紫外线光学膜的转印制造方法及转印滚轮的制造方法技术

本发明专利技术提供了一种紫外线光学膜的转印制造方法及转印滚轮的制造方法。所述转印滚轮的制造方法包含：于一金属滚筒的外表面涂布有一光阻层；以具有一预设曝光波长的一曝光紫外线通过光罩或干涉而形成一预定光形，进而照射在所述光阻层，以使所述光阻层构成一图案转印内层；以及于所述图案转印内层的外表面上形成有一图案转印外层，其由氟化合物所构成；其中，所述图案转印外层、所述图案转印内层、及所述金属滚筒共同构成所述转印滚轮。据此，通过形成有由所述氟化合物而构成的所述图案转印外层，以使得所述图案转印内层可采用紫外线曝光材质，并且所述转印滚轮所滚压的光学膜可以采用紫外线固化材质。紫外线固化材质。紫外线固化材质。

【技术实现步骤摘要】
紫外线光学膜的转印制造方法及转印滚轮的制造方法


[0001]本专利技术涉及一种转印滚轮，尤其涉及一种紫外线光学膜的转印制造方法及转印滚轮的制造方法。

技术介绍

[0002]如果现有转印滚轮的转印层采用紫外线曝光材质时，其所欲滚压转印的光学膜则需要避免采用紫外线固化材质，据以避免所述转印层于滚压所述光学膜固化时受到损伤而使其转印图案失真。于是，本专利技术人认为上述缺陷可改善，于是潜心研究并配合科学原理的运用，终于提出一种设计合理且有效改善上述缺陷的本专利技术。

技术实现思路

[0003]本专利技术实施例在于提供一种紫外线光学膜的转印制造方法及转印滚轮的制造方法，其能有效地改善现有转印滚轮所可能产生的缺陷。
[0004]本专利技术实施例公开一种紫外线光学膜的转印制造方法，其包括：
[0005]实施一滚轮制造步骤：制造一转印滚轮且其制造过程包含：于一金属滚筒的外表面涂布有一光阻层；以具有一预设曝光波长的一曝光紫外线通过光罩或干涉而形成一预定光形，进而照射在光阻层，以使光阻层构成一图案转印内层；及于图案转印内层的外表面上形成有一图案转印外层，其由氟化合物所构成；其中，图案转印外层、图案转印内层、及金属滚筒共同构成转印滚轮；
[0006]实施一转印步骤：以转印滚轮的图案转印外层不间断地滚压于一紫外线光学膜上；其中，紫外线光学膜能被波长落在一预设光固化波段之内的紫外线所照射固化，并且曝光紫外线的预设曝光波长是落在预设光固化波段之内；
[0007]以及实施一固化步骤：以波长落在预设光固化波段之内的一固化紫外线来照射并固化被转印滚轮所滚压后的紫外线光学膜。
[0008]优选地，于固化步骤之中，转印滚轮受到固化紫外线的照射，以使图案转印内层的外表面产生裂痕；其中，形成有裂痕的外表面通过图案转印外层而维持其形状不变。
[0009]优选地，于滚轮制造步骤之中，构成图案转印外层的氟化合物进一步限定为聚四氟乙烯。
[0010]优选地，于滚轮制造步骤之中，图案转印外层是通过蒸镀而完整覆盖于图案转印内层的外表面上。
[0011]优选地，于固化步骤之中，照射于转印滚轮的固化紫外线能被图案转印外层反射至少70％。
[0012]优选地，预设曝光波长介于350纳米～450纳米，而预设光固化波段介于350纳米～410纳米。
[0013]优选地，金属滚筒是一铬金属滚筒或一铜金属滚筒，并且滚轮制造步骤之中未采用任何镍金属材质。
[0014]本专利技术实施例也公开一种转印滚轮的制造方法，其包括：
[0015]于一金属滚筒的外表面涂布有一光阻层；
[0016]以具有一预设曝光波长的一曝光紫外线通过光罩或干涉而形成一预定光形，进而照射在光阻层，以使光阻层构成一图案转印内层；
[0017]以及于图案转印内层的外表面上形成有一图案转印外层，其由氟化合物所构成；其中，图案转印外层、图案转印内层、及金属滚筒共同构成转印滚轮。
[0018]优选地，金属滚筒是一铬金属滚筒或一铜金属滚筒，并且转印滚轮的制造方法未采用任何镍金属材质。
[0019]优选地，构成图案转印外层的氟化合物进一步限定为聚四氟乙烯，并且图案转印外层能用来反射波段介于350纳米～410纳米且照射于转印滚轮的紫外线的至少70％。
[0020]综上所述，本专利技术实施例所公开的紫外线光学膜的转印制造方法及转印滚轮的制造方法，其通过所述图案转印外层由所述氟化合物而构成，以使得所述图案转印外层在滚压所述紫外线光学膜之后，可以有效地使两者之间高压接触的成形表面彼此分离、且不会有相互影响或导致外型损毁的可能。
[0021]换个角度来说，于本专利技术实施例所公开的紫外线光学膜的转印制造方法之中，通过形成有由所述氟化合物而构成的所述图案转印外层，以使得所述图案转印内层可采用紫外线曝光材质，并且所述转印滚轮所滚压的光学膜可以采用紫外线固化材质。
[0022]为能更进一步了解本专利技术的特征及
技术实现思路
，请参阅以下有关本专利技术的详细说明与附图，但是此等说明与附图仅用来说明本专利技术，而非对本专利技术的保护范围作任何的限制。
附图说明
[0023]图1为本专利技术实施例一的紫外线光学膜的转印制造方法的步骤流程示意图。
[0024]图2为图1中的涂布流程的示意图。
[0025]图3为图1中的图案化流程的示意图。
[0026]图4为图1中的图案化流程的另一态样示意图。
[0027]图5为图1中的图案化流程的过程示意图。
[0028]图6为图1中的成形流程的示意图。
[0029]图7为图6的区域VII的放大示意图。
[0030]图8为图1中的转印步骤与固化步骤的示意图。
[0031]图9为图8的区域IX的放大示意图。
[0032]图10为本专利技术实施例二的紫外线光学膜的转印制造方法的转印步骤与固化步骤的示意图。
具体实施方式
[0033]以下是通过特定的具体实施例来说明本专利技术所公开有关“紫外线光学膜的转印制造方法及转印滚轮的制造方法”的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所公开的内容了解本专利技术的优点与效果。本专利技术可通过其他不同的具体实施例加以施行或应用，本说明书中的各项细节也可基于不同观点与应用，在不悖离本专利技术的构思下进行各种修改与变更。另外，本专利技术的附图仅为简单示意说明，并非依实际尺寸的描绘，事先声明。以下的实施
方式将进一步详细说明本专利技术的相关
技术实现思路
，但所公开的内容并非用以限制本专利技术的保护范围。
[0034]应当可以理解的是，虽然本文中可能会使用到“第一”、“第二”、“第三”等术语来描述各种组件或者信号，但这些组件或者信号不应受这些术语的限制。这些术语主要是用以区分一组件与另一组件，或者一信号与另一信号。另外，本文中所使用的术语“或”，应视实际情况可能包括相关联的列出项目中的任一个或者多个的组合。
[0035][实施例一][0036]请参阅图1至图9所示，其为本专利技术的实施例一。如图1所示，本实施例公开一种紫外线光学膜的转印制造方法，其依序包含有：一滚轮制造步骤S100、一转印步骤S200、及一固化步骤S300，但本专利技术不以此为限。举例来说，所述紫外线光学膜的转印制造方法也可以依据设计需求而增加相应的其他步骤。
[0037]需额外说明的是，所述滚轮制造步骤S100于本实施例中是以搭配于所述转印步骤S200及所述固化步骤S300来说明，但本专利技术不受限于此。举例来说，在本专利技术未绘示的其他实施例中，所述滚轮制造步骤S100可以视为一种转印滚轮的制造方法，进而被单独地实施或是搭配其他步骤来实施。以下接着介绍所述紫外线光学膜的转印制造方法的各个步骤S100～S300。
[0038]所述滚轮制造步骤S100：如图1搭配图2至图7所示，制造一转印滚轮100(如图6所示)且其制造过程依序包含有一涂布流程S110、一图案化流程S120、及一成形流程S130。需说明的是，所述滚轮制造步骤S100是通过实施上述多个流程S110～S13本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种紫外线光学膜的转印制造方法，其特征在于，所述紫外线光学膜的转印制造方法包括：实施一滚轮制造步骤：制造一转印滚轮且其制造过程包含：在一金属滚筒的外表面涂布有一光阻层；以具有一预设曝光波长的一曝光紫外线通过光罩或干涉而形成一预定光形，进而照射在所述光阻层，以使所述光阻层构成一图案转印内层；及在所述图案转印内层的外表面上形成有一图案转印外层，其由氟化合物所构成；其中，所述图案转印外层、所述图案转印内层、及所述金属滚筒共同构成所述转印滚轮；实施一转印步骤：以所述转印滚轮的所述图案转印外层不间断地滚压于一紫外线光学膜上；其中，所述紫外线光学膜能被波长落在一预设光固化波段之内的紫外线所照射固化，并且所述曝光紫外线的所述预设曝光波长是落在所述预设光固化波段之内；以及实施一固化步骤：以波长落在所述预设光固化波段之内的一固化紫外线来照射并固化被所述转印滚轮所滚压后的所述紫外线光学膜。2.根据权利要求1所述的紫外线光学膜的转印制造方法，其特征在于，在所述固化步骤之中，所述转印滚轮受到所述固化紫外线的照射，以使所述图案转印内层的所述外表面产生裂痕；其中，形成有所述裂痕的所述外表面通过所述图案转印外层而维持其形状不变。3.根据权利要求1所述的紫外线光学膜的转印制造方法，其特征在于，在所述滚轮制造步骤之中，构成所述图案转印外层的所述氟化合物为聚四氟乙烯。4.根据权利要求3所述的紫外线光学膜的转印制造方法，其特征在于，在所述滚轮制造步骤之中，所述图案转印外层是...

【专利技术属性】
技术研发人员：林刘恭，
申请(专利权)人：光群雷射科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：