一种p型背结TOPCon电池及其制备方法技术

技术编号:39066340 阅读:15 留言:0更新日期:2023-10-12 19:59
本发明专利技术公开了一种p型背结TOPCon电池及其制备方法,属于TOPCon电池领域,以p型晶硅为基底,其正面依次设置有局部p型掺杂层、掺杂钝化层、正面减反射层、正面金属电极;背面依次设置有隧穿氧化层、n型掺杂多晶硅层、背面减反射层和背面金属电极;正面金属电极穿透正面减反射层、掺杂钝化层与局部p型掺杂层形成欧姆接触;局部p型掺杂层为Al、B共掺杂层;正面金属电极为采用印刷烧结形成的Ag浆电极,Ag浆中不含Al粉。以p型晶硅为基底,并采用Ag浆印刷烧结形成导电性良好的金属电极,并针对Ag浆与p型掺杂区接触性能较差的问题,通过光辅助微导处理降低金属Ag浆电极与p型掺杂层之间的接触电阻,从而提升电池FF和转换效率。从而提升电池FF和转换效率。从而提升电池FF和转换效率。

【技术实现步骤摘要】
一种p型背结TOPCon电池及其制备方法


[0001]本专利技术涉及TOPCon电池领域,具体而言,涉及一种p型背结TOPCon电池及其制备方法。

技术介绍

[0002]目前,PERC电池已接近理论极限效率,以TOPCon、HJT、XBC为代表的N型技术快速渗透,其中TOPCon短期内因经济性、性价比优势凸显,在N型技术中脱颖而出,大规模产能率先落地。
[0003]N型电池技术中,TOPCon技术发展极为迅速,在量产效率的快速提升过程中离不开正面硼发射极及背面磷扩薄poly金属化浆料的有力支持。因受p型硼扩区发射极电子缺失及掺杂浓度低等制约因素的影响,常规银浆在硼扩区较难形成良好接触,在硼扩区银浆设计中通常通过加入铝来实现良好的电学接触。但铝对硅的强扩散作用又使得硼扩区金属复合非常严重,而带来开压的损失。
[0004]通过激光硼掺杂可帮助TOPCon电池在正面对硼硅玻璃进行选择性掺杂,实现选择性发射极SE结构,降低电极区域的接触电阻和金属区复合,可实现0.2%

0.3%的提效。但是,激光硼掺杂较PERC SE掺杂更为复杂。硼在硅的固溶度低于磷,掺杂难度更高,在推进时需求更高的能量。即使用激光掺杂时(即与PERC的SE方式类似),需要采用功率更高的激光器。因此PERC电池产线中的激光掺杂设备在TOPCon产线中不能兼容沿用,需要重新购置激光掺杂设备。而高功率激光掺杂会导致发射极损伤,需增加高温退火工艺来消除或降低损伤,这又增加了设备投资和工艺成本。
[0005]另外,与P型硅片相比,N型硅片工艺成本存在几点劣势:a.更难控制元素分布均匀性。P型掺硼和N型掺磷,其中硼在硅中的分散系数约为0.8,大于磷在硅中约为0.35的分散系数,因此N型较P型更难控制元素分布均匀性,带来非硅成本增加;b.增加单炉总投料量。单炉投量上升会增加炉内液面高度、介质内自然对流强度上升从而引发硅料缺陷、少子寿命降低,拉晶效率降低。c.需要更高纯度的硅料(电子II级以上)、石英坩埚、热场、更细金刚线。除了纯度,为防止加热过久导致涂层脱落使得硅料杂质上升,石英坩埚的耗量也更大;热场由于N型硅片开炉次数更多、对热场氧化加深,单耗增加。此外,由于N型硅片普遍更薄,需要使用更细的金刚线。
[0006]最后,TOPCon采用AgAl浆料,Al粉的加入可以降低B掺杂P型发射极表面接触电阻,但需玻璃料控制Al刺的大小,否则会导致p

n结击穿,造成严重接触复合;Al粉表面通常会形成一层绝缘的AlOx,AgAl浆料中的玻璃料需要打开Al粉表面的AlOx层,同时烧穿AlOx/SiNx/SiNxOy,才有可能形成好的欧姆接触。所以,AgAl浆料玻璃料成分与用量与现有PERC Ag浆差异较大。通常,采用AgAl浆料制备的TOPCon电池,电池组件在做湿热(DH)测试过程中H2O的渗入加速羧酸的形成,羧酸容易腐蚀AgAl浆与硅片之间的界面玻璃层,另外Ag/Al化学势差异,导致Al被氧化腐蚀。最终,导致电池Rs快速上升,FF快速下降,严重时Isc下降明显,严重影响电池可靠性。

技术实现思路

[0007]为克服现有技术中N型硅片作为基底存在的生产工艺成本高,且进一步采用AgAl浆料制备TOPCon电池存在的AgAl浆中Al的扩散能深度大,容易导致正面金属接触区复合电流密度增加;由于Al的掺杂,导致浆料电阻率增大,从而导致电池正面栅线线电阻增大,串联电阻Rs增加,以及填充因子FF降低等的问题,本专利技术提供了一种p型背结TOPCon电池及其制备方法,采用Ag浆印刷烧结形成导电性良好的金属电极,并通过光辅助微导处理降低金属Ag浆电极与p型掺杂区之间的接触电阻,从而提升电池FF和转换效率。具体技术方案如下:
[0008]一种p型背结TOPCon电池,以p型晶硅为基底,其正面依次设置有局部p型掺杂层、掺杂钝化层、正面减反射层、正面金属电极;其背面依次设置有隧穿氧化层、n型掺杂多晶硅层、背面减反射层和背面金属电极;
[0009]所述正面金属电极穿透所述正面减反射层、所述掺杂钝化层与所述局部p型掺杂层形成欧姆接触;所述背面金属电极穿透所述背面减反射层与所述n型掺杂多晶硅层形成欧姆接触;
[0010]所述局部p型掺杂层为Al、B共掺杂层;所述正面金属电极为采用印刷烧结形成的Ag浆电极,所述Ag浆中不含Al粉。
[0011]这里,采用p型硅片制备电池,降低了电池硅片的成本;采用背结TOPCon电池结构,正面金属电极借助硅片横向导电,可以省去高温硼扩散工艺,简化工艺流程,节省设备投资,避免长时间高温工艺导致的氧沉淀缺陷的产生,降低制程不良率。
[0012]正面金属电极采用纯Ag浆料制备,其中Al含量为零。与常规AgAl浆料电极相比,纯Ag浆料电极电阻率更低,栅线的线电阻降低;浆料成分中,Al粉的取消,导致金属扩散渗透深度降低,金属区复合电流密度降低,Voc提升;Al粉取消和玻璃料的改变,提高了正面金属电极对羧酸的耐腐蚀性,降低DH衰减,改善电池可靠性。
[0013]优选地,所述基底为Ga或B掺杂p型单晶硅片。
[0014]优选地,其电阻率为0.1

3.0Ωcm,厚度为100

200um。
[0015]优选地,所述掺杂钝化层从内到外包括AlOx薄膜层和硼掺杂的SiNx薄膜层。
[0016]优选地,所述AlOx薄膜层的厚度为1

5nm,所述硼掺杂的SiNx薄膜层的厚度为5

50nm。
[0017]优选地,所述正面减反射层为SiNx、SiOxNy、SiOx中的一种或多种组成的复合膜,其与掺杂钝化层结合的总厚度为70

150nm。
[0018]本专利技术还提供了一种上述p型背结TOPCon电池的制备方法,包括如下步骤:
[0019]步骤一,在基底背面沉积隧穿氧化层和本征多晶硅层,对本征多晶硅层进行n型磷掺杂;
[0020]步骤二,单面刻蚀去除正面PSG,保留背面的PSG阻挡层;单面制绒在单晶硅片正面形成金字塔绒面结构,并清洗去除背面的PSG阻挡层;
[0021]步骤三,在硅片正面硼掺杂层表面沉积一层致密的AlOx薄膜;在AlOx薄膜表面沉积一层硼掺杂的SiNx膜层;
[0022]步骤四,以正面沉积的掺杂钝化层为掺杂源,采用激光掺杂形成局部p型掺杂层;
[0023]步骤五,沉积正面减反射层和背面减反射层;
[0024]步骤六,在硅片正背面印刷Ag浆,烘干烧结后,背面Ag浆与n型磷掺杂多晶硅层形成良好的欧姆接触;
[0025]步骤七,光辅助微导处理正面Ag浆电极,使金属电极中的Ag与p型掺杂区的Si相互扩散,形成AgSix合金。
[0026]采用Ag浆印刷烧结形成导电性良好的金属电极,并针对Ag浆与p型掺杂区接触性能较差的问题,通过光辅助微导处理降低金属Ag浆电极与p型掺杂层之间的接触电阻,从而提升电池FF和转换效率本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种p型背结TOPCon电池,其特征在于,以p型晶硅为基底,其正面依次设置有局部p型掺杂层、掺杂钝化层、正面减反射层、正面金属电极;其背面依次设置有隧穿氧化层、n型掺杂多晶硅层、背面减反射层和背面金属电极;所述正面金属电极穿透所述正面减反射层、所述掺杂钝化层与所述局部p型掺杂层形成欧姆接触;所述背面金属电极穿透所述背面减反射层与所述n型掺杂多晶硅层形成欧姆接触;所述局部p型掺杂层为Al、B共掺杂层;所述正面金属电极为采用印刷烧结形成的Ag浆电极,所述Ag浆中不含Al粉。2.根据权利要求1所述的一种p型背结TOPCon电池,其特征在于,所述基底为Ga或B掺杂p型单晶硅片。3.根据权利要求1所述的一种p型背结TOPCon电池,其特征在于,其电阻率为0.1

3.0Ωcm,厚度为100

200um。4.根据权利要求1所述的一种p型背结TOPCon电池,其特征在于,所述掺杂钝化层从内到外包括AlOx薄膜层和硼掺杂的SiNx薄膜层。5.根据权利要求4所述的一种p型背结TOPCon电池,其特征在于,所述AlOx薄膜层的厚度为1

5nm,所述硼掺杂的SiNx薄膜层的厚度为5

50nm。6.根据权利要求1所述的一种p型背结TOPCon电池,其特征在于,所述正面减反射层为SiNx、SiOxNy、SiOx中的一种或多种组成的复合膜,其与掺杂钝化层结合的总厚度为70

150nm。7.一种如权利要求1

6任一项所述p型背结TOPCon电池的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤一,在基底背面沉积隧穿氧化层和本征多晶硅层,对本征多晶硅层进行n型磷掺杂;步骤二,单面刻蚀去除正面PSG,保留背面的PSG阻挡层;单面制绒在单晶硅片正面形成金字塔绒面结构,并清洗去除背面的PSG阻挡层;步骤三,在硅片正面硼掺杂层表面沉积一层致密的AlOx薄膜;在AlOx薄膜表面沉积一层硼掺杂的SiNx膜层;步骤四,以正面沉积的掺杂钝化层为掺杂源,采用激光掺杂形成局部p...

【专利技术属性】
技术研发人员:毛卫平金竹周晓炜陈桂栋杨阳潘利民
申请(专利权)人:滁州捷泰新能源科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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