本发明专利技术公开了一种用于青瓷加工的全方位釉料喷涂装置，包括输送带、装置主体和中转组件：输送带的数量为两组，输送带用于输送装载有瓷器胚料的托架组件；装置主体设置在两组输送带之间，装置主体上安装有喷涂组件；中转组件安装在装置主体上，中转组件用于将其中一组输送带上的托架组件引导至喷涂工位。本发明专利技术克服了现有技术的不足，采用喷涂部件旋转的方式代替现有技术中瓷器胚料旋转喷涂的方式，使得瓷器胚料在喷涂的过程中无需采用单独的固定装置固定，能够减少釉料喷涂过程中瓷器胚料的损伤，同时无需大量传感器配合实现瓷器胚料的精准夹持，从而能够有效降低瓷器胚料喷涂的成本，具有较高的社会使用价值和应用前景。具有较高的社会使用价值和应用前景。具有较高的社会使用价值和应用前景。
【技术实现步骤摘要】
一种用于青瓷加工的全方位釉料喷涂装置
[0001]本专利技术涉及瓷器加工领域，尤其涉及一种用于青瓷加工的全方位釉料喷涂装置。
技术介绍
[0002]青瓷是中国陶瓷烧制工艺的珍品，作为一种表面施有青色釉的瓷器。青瓷色调的形成，主要是胎釉中含有一定量的氧化铁，在还原焰气氛中焙烧所致。但有些青瓷因含铁不纯，还原气氛不充足，色调便呈现黄色或黄褐色。青瓷以瓷质细腻，线条明快流畅、造型端庄浑朴、色泽纯洁而斑斓著称于世。
[0003]授权公告号为CN205528479U的技术专利中在运输还是使用过程中都十分的方便，而且减少了材料的使用，减少了成本，具有较好的推广价值，振动电机的振动透过罐体使水和釉料产生分子级别的振动，水分子和釉料分子进一步扩散，达到分子级别的混合，混合效果比传统的混合方式更明显。
[0004]授权公告号为CN116277426B的专利技术专利通过设置抬升机构等，在进行喷涂时，通过移动机构使得两个移动块相互靠近移动，并通过压力控制机构带动两个移动板相互靠近移动，并带动转动板和V形块同步移动，当滚轮与陶瓷产品的侧壁相抵时，滑动盘沿着固定管进行滑动，此时，通过液压油推动滑动杆和配重块向上移动，从而能够对产品进行居中定位，同时，能够保证滚轮对产品的夹紧力保持恒定，避免夹紧力过大对陶瓷产品造成损坏，并且，当移动块继续移动时，带动连接板和推动板同步移动，当推动板与挡块的侧壁相抵时，推动转动板向上进行转动，从而使得滚轮将陶瓷产品抬起，并且，转动板的转动带动转动杆和齿轮的同步转动，使得齿条向上移动，弹簧发生形变，待产品被抬升后，即可通过喷头对产品的底部进行喷涂，同时，启动第三电机，第三电机的转动带动第二转轴和滚轮的转动，进而带动产品的转动，从而使得喷头对产品的底部喷涂更加方便、全面，待底部喷涂完成后，将产品放下，即可对产品的其他部位进行喷涂。
[0005]上述专利记载的方案在使用时均存在一定的弊端，两组方案采用固定喷嘴，旋转瓷器的方式进行喷釉，而胚料在未进行烧制时，对其进行夹持，夹持力度轻，胚料不太稳定，夹持力度重，容易出现胚料变形损坏的情况，采用上述方式对于夹持力度精度要求非常高，需要大量的电子设备配合，成本比较高；
[0006]两组方案采用固定单个喷嘴，旋转瓷器的方式进行喷釉，在使用时，喷嘴喷涂的面积有限，而且为了保持喷涂均匀，需要经过多次釉料喷涂才能够达到需要的厚度，采用该种方式，单个瓷器需要很长的时间才能够实现釉料的全面喷涂，使用比较麻烦，同时专利文件1中无法对胚料底面进行喷涂，专利文件2中在对胚料底面喷涂时，胚料底部外圈也会喷上釉料，其会使得胚料烧制时黏在脱料难以从匣钵中脱离，需要大量的人力辅助，不满足人们的使用要求。
[0007]于是，专利技术人有鉴于此，秉持多年该相关行业丰富的设计开发及实际制作的经验，针对现有的结构及缺失予以研究改良，提供一种用于青瓷加工的全方位釉料喷涂装置，以期达到更具有实用价值的目的。
技术实现思路
[0008]为了解决上述
技术介绍
中提到的现有装置采用固定单个喷嘴，旋转瓷器的方式进行喷釉，在使用时，喷嘴喷涂的面积有限，而且需要经过多道釉料喷涂，采用该种方式，单个瓷器需要很长的时间才能够实现釉料的全面喷涂，使用比较麻烦，同时专利文件1中无法对胚料底面进行喷涂，专利文件2中在对胚料底面喷涂时，胚料底部外圈也会喷上釉料，其会使得胚料烧制时黏在脱料难以从匣钵中脱离，需要大量的人力辅助的问题，本专利技术提供一种用于青瓷加工的全方位釉料喷涂装置。
[0009]为了实现上述目的，本专利技术采用了如下技术方案：
[0010]一种用于青瓷加工的全方位釉料喷涂装置，包括输送带、装置主体和中转组件：
[0011]输送带的数量为两组，输送带用于输送装载有瓷器胚料的托架组件；
[0012]装置主体设置在两组输送带之间，装置主体上安装有喷涂组件；
[0013]中转组件安装在装置主体上，中转组件用于将其中一组输送带上的托架组件引导至喷涂工位，并将喷涂后的瓷器胚料输送至下一组输送带上；
[0014]其中，所述托架组件包括托架主体，所述托架主体的上端面中间位置开设有开口，所述托架主体上设置有用于支撑瓷器胚料底部边缘位置的支撑组件；
[0015]其中，所述喷涂组件包括用于对瓷器内表面和外表面进行喷釉的旋转喷涂组件和用于对瓷器底部进行喷涂的底部喷涂组件，所述旋转喷涂组件位于中转组件的上方，所述底部喷涂组件位于中转组件的下方。
[0016]使用时，输送带输送托架组件(其上放置有从上个工位加工后的瓷器胚料)，输送至中转组件中限定住托架组件位置，旋转喷涂组件和旋转喷涂组件对其表面进行釉料喷涂，釉料喷涂喷涂后中转组件驱动托架组件运动到下一输送带，经过输送带输送至后续釉料喷涂工位(特殊图案喷涂)。
[0017]本专利中装置主体上进行釉料喷涂为瓷器胚料第一次全方位的喷涂。
[0018]本专利技术记载了一种用于青瓷加工的全方位釉料喷涂装置，采用底部喷涂组件和旋转喷涂组件配合实现瓷器胚料的釉料喷涂，其能够同时实现瓷器胚料底面、外表面和内表面的喷涂，一次性喷涂，喷涂全面，能够大大缩短釉料喷涂的时间，喷涂的效率高，具有良好的使用前景。
[0019]优选的，所述装置主体上位于中转组件的外侧设置有防护组件，所述防护组件包括升降柱和防护罩：
[0020]升降柱的数量为若干组，若干组升降柱的主体均固定安装在装置主体的上端面；
[0021]防护罩的内表面与升降柱的伸缩端固定连接；
[0022]其中，所述旋转喷涂组件安装在防护罩上。
[0023]使用时，瓷器胚料位于防护罩内部进行釉料喷涂，喷涂时釉料不会扩散到外界，能够保障操作人员的健康。
[0024]升降柱优先采用电动伸缩杆，其能够精确控制升降的高度，使用效果好。
[0025]优选的，所述装置主体的内部设置有釉料储存罐和气体净化器，所述装置主体的上端面设置有若干组抽吸罩，所述气体净化器通过管道与抽吸罩连接，用于在喷釉后将空气中多余的釉料抽走；
[0026]其中，所述釉料储存罐通过输送泵和输送管道与旋转喷涂组件和底部喷涂组件连
接，实现釉料输送。
[0027]在装置主体的内部安装气体净化器，气体净化器采用现有净化空气中釉料的仪器，在釉料喷涂后气体净化器启动，通过抽吸罩直接将防护罩内部空气中含有的釉料抽走净化，从而使得工作人员的工作环境更好。
[0028]优选的，所述中转组件包括两组中转件，两组所述中转件对称设置；
[0029]其中，所述中转件包括引导条和支撑柱：
[0030]引导条的内部设置有引导通道，引导通道的内部设置有引导组件；
[0031]支撑柱的数量为若干组，所述引导条通过支撑柱与装置主体的上端面固定连接；
[0032]其中，所述引导条上设置有限位气缸。
[0033]引导条上安装有用于监测托架组件位置的传感器，当托架组件运动到喷涂位置时，限位气缸启动，其伸缩端与托架组件接触，限定住托架组件的位置，本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于青瓷加工的全方位釉料喷涂装置，其特征在于，包括：输送带(1)，其数量为两组，其用于输送装载有瓷器胚料的托架组件；装置主体(2)，其设置在两组输送带(1)之间，其上安装有喷涂组件；中转组件，其安装在装置主体(2)上，用于将其中一组输送带(1)上的托架组件引导至喷涂工位，并将喷涂后的瓷器胚料输送至下一组输送带(1)上；其中，所述托架组件包括托架主体(3)，所述托架主体(3)的上端面中间位置开设有开口(4)，所述托架主体(3)上设置有用于支撑瓷器胚料底部边缘位置的支撑组件；其中，所述喷涂组件包括用于对瓷器内表面和外表面进行喷釉的旋转喷涂组件和用于对瓷器底部进行喷涂的底部喷涂组件，所述旋转喷涂组件位于中转组件的上方，所述底部喷涂组件位于中转组件的下方。2.如权利要求1所述的一种用于青瓷加工的全方位釉料喷涂装置，其特征在于：所述装置主体(2)上位于中转组件的外侧设置有防护组件，所述防护组件包括：升降柱(5)，其数量为若干组，若干组升降柱(5)的主体均固定安装在装置主体(2)的上端面；防护罩(6)，其内表面与升降柱(5)的伸缩端固定连接；其中，所述旋转喷涂组件安装在防护罩(6)上。3.如权利要求1所述的一种用于青瓷加工的全方位釉料喷涂装置，其特征在于：所述装置主体(2)的内部设置有釉料储存罐和气体净化器，所述装置主体(2)的上端面设置有若干组抽吸罩(7)，所述气体净化器通过管道与抽吸罩(7)连接，用于在喷釉后将空气中多余的釉料抽走；其中，所述釉料储存罐通过输送泵和输送管道与旋转喷涂组件和底部喷涂组件连接，实现釉料输送。4.如权利要求1所述的一种用于青瓷加工的全方位釉料喷涂装置，其特征在于：所述中转组件包括两组中转件(8)，两组所述中转件(8)对称设置；其中，所述中转件(8)包括：引导条(9)，其内部设置有引导通道，引导通道的内部设置有引导组件；支撑柱(10)，其数量为若干组，所述引导条(9)通过支撑柱(10)与装置主体(2)的上端面固定连接；其中，所述引导条(9)上设置有限位气缸(11)。5.如权利要求4所述的一种用于青瓷加工的全方位釉料喷涂装置，其特征在于：所述引导组件包括两组引导件，两组所述引导件平行安装在引导通道的内部，用于驱动托架主体(3)沿着引导通道运动：所述引导件包括：若干组平行设置的引导滚筒(12)，所述引导滚筒(12)通过销轴安装在引导通道的内部；马达组件，其通过传动组件驱动若干组引导滚筒(12)同步转动。6.如权利要求1所述的一种用于青瓷加工的全方位釉料喷涂装置，其特征在于：所述支撑...
【专利技术属性】
技术研发人员：严少英，
申请(专利权)人：龙泉市禺沐轩青瓷有限公司，
类型：发明
国别省市：
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