一种光学增透膜的制备方法技术

本发明专利技术提供一种光学增透膜的制备方法，包括：提供衬底层；在衬底层的一侧表面进行增透膜子膜层循环；增透膜子膜层包括：使用原子层沉积的方式，形成第一膜；使用原子层沉积的方式并在形成所述第一膜的同等温度下，在所述第一膜背离衬底层的一侧形成第二膜；所述第二膜的结晶温度大于所述第一膜的结晶温度；循环N次增透膜子膜层，其中，第一膜形成于前一循环中形成的第二膜背离衬底层的一侧表面；在增透膜子膜层循环结束后，在距离衬底层最远的第二膜背离衬底层一侧表面形成第一膜。本发明专利技术提供的光学增透膜的制备方法能够提高增透膜的透光率。光率。光率。

【技术实现步骤摘要】
一种光学增透膜的制备方法


[0001]本专利技术涉及薄膜
，具体涉及一种光学增透膜的制备方法。

技术介绍

[0002]增透膜是应用最广、产量最大的一种光学薄膜，它的主要功能是减少或消除透镜、棱镜、平面镜等光学器件表面的反射光，从而增加这些元件的透光量，减少或消除系统的杂散光，所以增透膜的重要表征指标为透光率。晶粒是指组成多晶体的外形不规则的小晶体。晶粒尺寸是指单位体积(或单位面积)内的晶粒数目或晶粒的平均线长度(或直径)表示。膜层的结晶程度是影响增透膜光学性能的关键因素之一，例如，结晶程度高的膜层会导致光在膜层传输过程中被晶粒散射和吸收，降低透光率，影响光学性能。影响增透膜的结晶程度和晶粒尺寸的关键因素包括：增透膜材质、增透膜厚度等。
[0003]原子层沉积技术(Atomic layer deposition ALD)是以近乎单原子膜形式一层一层的镀在衬底层表面的方法，因此原子层沉积技术对增透膜厚度的控制具有明显优势。然而，当增透膜厚度达到一定程度时，受增透膜自身材质特性的影响，增透膜的结晶程度较高，增大了光在传输过程中被晶粒散射本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学增透膜的制备方法，其特征在于，包括：提供衬底层；在所述衬底层的一侧表面进行增透膜子膜层循环；所述增透膜子膜层包括：使用原子层沉积的方式，形成第一膜；使用原子层沉积的方式并在形成所述第一膜的同等温度下，在所述第一膜背离所述衬底层的一侧形成第二膜；所述第二膜的结晶温度大于所述第一膜的结晶温度；循环N次所述增透膜子膜层，其中，所述第一膜形成于前一循环中形成的所述第二膜背离所述衬底层的一侧表面；在增透膜子膜层循环结束后，在距离所述衬底层最远的所述第二膜背离所述衬底层一侧表面形成第一膜。2.根据权利要求1所述的光学增透膜的制备方法，其特征在于，所述增透膜子膜层循环的次数N为大于等于0的自然数。3.根据权利要求1所述的光学增透膜的制备方法，其特征在于，所述第一膜的厚度为5nm
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15nm时，使用原子层沉积形成所述第二膜。4.根据权利要求1所述的光学增透膜的制备方法，其特征在于，光学增透膜中的全部所述第一膜的总厚度为10nm
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80nm。5.根据权利要求1所述的光学增透膜的制备方法，其特征在于，所述第一膜包括二氧化钛膜、氧化锌膜、氧化铟膜或氧化锡膜。6.根据权利要求1所述的光学增透膜的制备方法，其特征在于，形成所述第一膜的步骤包括：向原子层沉积设备的反应腔内脉冲交替通入第一前驱体、第二前驱体；通入所述第一前驱体的脉冲时间为0.5s
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5s，通入所述第二前驱体的脉冲时间为0.5s
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5s；所述第一前驱体包括第一金属化合物，所述第二前驱体包括第一氧化剂；所述第一金属化合物包括四(二甲氨基)钛、四(乙基甲基胺基)钛、四氯化钛、二乙基锌、二甲基锌、三甲基铟、或四氯化锡；所述第一氧化剂包括水、氧气或臭氧。7.根据权利要求6所述的光学增透膜的制备方法，其特征在于，形成所述第一膜的步骤还包括：在脉冲交替通入所述第一前驱体、所述第二前驱体的过程中，始终向原子层沉积设备的反应腔内通入第一载气；其中，向原子层沉积设备的反应腔内通入所述第一前驱体之后、通入所述第二前驱体之前，通入的所述第一载气进行第一吹扫处理；向原子层沉积设备的反应腔内通入所述第二前驱体之后、...

【专利技术属性】
技术研发人员：糜珂，李翔，袁红霞，李鹏，强慧，
申请(专利权)人：江苏微导纳米科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：