一种半导体加工专用研磨机制造技术

本实用新型专利技术公开了一种半导体加工专用研磨机，涉及半导体技术领域，包括研磨台，所述研磨台内壁的下侧开设有电机腔，所述电机腔的内壁固定连接有研磨电机，所述研磨电机的输出端固定连接有研磨盘，所述研磨台顶面的后侧固定连接有研磨装置，所述研磨台内壁的下侧开设有异形腔，所述研磨台内壁的下侧开设有多个出水口，所述研磨台顶面的左侧设有水龙头，所述异形腔的内壁设有过滤机构。本实用新型专利技术设备在使用的过程中，具备对研磨水进行净化的功能，研磨水在净化后可以循环利用，减少研磨水产生的污染，提高了设备使用时的安全性。提高了设备使用时的安全性。提高了设备使用时的安全性。

【技术实现步骤摘要】
一种半导体加工专用研磨机


[0001]本技术涉及半导体
，特别涉及一种半导体加工专用研磨机。

技术介绍

[0002]半导体指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料，半导体在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电、照明、大功率电源转换等领域都有应用，如二极管就是采用半导体制作的器件，半导体在加工时需要用到专门的研磨机。
[0003]申请人经过检索发现中国专利公开了“一种半导体新材料加工专用研磨机”，其公开(公告)号为“CN216991392U”，该专利主要通过机架和安装在机架上的研磨斗，所述研磨斗内转动安装有研磨转盘，还包括用于驱动研磨转盘转动的驱动组件；所述研磨斗的顶部固定连接有防护板，所述防护板上固定连接有冷却水管，冷却水管朝向研磨转盘的一端连接有喷头；所述研磨机还包括顶部敞口的水箱，所述水箱内固定连接有过滤网板，所述过滤网板将水箱分成沉淀腔和排水腔，所述水箱上固定连接有进水管和出水管，进水管与沉淀腔相连通，出水管与排水腔相连通，达到在研磨时喷出的冷水可对半导体工件进行冷却，防止半导体工件在研磨时因温度过高而开裂，但是传统的半导体加工专用研磨机在使用的过程中，不具备对研磨水进行净化的功能，半导体产生的研磨水悬浮物浓度高，质量轻，极难沉淀，外观浑浊，生化性比较差而且一般呈现弱碱性，研磨水直接排出设备外，会产生一定的污染，降低了设备的安全性。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种半导体加工专用研磨机，以解决上述
技术介绍
中提出的传统的半导体加工专用研磨机在使用的过程中，不具备对研磨水进行净化的功能，半导体产生的研磨水悬浮物浓度高，质量轻，极难沉淀，外观浑浊，生化性比较差而且一般呈现弱碱性，研磨水直接排出设备外，会产生一定的污染，降低了设备的安全性的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种半导体加工专用研磨机，包括研磨台，所述研磨台内壁的下侧开设有电机腔，所述电机腔的内壁固定连接有研磨电机，所述研磨电机的输出端贯穿电机腔内壁的上侧延伸至研磨台的内壁，所述研磨电机的输出端固定连接有研磨盘，所述研磨台顶面的后侧固定连接有研磨装置，所述研磨台内壁的下侧开设有异形腔，所述研磨台内壁的下侧开设有多个出水口，所述研磨台顶面的左侧设有水龙头，所述异形腔的内壁设有过滤机构。
[0006]优选的，所述过滤机构包括开设在异形腔内壁右侧的药液腔，所述药液腔内壁的右侧开设有入液口，所述药液腔的顶面开设有第一水泵腔，所述第一水泵腔内壁的下侧固定连接有第一水泵，所述第一水泵的输入端贯穿第一水泵腔内壁的下侧延伸至药液腔的内壁，所述第一水泵的输出端贯穿第一水泵腔内壁的左侧延伸至异形腔的内壁，所述异形腔内壁的左侧开设有第二水泵腔，所述第二水泵腔内壁的下侧固定连接有第二水泵，所述第二水泵的输入端贯穿第二水泵腔内壁的右侧延伸至异形腔的内壁，所述研磨台的左面设有
水箱，所述第二水泵的输出端贯穿第二水泵腔的内壁延伸至水箱的内壁，所述异形腔的底面开设有排絮口，所述第二水泵的输入端设有循环净化装置。
[0007]优选的，所述循环净化装置包括与第二水泵的输入端固定连接的过滤壳，所述过滤壳的内壁从下至上依次固定连接有过滤网板、无纺布块，所述过滤网板的顶面与无纺布块的底面固定连接，所述水箱的内壁从上至下依次固定连接有麦饭石层、活性炭层、纳滤膜层，所述水箱的右面固定连接有第三水泵，所述第三水泵的输出端与水龙头的表面固定连接，所述第三水泵的输入传贯穿水箱的右面延伸至纳滤膜层的底面。
[0008]优选的，所述水龙头的内壁卡接有延长弯管，使水龙头喷的水能够导入到研磨台内，保证设备的正常使用。
[0009]优选的，所述入液口内壁的右侧卡接有第一盖板。
[0010]优选的，所述排絮口内壁的下侧卡接有第二盖板。
[0011]优选的，所述异形腔内壁的上侧开设有齿轮槽，所述齿轮槽的内壁转动连接有内齿轮，所述齿轮槽内壁的一侧开设有容纳槽，所述容纳槽内壁的上侧固定连接有搅拌电机，所述搅拌电机的输出端固定连接有齿轮，所述齿轮的表面与内齿轮的内壁啮合连接，所述内齿轮的底面固定连接有多个搅拌杆，使设备在加入药液时，能够使药液与研磨水快速混合，从而提高设备的使用效果，加快研磨水的静置效率。
[0012]本技术的技术效果和优点：
[0013]1、通过设置研磨台、电机腔、研磨电机、研磨盘、研磨装置、异形腔、出水口、水龙头、药液腔、入液口、第一水泵腔、第一水泵、第二水泵腔、第二水泵、水箱、排絮口、过滤壳、过滤网板、无纺布块、麦饭石层、活性炭层、纳滤膜层、第三水泵，本设备在使用的过程中，具备对研磨水进行净化的功能，研磨水在净化后可以循环利用，减少研磨水产生的污染，提高了设备使用时的安全性。
[0014]2、通过设置水龙头、延长弯管、入液口、第一盖板、排絮口、第二盖板、异形腔、齿轮槽、内齿轮、容纳槽、搅拌电机、齿轮、搅拌杆，使水龙头喷的水能够导入到研磨台内，保证设备的正常使用，使得设备具有密封性，使设备在加入药液时，能够使药液与研磨水快速混合，从而提高设备的使用效果，加快研磨水的静置效率。
附图说明
[0015]图1为本技术的整体正面剖面结构示意图。
[0016]图2为本技术的图1的A部放大结构示意图。
[0017]图3为本技术的过滤壳的正面剖面结构示意图。
[0018]图4为本技术的水箱的立体结构示意图。
[0019]图中：1、研磨台；2、电机腔；3、研磨电机；4、研磨盘；5、研磨装置；6、异形腔；7、出水口；8、水龙头；9、药液腔；10、入液口；11、第一水泵腔；12、第一水泵；13、第二水泵腔；14、第二水泵；15、水箱；16、排絮口；17、过滤壳；18、过滤网板；19、无纺布块；20、麦饭石层；21、活性炭层；22、纳滤膜层；23、第三水泵；24、延长弯管；25、第一盖板；26、第二盖板；27、齿轮槽；28、内齿轮；29、容纳槽；30、搅拌电机；31、齿轮；32、搅拌杆。
具体实施方式
[0020]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0021]本技术提供了如图1
‑
4所示的一种半导体加工专用研磨机，包括研磨台1，研磨台1内壁的下侧开设有电机腔2，电机腔2的内壁固定连接有研磨电机3，研磨电机3的输出端贯穿电机腔2内壁的上侧延伸至研磨台1的内壁，研磨电机3的输出端固定连接有研磨盘4，研磨台1顶面的后侧固定连接有研磨装置5，研磨台1内壁的下侧开设有异形腔6，异形腔6为异形的腔体的结构，更加方便进行排出沉淀物，更加方便导入研磨水，研磨台1内壁的下侧开设有多个出水口7，研磨台1顶面的左侧设有水龙头8，异形腔6的内壁设有过本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种半导体加工专用研磨机，包括研磨台(1)，其特征在于：所述研磨台(1)内壁的下侧开设有电机腔(2)，所述电机腔(2)的内壁固定连接有研磨电机(3)，所述研磨电机(3)的输出端贯穿电机腔(2)内壁的上侧延伸至研磨台(1)的内壁，所述研磨电机(3)的输出端固定连接有研磨盘(4)，所述研磨台(1)顶面的后侧固定连接有研磨装置(5)，所述研磨台(1)内壁的下侧开设有异形腔(6)，所述研磨台(1)内壁的下侧开设有多个出水口(7)，所述研磨台(1)顶面的左侧设有水龙头(8)，所述异形腔(6)的内壁设有过滤机构。2.根据权利要求1所述的一种半导体加工专用研磨机，其特征在于：所述过滤机构包括开设在异形腔(6)内壁右侧的药液腔(9)，所述药液腔(9)内壁的右侧开设有入液口(10)，所述药液腔(9)的顶面开设有第一水泵腔(11)，所述第一水泵腔(11)内壁的下侧固定连接有第一水泵(12)，所述第一水泵(12)的输入端贯穿第一水泵腔(11)内壁的下侧延伸至药液腔(9)的内壁，所述第一水泵(12)的输出端贯穿第一水泵腔(11)内壁的左侧延伸至异形腔(6)的内壁，所述异形腔(6)内壁的左侧开设有第二水泵腔(13)，所述第二水泵腔(13)内壁的下侧固定连接有第二水泵(14)，所述第二水泵(14)的输入端贯穿第二水泵腔(13)内壁的右侧延伸至异形腔(6)的内壁，所述研磨台(1)的左面设有水箱(15)，所述第二水泵(14)的输出端贯穿第二水泵腔(13)的内壁延伸至水箱(15)的内壁，所述异形腔(6)的底面开设有排絮口(16)，所述第二水泵(14)的输入端设...

【专利技术属性】
技术研发人员：曹子怡，陆益，刘学，周利，李培刚，
申请(专利权)人：合肥安芯睿创半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：