一种高精度电容测量方法技术

技术编号:39274356 阅读:8 留言:0更新日期:2023-11-07 10:52
本发明专利技术公开了一种高精度电容测量方法,涉及电容智能加工技术领域,包括:筛选与电容器电容大小相关的若干个相关加工参数;获得相关加工参数设定数组;获取相关加工参数实时数组;计算相关加工参数组偏差指标;判断相关加工参数组偏差指标是否大于预设值;对判定为不合格风险高的批次的电容进行全测量,对于判定为不合格风险低的批次的电容进行抽检;进行分析获取电容统计数据;判断电容器加工产线是否需要进行检修。本发明专利技术的优点在于:本方案极大地增加了对于电容器测量过程中的不良检出精准度,降低不良电容器流出厂的概率,同时实现了电容器加工产线的预先检修,保证电容器加工的稳定性。的稳定性。的稳定性。

【技术实现步骤摘要】
一种高精度电容测量方法


[0001]本专利技术涉及电容智能加工
,具体是涉及一种高精度电容测量方法。

技术介绍

[0002]电容器是储存电量和电能(电势能)的元件。一个导体被另一个导体所包围,或者由一个导体发出的电场线全部终止在另一个导体的导体系,称为电容器,电容器的电容大小是电容器的重要指标。
[0003]为提高电容器的出厂质量,降低电容的出厂不良率,在电容器加工完成后,需要对电容器进行电容测量,而由于电容器的生产数量通常很大,因此只能进行采用抽检的方式进行电容器的电容测量,现有技术中针对于电容器的测量不够智能,难以根据电容加工工序的完成质量进行针对性的设置抽检比例,抽检筛选的电容器不良率不够精准,此外,缺乏对于电容器测量数据的智能分析,难以及时的识别出电容器加工产线中可能存在的隐含故障风险。

技术实现思路

[0004]为解决上述技术问题,提供一种高精度电容测量方法,本技术方案解决了上述的现有技术中针对于电容器的测量不够智能,难以根据电容加工工序的完成质量进行针对性的设置抽检比例,抽检筛选的电容器不良率不够精准,此外,缺乏对于电容器测量数据的智能分析,难以及时的识别出电容器加工产线中可能存在的隐含故障风险的问题。
[0005]为达到以上目的,本专利技术采用的技术方案为:一种高精度电容测量方法,包括:从数据库中调取电容器的历史加工数据,并基于电容器的历史加工数据进行筛选与电容器电容大小相关的若干个加工参数,记为相关加工参数;基于加工的电容器设计属性,确定每个相关加工参数的设定参数值,获得相关加工参数设定数组;实时监测每一批次电容器加工过程中的相关加工参数的参数值,获取相关加工参数实时数组;计算相关加工参数实时数组与相关加工参数设定数组之间的向量距离,作为相关加工参数组偏差指标;判断相关加工参数组偏差指标是否大于预设值,若是,则判定当前批次电容不合格风险高,若否,则判定当前批次电容不合格风险低;对判定为不合格风险高的批次的电容进行全测量,对于判定为不合格风险低的批次的电容进行抽检;设定统计周期,并对统计周期内的所有电容器的电容测量数据进行分析,获取电容统计数据;对若干个连续统计周期内的电容统计数据进行计算电容加工趋势指标,并基于电
容加工趋势指标判断电容器加工产线是否需要进行检修。
[0006]优选的,所述基于电容器的历史加工数据进行筛选与电容器电容大小相关的若干个加工参数具体包括:确定电容器加工过程中的所有加工参数;从电容器的历史加工数据选出每一个加工参数与电容器电容大小的若干相关数据;基于加工参数与电容器电容大小的若干相关数据,计算加工参数与电容器电容大小之间的线性回归相关度;通过相关度计算公式,计算加工参数与电容器电容大小之间的相关度;判断加工参数与电容器电容大小之间的相关度是否大于相关度阈值,若是,则判定加工参数与电容器电容大小相关,记为相关加工参数,若否,则判定加工参数与电容器电容大小不相关。
[0007]优选的,所述相关度计算公式具体为:式中,为第i个加工参数与电容器电容大小之间的相关度,为第i个加工参数与电容器电容大小之间的线性回归相关度,为第i个加工参数与电容器电容大小的若干相关数据中所有加工参数的标准差,为第i个加工参数与电容器电容大小的若干相关数据中所有电容器电容大小数据的标准差。
[0008]优选的,所述计算相关加工参数实时数组与相关加工参数设定数组之间的向量距离,作为相关加工参数组偏差指标具体方法为:记相关加工参数设定数组为,,式中,为第j个加工参数的设定参数值,为加工参数总数;记相关加工参数实时数组为,,式中,为第j个加工参数的实时监测值;所述相关加工参数组偏差指标的具体计算公式为:式中,为相关加工参数组偏差指标,为第j个相关加工参数与电容器电容大小之间的相关度。
[0009]优选的,所述统计周期时长为12h、24h、36h和48h中任一种。
[0010]优选的,所述对统计周期内的所有电容器的电容测量数据进行分析,获取电容统计数据具体包括:将统计周期内的所有电容器的电容测量数据与电容设计的标准电容大小进行做差后求绝对值,获得电容误差数据;将电容误差数据中不符合正态分布的异常值进行剔除,留下电容误差标准数据;对所有电容误差标准数据求取平均值,作为当前统计周期内的电容误差标准值。
[0011]优选的,所述将统计周期内的所有电容器的电容测量数据中不符合正态分布的异常值进行剔除,留下电容测量标准数据具体包括:基于格拉布斯准则,建立异常值判定公式;将电容器的电容误差数据代入异常值判定公式,若满足异常值判定公式,则电容器的电容误差数据为异常值,若不满足异常值判定公式,则电容器的电容误差数据为正常值。
[0012]优选的,所述异常值判定公式具体为:式中,为电容器的第l个电容误差数据,为所有电容器的电容误差数据的平均值,为所有电容器的电容误差数据的标准差,为格拉布斯临界值,所述格拉布斯临界值为查表获得。
[0013]优选的,所述对若干个连续统计周期内的电容统计数据进行计算电容加工趋势指标包括:获取最近连续K个统计周期内的电容误差标准值,所述K为大于10且小于30的任一正整数;按照时序从远到近,依次对K个统计周期内电容误差标准值进行从小到大标号;通过趋势指标计算公式,进行计算K个统计周期的电容误差的变化趋势指标,作为电容加工趋势指标;所述趋势指标计算公式具体为:式中,为K个统计周期的电容误差的变化趋势指标,为第k个统计周期内的电容误差标准值。
[0014]优选的,所述基于电容加工趋势指标判断电容器加工产线是否需要进行检修包括:判定电容加工趋势指标是否大于检修指标预设值,若是,则判定电容器加工产线需要进行检修,若否,则判定电容器加工产线不需要进行检修。
[0015]与现有技术相比,本专利技术的有益效果在于:本专利技术基于与电容器电容大小相关的若干个加工参数的实时运行值与设定值之间的加权向量距离进行综合计算评判出与电容器电容量大小相关的综合加工质量,并基于此加工质量进行判定电容不合格风险,对判定为不合格风险高的批次的电容进行全测量,对于判定为不合格风险低的批次的电容进行抽检,通过此方式,极大地增加了对于电容器测量过程中的不良检出精准度,降低不良电容器流出厂的概率,进而有效的增加了电容器的出厂良率;本专利技术基于若干个连续统计周期内电容测量数据进行综合智能分析,计算出电容加工趋势指标,用于评判电容加工质量的变化趋势,进而可及时的发现电容器加工产线的
加工质量的劣化,可精准识别出电容器加工产线中可能存在的隐含故障风险,进而进行电容器加工产线的预先检修,防止大量电容器不良品的产出,可有效的保证电容器加工的稳定性。
附图说明
[0016]图1为本专利技术提出的高精度电容测量方法流程图;图2为本专利技术中的筛选与电容器电容大小相关的加工参数的方法流程图;图3为本专利技术中的对统计周期内的电容器的电容测量数据进行分析的方法流程图;图4为本专利技术中的计算电容加工趋势指标的方法流程图。
具体实施方式
[0017]以下描述用于揭露本发本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高精度电容测量方法,其特征在于,包括:从数据库中调取电容器的历史加工数据,并基于电容器的历史加工数据进行筛选与电容器电容大小相关的若干个加工参数,记为相关加工参数;基于加工的电容器设计属性,确定每个相关加工参数的设定参数值,获得相关加工参数设定数组;实时监测每一批次电容器加工过程中的相关加工参数的参数值,获取相关加工参数实时数组;计算相关加工参数实时数组与相关加工参数设定数组之间的向量距离,作为相关加工参数组偏差指标;判断相关加工参数组偏差指标是否大于预设值,若是,则判定当前批次电容不合格风险高,若否,则判定当前批次电容不合格风险低;对判定为不合格风险高的批次的电容进行全测量,对于判定为不合格风险低的批次的电容进行抽检;设定统计周期,并对统计周期内的所有电容器的电容测量数据进行分析,获取电容统计数据;对若干个连续统计周期内的电容统计数据进行计算电容加工趋势指标,并基于电容加工趋势指标判断电容器加工产线是否需要进行检修。2.根据权利要求1所述的一种高精度电容测量方法,其特征在于,所述基于电容器的历史加工数据进行筛选与电容器电容大小相关的若干个加工参数具体包括:确定电容器加工过程中的所有加工参数;从电容器的历史加工数据选出每一个加工参数与电容器电容大小的若干相关数据;基于加工参数与电容器电容大小的若干相关数据,计算加工参数与电容器电容大小之间的线性回归相关度;通过相关度计算公式,计算加工参数与电容器电容大小之间的相关度;判断加工参数与电容器电容大小之间的相关度是否大于相关度阈值,若是,则判定加工参数与电容器电容大小相关,记为相关加工参数,若否,则判定加工参数与电容器电容大小不相关。3.根据权利要求2所述的一种高精度电容测量方法,其特征在于,所述相关度计算公式具体为:式中,为第i个加工参数与电容器电容大小之间的相关度,为第i个加工参数与电容器电容大小之间的线性回归相关度,为第i个加工参数与电容器电容大小的若干相关数据中所有加工参数的标准差,为第i个加工参数与电容器电容大小的若干相关数据中所有电容器电容大小数据的标准差。4.根据权利要求3所述的一种高精度电容测量方法,其特征在于,所述计算相关加工参数实时数组与相关加工参数设定数组之间的向量距离,作为相关加工参数组偏差指标具体方法为:
记相关加工参数设定数组为,,式中,为第j个加工参数的设定参数值,为加工参数总数;记相关加工参数实时数...

【专利技术属性】
技术研发人员:赵江陈希立魏林贺
申请(专利权)人:北京柏瑞安电子技术有限公司
类型:发明
国别省市:

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