一种基于快速高温温场的主动流动控制结构及制备方法技术

本发明专利技术公开了一种基于快速高温温场的主动流动控制结构及制备方法，涉及主动流动控制领域，其中，主动流动控制结构，包括：抗氧化

【技术实现步骤摘要】
一种基于快速高温温场的主动流动控制结构及制备方法


[0001]本专利技术涉及主动流动控制领域，具体涉及一种基于快速高温温场的主动流动控制结构及制备方法。

技术介绍

[0002]本节中的陈述仅提供与本公开相关的背景信息，并且可能不构成现有技术。
[0003]主动流动控制是当今研究的热点问题之一，是实现未来飞行器更经济巡航以及更高速激动的关键技术；目前常见的主动流动控制技术包括：吸气和吹气、微射流技术、等离子体技术、磁流体动力技术、微机电技术、自适应变形材料以及壁面温度控制技术等。
[0004]对于主动流动控制领域而言，通过向低能量的边界层快速注入能量，可以改变边界层的状态，从而影响飞行整体的流动状态；壁面温度控制技术是通过改变壁温，进而实现对激波
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边界层的影响；1997年，Debieve等人通过实验研究了壁温对激波
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湍流边界层干扰的影响，给出了壁温影响的经验公式；最近，Jaunet等人通过实验研究了几种壁温情况下反射激波
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边界层干扰的情况；但整体而言，壁面温度控制技术的理本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于快速高温温场的主动流动控制结构，其特征在于，包括：抗氧化
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多孔还原氧化石墨烯薄膜，所述抗氧化
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多孔还原氧化石墨烯薄膜安装在结构壁面；所述抗氧化
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多孔还原氧化石墨烯薄膜两端设置有电极；利用抗氧化
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多孔还原氧化石墨烯薄膜快速的电声相互作用，实现高温温场的快速构建；同时通过电极实现基于快速高温温场的主动流动控制。2.根据权利要求1所述的一种基于快速高温温场的主动流动控制结构，其特征在于，所述结构壁面设置有凹槽；所述抗氧化
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多孔还原氧化石墨烯薄膜安装在凹槽内。3.根据权利要求2所述的一种基于快速高温温场的主动流动控制结构，其特征在于，所述凹槽两端设有电极，并接导线引出；所述抗氧化
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多孔还原氧化石墨烯薄膜通过高温银浆安装在凹槽内。4.根据权利要求1所述的一种基于快速高温温场的主动流动控制结构，其特征在于，所述抗氧化
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多孔还原氧化石墨烯薄膜，包括：多孔还原氧化石墨烯薄膜，所述多孔还原氧化石墨烯薄膜的表面设置有一层抗氧化层。5.根据权利要求4所述的一种基于快速高温温场的主动流动控制结构，其特征在于，所述抗氧化层的厚度在50
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100μm。6.一种基于快速高温温场的主动流动控制结构的制备方法，其特征在于，包括：步骤S1：制备抗氧化
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多孔还原氧化石墨烯薄膜；步骤S2：将抗氧化
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多孔还原氧化石墨烯薄膜安装在结构壁面，并在抗氧化
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多孔还原氧化石墨烯薄膜两端设置有电极。7.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：梁耕源，陈植，王良锋，张林，冯黎明，黄振新，姚林伸，张兆，刘志勇，李悦，
申请(专利权)人：中国空气动力研究与发展中心高速空气动力研究所，
类型：发明
国别省市：