本实用新型专利技术公开了一种用于青瓷加工的上釉装置，包括储存工作台，其特征在于：所述储存工作台的内腔活动连接有转盘，所述储存工作台的上端后侧固定安装有固定板，所述固定板的前端开设有滑槽，所述滑槽的内部设置有滑动组件，所述调节组件的下端固定安装有擦拭海绵，所述储存工作台的内腔左部设置有推动挤压组件，所述储存工作台的上端左侧固定安装有储水箱，所述储水箱的下端固定安装有清洗喷头，旨在解决青瓷上釉质量低的问题。其技术方案要点是：一种用于青瓷加工的上釉装置。本实用新型专利技术通过擦拭海绵与转盘表面相接触，通过转动转盘，擦拭海绵与转盘表面相擦拭，将转盘表面上附着的残留釉料擦拭干净，保障青瓷上釉效果，提高青瓷上釉质量。提高青瓷上釉质量。提高青瓷上釉质量。
【技术实现步骤摘要】
一种用于青瓷加工的上釉装置
[0001]本技术涉及一种青瓷加工上釉设备，更具体地说，它涉及一种用于青瓷加工的上釉装置。
技术介绍
[0002]青瓷是中国陶瓷烧制工艺的珍品，作为一种表面施有青色釉的瓷器。青瓷色调的形成，主要是胎釉中含有一定量的氧化铁，在还原焰气氛中焙烧所致。但有些青瓷因含铁不纯，还原气氛不充足，色调便呈现黄色或黄褐色。青瓷以瓷质细腻，线条明快流畅、造型端庄浑朴、色泽纯洁而斑斓著称于世，在青瓷加工时需要对青瓷进行上釉处理，上釉是将釉涂布于陶、瓷器表面，以达到美观、不透气、防止渗透、增加强度等目的。
[0003]在青瓷上釉时，通过转动转盘带动青瓷缓慢旋转，然后将釉料用喷枪均匀的喷涂在青瓷表面，现有的问题是在青瓷上釉时，釉料会滴落或喷洒到转盘的台面上，当对不同的青瓷喷洒不同的釉料时，残留在转盘台面上的釉料会重新附着在新的青瓷表面上，造成青瓷表面附着有大小不一的残留釉料，降低青瓷的上釉效果，提高残次品的残次率，降低青瓷上釉质量。
[0004]因此需要提出一种新的方案来解决这个问题。
技术实现思路
[0005]针对现有技术存在的不足，本技术的目的在于提供一种用于青瓷加工的上釉装置，通过擦拭海绵与转盘表面相接触，通过转动转盘，擦拭海绵与转盘表面相摩擦擦拭，将转盘表面上附着的残留釉料擦拭干净，储水箱内的清水通过清洗喷头喷洒出来穿过回形槽对擦拭海绵进行冲洗干净，将擦拭海绵上擦拭的釉料进行冲洗出，通过挤压海绵往上运动时对擦拭海绵进行挤压，将釉料挤压出，确保擦拭海绵干净，从而通过擦拭海绵对转盘进行往复擦拭，确保转盘台面干净，防止转盘台面上附着的釉料残留物附在新的青瓷上，保障青瓷上釉效果，提高青瓷上釉质量。
[0006]本技术的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：一种用于青瓷加工的上釉装置，包括储存工作台，所述储存工作台的内腔活动连接有转盘，所述储存工作台的上端后侧固定安装有固定板，所述固定板的前端开设有滑槽，所述滑槽的内部设置有滑动组件，所述滑动组件的下端前侧设置有调节组件，所述调节组件的下端固定安装有擦拭海绵，所述储存工作台的内腔左部设置有推动挤压组件，所述储存工作台的上端左侧固定安装有储水箱，所述储水箱的下端固定安装有清洗喷头。
[0007]本技术进一步设置为：所述滑动组件包括丝杆，所述丝杆的左端固定安装有第一伺服电机，所述丝杆的外表面螺纹连接有滑板。
[0008]本技术进一步设置为：所述调节组件包括第二伺服电机，所述第二伺服电机的输出端固定安装有转轴，所述转轴的下端固定安装有调节板，所述调节板的上端开设有回形槽，所述调节板和擦拭海绵固定连接。
[0009]本技术进一步设置为：所述推动挤压组件包括回形导向板和电动伸缩杆，所述电动伸缩杆的伸缩端固定安装有活动板，所述活动板的上端固定安装有挤压海绵，所述挤压海绵位于回形导向板的内部。
[0010]本技术进一步设置为：所述清洗喷头位于推动挤压组件的上方。
[0011]本技术进一步设置为：所述擦拭海绵的下端和转盘的上端处在同一水平面上。
[0012]本技术进一步设置为：所述储存工作台的下端固定安装有四个支撑腿。
[0013]综上所述，本技术具有以下有益效果：
[0014]1、通过擦拭海绵与转盘表面相接触，通过转动转盘，擦拭海绵与转盘表面相摩擦擦拭，将转盘表面上附着的残留釉料擦拭干净，储水箱内的清水通过清洗喷头喷洒出来穿过回形槽对擦拭海绵进行冲洗干净，将擦拭海绵上擦拭的釉料进行冲洗出，通过挤压海绵往上运动时对擦拭海绵进行挤压，将釉料挤压出，确保擦拭海绵干净，从而通过擦拭海绵对转盘进行往复擦拭，确保转盘台面干净，防止转盘台面上附着的釉料残留物附在新的青瓷上，保障青瓷上釉效果，提高青瓷上釉质量。
附图说明
[0015]图1为本技术的整体立体结构示意图；
[0016]图2为本技术的滑动组件和调节组件的整体结构示意图；
[0017]图3为本技术的推动挤压组件的结构示意图。
[0018]图中：1、储存工作台；2、转盘；3、固定板；4、滑槽；5、滑动组件；6、调节组件；7、擦拭海绵；8、推动挤压组件；9、储水箱；10、清洗喷头；51、丝杆；52、第一伺服电机；53、滑板；61、第二伺服电机；62、转轴；63、调节板；64、回形槽；81、回形导向板；82、电动伸缩杆；83、活动板；84、挤压海绵；11、支撑腿。
具体实施方式
[0019]为了使本领域的技术人员更好地理解本技术的技术方案，下面结合附图和具体实施例对本技术作进一步详细的描述，需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
[0020]在本技术的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“内”、“外”“顶/底端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
[0021]在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“设置有”、“套设置/接”、“连接”等，应做广义理解，例如“连接”，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0022]下面结合附图，对本技术进行详细描述。
[0023]一种用于青瓷加工的上釉装置，如图1至图3所示，包括储存工作台1，储存工作台1
的内腔活动连接有转盘2，储存工作台1的上端后侧固定安装有固定板3，固定板3的前端开设有滑槽4，滑槽4的内部设置有滑动组件5，滑动组件5的下端前侧设置有调节组件6，调节组件6的下端固定安装有擦拭海绵7，擦拭海绵7的下端和转盘2的上端处在同一水平面上，储存工作台1的内腔左部设置有推动挤压组件8，储存工作台1的上端左侧固定安装有储水箱9，储水箱9的下端固定安装有清洗喷头10，清洗喷头10位于推动挤压组件8的上方，储存工作台1的下端固定安装有四个支撑腿11，通过擦拭海绵7与转盘2表面相接触，通过转动转盘2，擦拭海绵7与转盘2表面相摩擦擦拭，将转盘2表面上附着的残留釉料擦拭干净。
[0024]如图2所示，滑动组件5包括丝杆51，丝杆51的左端固定安装有第一伺服电机52，丝杆51的外表面螺纹连接有滑板53。
[0025]如图2所示，调节组件6包括第二伺服电机61，第二伺服电机61的输出端固定安装有转轴62，转轴62的下端固定安装有调节板63，调节板63的上端开设有回形槽64，调节板63和擦拭海绵7固定连接。
[0026]如图3所示，推动挤压组件8包括回形导向板81和电动伸缩杆82，电动伸缩杆82的伸缩端固定安装有活动板8本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于青瓷加工的上釉装置，包括储存工作台(1)，其特征在于：所述储存工作台(1)的内腔活动连接有转盘(2)，所述储存工作台(1)的上端后侧固定安装有固定板(3)，所述固定板(3)的前端开设有滑槽(4)，所述滑槽(4)的内部设置有滑动组件(5)，所述滑动组件(5)的下端前侧设置有调节组件(6)，所述调节组件(6)的下端固定安装有擦拭海绵(7)，所述储存工作台(1)的内腔左部设置有推动挤压组件(8)，所述储存工作台(1)的上端左侧固定安装有储水箱(9)，所述储水箱(9)的下端固定安装有清洗喷头(10)。2.根据权利要求1所述的一种用于青瓷加工的上釉装置，其特征在于：所述滑动组件(5)包括丝杆(51)，所述丝杆(51)的左端固定安装有第一伺服电机(52)，所述丝杆(51)的外表面螺纹连接有滑板(53)。3.根据权利要求1所述的一种用于青瓷加工的上釉装置，其特征在于：所述调节组件(6)包括第二伺服电机(61)，所述第二伺服电机...
【专利技术属性】
技术研发人员：方昶，叶之诗，金鑫，
申请(专利权)人：龙泉市鑫耀青瓷厂，
类型：新型
国别省市：
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