不沾黏陶瓷容器及其制备方法技术

本发明专利技术涉及不沾黏涂层技术领域，特别是涉及一种不沾黏陶瓷容器及其制备方法。所述不沾黏陶瓷容器包括一基材，由一陶瓷材质所制；以及一氮化硅层，设于所述基材上；其中，所述氮化硅层经配置以与一食材接触。所述基材与所述氮化硅层之间还包括一介质层。本申请的不沾黏陶瓷容器，采用陶瓷材料的基材，然后在表面形成介质层或介质层和氮化硅层，氮化硅层由于分子结构稳定，无毒无害，是可以在不沾黏陶瓷容器领域对特氟龙相关产品产生替代性，既能满足不沾黏的性能，同时不使用含有PFAS的物质；具有高硬度、高耐磨性、高耐腐蚀性、耐高温、易清洁、不变色、无有机化学涂层、持久不粘等特点。持久不粘等特点。持久不粘等特点。

【技术实现步骤摘要】
不沾黏陶瓷容器及其制备方法


[0001]本专利技术涉及不沾黏涂层的
，特别是涉及一种不沾黏陶瓷容器及其制备方法。

技术介绍

[0002]目前行业应用特氟龙涂层的不粘锅产品以及可用于加热的陶瓷容器、煲锅、马克杯在过去几十年里在全球市场得到了极大的推广，特氟龙涂层耐高温，耐腐蚀，高效不粘的特点，让特氟龙不粘锅产品走进千家万户，市场规模超过万亿。然而进一步的研究发现，含有PFAS(全氟和多氟烷基物质)，会对人体健康和环境产生危害，PFAS的化学成分使其在环境中很长时间内都不会被降解，虽然这种特质使得PFAS具备很高的应用价值，但也导致他们可能对自然环境和人体产生长期危害，包括致癌的可能性。美国多个州推出了对PFAS的禁用令，欧洲也即将推出相关法规，使用可替代特氟龙的涂层已经成为行业的趋势。目前为止还没有看到解决这一问题的更好的方案，既能满足不粘锅的性能，同时不使用含有PFAS的物质。

技术实现思路

[0003]鉴于以上现有技术的缺点，本专利技术的目的在于提供一种不沾黏陶瓷容器及其制备方法，用于使容器能够不沾黏食材，并能够便于清洗本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种不沾黏陶瓷容器，其特征在于，包括：一基材，由一陶瓷材质所制；以及一氮化硅层，设于所述基材上；其中，所述氮化硅层经配置以与一食材接触。2.根据权利要求1所述的一种不沾黏陶瓷容器，其特征在于，所述不沾黏陶瓷容器还包括一锆介质层，设于所述基材与所述氮化硅层之间。3.根据权利要求1所述的一种不沾黏陶瓷容器，其特征在于，所述不沾黏陶瓷容器还包括一铬介质层，设于所述基材与所述氮化硅层之间。4.根据权利要求1所述的一种不沾黏陶瓷容器，其特征在于，所述不沾黏陶瓷容器还包括一钛介质层，设于所述基材与所述氮化硅层之间。5.根据权利要求2所述的一种不沾黏陶瓷容器，其特征在于，所述锆介质层的一厚度为0.01um至2um。6.根据权利要求3所述的一种不沾黏陶瓷容器，其特征在于，所述铬介质层的一厚度为0.01um至2um。7.根据权利要求4所述的一种不沾黏陶瓷容器，其特征在于，所述钛介质层的一厚度为0.01um至2um。8.根据权利要求1所述的一种不沾黏陶瓷容器，其特征在于，所述氮化硅层的一厚度为0.01um至8um。9.根据权利要求1所述的一种不沾黏陶瓷容器，其特征在于，所述氮化硅层混和一石墨成为一复合层，其中所述氮化硅层比例为95wt％～85wt％所述石墨为5wt％～15wt％。10.一种不沾黏陶瓷容器的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：提供由一陶瓷材质所制的一基材；以及采用磁控溅射的方式形成一氮化硅层于所述基材的一表面。11.根据权利要求10所述的一种不沾黏陶瓷容器的制备方法，其特征在于，所述氮化硅层的一厚度为0.01um至8um。12.根据权利要求10所述的一种不沾黏陶瓷容器的制备方法，其特征在于，所述基材可拆卸地设于一磁控溅射炉内的一固持架上，在采用磁控溅射的方式形成所述氮化硅层时，所述固持架静止不动。13.根据权利要求10所述的一种不沾黏陶瓷容器的制备方法，其特征在于，所述基材可拆卸地设于一磁控溅射炉内的一固持架上，在采用磁控溅射的方式形成所述氮化硅层时，所述固持架进行旋转。14.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：吕耀辉，沈雁军，董小林，方洁青，
申请(专利权)人：深圳市天珑移动技术有限公司，
类型：发明
国别省市：