同零件的装夹，亦可针对特定零件定制专用吸盘，快速方便，性价比高。性价比高。性价比高。

【技术实现步骤摘要】
一种通用分体式真空吸盘


[0001]本专利技术属于数控加工领域，具体为一种通用分体式真空吸盘。

技术介绍

[0002]随着数控机床制造技术的快速发展，现代制造业也步入了飞速发展的时代。与此同时，现在对零件设计的要求也越来越高，不但要考虑力学及使用性能，还要兼顾美学还有整体性，因此零件的外形也日益复杂，零件在加工制造过程中装夹难度也随之增大。而一种良好的装夹方案将大大降低零件的制造难度，提高加工效率与加工精度。因此，亟需设计一种能够灵活装夹各种异形零件的通用夹具，来解决复杂零部件在加工制造过程中装夹困难的问题。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的旨在提供一种通用真空吸盘夹具，适用于各种异形零部件，能够快速、灵活方便地装夹各种复杂外形的零件。
[0004]本专利技术采用的技术方案如下：
[0005]一种通用体式真空吸盘，所述通用体式真空吸盘包括基座和吸盘本体；所述吸盘本体与基座之间可拆卸式相连；所述基座外接气压阀，通过开关气压阀使得吸盘本体获得真空负压；所述吸盘本体上端均匀分布有吸附孔，吸附孔周围分布有吸附槽。
[0006]进一步的，所述吸盘本体位于基座正上方；所述吸盘本体为方形吸盘或圆形吸盘。
[0007]进一步的，当吸盘本体为方形吸盘时，所述方形吸盘上的每个吸附孔周围分布方形的吸附槽，每个吸附孔周围的吸附槽都是独立不相通的，每个吸附孔只有固定的吸附区域，通过堵上部分吸附孔可以实现吸附区域的调节，以用于方形零部件的装夹。
[0008]进一步的，当吸盘本体为圆形吸盘时，圆形吸盘上的每个吸附孔周围分布扇形的吸附槽，吸盘吸附区域可以根据零件形状和大小，通过堵上部分吸附孔实现吸附区域的调节，进行调节，以用于实现圆形零件的装夹。
[0009]进一步的，所述基座呈正方形，中间设置有十字筋，十字筋上端设有密封槽；使用时，密封槽内装设密封条。
[0010]当装夹工件时，吸盘本体处于真空状态，密封条能有效密封，防止漏气，使吸盘本体处于理想的真空状态。并且基座中部的十字筋能够有效地对吸盘本体进行支撑，防止其因为空气压力而产生变形。
[0011]方形吸盘和圆形吸盘均与基座采取分离设计，面对不同的零件，可快速更换为方形吸盘或圆形吸盘，亦可根据不同类型零件定制不同吸盘，快速方便，性价比高。
[0012]本专利技术具有以下有益效果：
[0013]1.本专利技术能够根据不同的工件结构和工件尺寸自由切换吸附形状以及吸附区域，方便快捷，大大提高了加工效率。
[0014]2.本专利技术采用吸盘本体与基座分离的方式，亦可根据特殊的工件结构定制专用的
吸盘本体，大大降低了装夹成本。
[0015]3.本专利技术结构简单，操作便捷，在提高加工效率的同时能够一定程度的减小装夹误差，提高产品质量。
附图说明
[0016]图1为基座示意图。
[0017]图2为方形吸盘示意图。
[0018]图3为圆形吸盘示意图。
具体实施方式
[0019]以下结合附图对本专利技术的具体实施例进行以下说明。
[0020]如图1
‑
3所示，一种通用分体式真空吸盘，其主体结构包括基座1和吸盘本体，所述吸盘本体为方形吸盘2或圆形吸盘3。
[0021]所述基座1外接气压阀，通过气压阀开关获得真空负压。
[0022]所述方形吸盘2或圆形吸盘3位于基座正上方并分别通过螺钉与基座1相连。两者连接处有密封条，当吸盘本体处于真空状态时，密封条能有效密封，防止漏气，使吸盘本体处于理想的真空状态。
[0023]所述方形吸盘2和圆形吸盘3上方有均匀分布的吸附孔，当部分吸附孔被堵上时，吸盘的吸附区域也相应改变。因此可以根据不同的零件外形而改变吸附区域，从而实现各种异形零件的装夹。
[0024]同时该分体式真空吸盘的吸盘部分与基座采取分离设计，面对不同零件，可快速更换吸盘，亦可根据特定零件定制专用吸盘，快速方便，性价比高。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种通用体式真空吸盘，其特征在于：所述通用体式真空吸盘包括基座(1)和吸盘本体；所述吸盘本体与基座(1)之间可拆卸式相连；所述基座(1)外接气压阀，通过开关气压阀使得吸盘本体获得真空负压；所述吸盘本体上端均匀分布有吸附孔，吸附孔周围分布有吸附槽。2.根据权利要求1所述的一种通用分体式真空吸盘，其特征在于：所述吸盘本体位于基座(1)正上方；所述吸盘本体为方形吸盘(2)或圆形吸盘(3)。3.根据权利要求2所述的一种通用分体式真空吸盘，其特征在于：当吸盘本体为方形吸盘(2)时，所述方形吸盘(2)上的每个吸附孔周围分布方形的吸附槽，每个吸附...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨燕华，吕启东，冯国，黄小龙，钱静，郭进，
申请(专利权)人：中国科学院光电技术研究所，
类型：发明
国别省市：