发光装置制造方法及图纸

发光装置具备：基板，具有第1面；包覆层，位于基板的第1面上；芯体，位于包覆层内；盖体，位于包覆层上；第1发光元件，位于第1面上的元件密封区域内；第2发光元件，位于元件密封区域内；第1受光元件，位于元件密封区域内；和第2受光元件。第1受光元件的第1受光面与盖体对置，第2受光元件的第2受光面与盖体对置。第2受光元件的第2受光面与盖体对置。第2受光元件的第2受光面与盖体对置。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】发光装置


[0001]本公开涉及发光装置。

技术介绍

[0002]专利文献1中记载了现有技术的一例。
[0003]在先技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：国际公开第2015/012024号

技术实现思路

[0006]本公开的发光装置具备：
[0007]基板，具有第1面；
[0008]第1发光元件，位于所述第1面上的元件密封区域内；
[0009]第2发光元件，位于所述元件密封区域内；
[0010]包覆层，位于所述第1面上；
[0011]第1芯体，位于所述包覆层内，入射来自所述第1发光元件的光；
[0012]第2芯体，位于所述包覆层内，入射来自所述第2发光元件的光；
[0013]盖体，位于所述包覆层上，与所述包覆层一起规定所述元件密封区域；
[0014]第1受光元件，位于所述元件密封区域内，具有与所述盖体对置的第1受光面；和
[0015]第2受光元件，位于所述元件密封区域内，具有与所述盖体对置第2受光面。
[0016]此外，本公开的发光装置具备：
[0017]基板，具有第1面；
[0018]第1发光元件，位于所述第1面上；
[0019]第2发光元件，位于所述第1面上；
[0020]包覆层，位于所述第1面上；
[0021]第1芯体，位于所述包覆层内，入射来自所述第1发光元件的光；
[0022]第2芯体，位于所述包覆层内，入射来自所述第2发光元件的光；
[0023]第1受光元件，位于所述第1面上，具有与所述第1面的对置面的相反面即第1受光面；
[0024]第2受光元件，位于所述第1面上，具有与所述第1面的对置面的相反面即第2受光面；和
[0025]密封构件，将所述第1发光元件、所述第2发光元件、所述第1受光元件以及所述第2受光元件密封。
附图说明
[0026]本公开的目的、特点以及优点通过下述的详细的说明和附图变得更为明确。
[0027]图1是表示本公开的实施方式的发光装置的分解立体图。
[0028]图2是省略了图1所示的发光装置的盖体的俯视图。
[0029]图3是从图2的切断面线III
‑
III观察的发光装置的剖视图。
[0030]图4是表示本公开的其他实施方式的发光装置的放大剖视图。
[0031]图5是表示本公开的其他实施方式的发光装置的放大剖视图。
[0032]图6是表示本公开的其他实施方式的发光装置的放大剖视图。
[0033]图7是表示本公开的其他实施方式的发光装置的放大剖视图。
[0034]图8是表示本公开的其他实施方式的发光装置的放大剖视图。
[0035]图9是表示本公开的其他实施方式的发光装置的放大剖视图。
[0036]图10是表示本公开的其他实施方式的发光装置的放大剖视图。
[0037]图11是表示本公开的其他实施方式的发光装置的放大剖视图。
[0038]图12是表示本公开的其他实施方式的发光装置的放大剖视图。
[0039]图13是表示本公开的其他实施方式的发光装置的放大剖视图。
[0040]图14是表示本公开的其他实施方式的发光装置的放大剖视图。
[0041]图15是表示本公开的其他实施方式的发光装置的放大剖视图。
[0042]图16是表示本公开的其他实施方式的发光装置的放大俯视图。
具体实施方式
[0043]在具备作为本公开的基础的结构的发光元件等的光源的发光装置中，监视从光源出射的光的强度，将出射光控制为期望的输出。来自光源的光的强度通过基于设置在发光装置内的受光元件的受光量来进行监视。
[0044]专利文献1记载的光源装置使用RGB的各色专用的光模块，各光模块包含LD阵列和PD阵列。PD阵列对LD阵列的后方光进行受光，监视光量。
[0045]如专利文献1记载的光模块那样，受光元件为了对发光元件的后方光进行受光，被搭载为受光元件的受光面与发光元件对置。受光面在受光元件中具有最广的面积，若使其与发光元件对置，则搭载状态的受光元件的高度尺寸变高，难以实现发光装置的低矮化。
[0046]本公开的发光装置具备：
[0047]基板，具有第1面；
[0048]第1发光元件，位于所述第1面上的元件密封区域内；
[0049]第2发光元件，位于所述元件密封区域内；
[0050]包覆层，位于所述第1面上；
[0051]第1芯体，位于所述包覆层内，入射来自所述第1发光元件的光；
[0052]第2芯体，位于所述包覆层内，入射来自所述第2发光元件的光；
[0053]盖体，位于所述包覆层上，与所述包覆层一起规定所述元件密封区域；
[0054]第1受光元件，位于所述元件密封区域内，具有与所述盖体对置的第1受光面；和
[0055]第2受光元件，位于所述元件密封区域内，具有与所述盖体对置的第2受光面。
[0056]此外，本公开的发光装置具备：
[0057]基板，具有第1面；
[0058]第1发光元件，位于所述第1面上；
[0059]第2发光元件，位于所述第1面上；
[0060]包覆层，位于所述第1面上；
[0061]第1芯体，位于所述包覆层内，入射来自所述第1发光元件的光；
[0062]第2芯体，位于所述包覆层内，入射来自所述第2发光元件的光；
[0063]第1受光元件，位于所述第1面上，具有与所述第1面的对置面的相反面即第1受光面；
[0064]第2受光元件，位于所述第1面上，具有与所述第1面的对置面的相反面即第2受光面；和
[0065]密封构件，将所述第1发光元件、所述第2发光元件、所述第1受光元件以及所述第2受光元件密封。
[0066]以下，参照附图，对本公开的发光装置的实施方式进行说明。图1至图3所涉及的本实施方式的发光装置100具备：基板1，具有第1面2；包覆层3，位于基板1的第1面2上；芯体4，位于包覆层3内；盖体11，位于包覆层3上；第1发光元件10a，位于第1面2上的元件密封区域9内；第2发光元件10b，位于元件密封区域9内；第1受光元件12a，位于元件密封区域9内；和第2受光元件12b，位于元件密封区域9内。
[0067]本实施方式的发光装置100具备第1发光元件10a以及第2发光元件10b，还具备第3发光元件10c。这些例如应用第1发光元件10a出射红色(R)光、第2发光元件10b出射绿色(G)光、第3发光元件10c出射蓝色(B)光的激光二极管等。有时将第1发光元件10a、第2发光元件10b以及第3发光元件10c统一称为发光元件10。本实施方式的发光装置100具备第1受光元件12a以及第2受光元件12b，还具备第3受光元件12c。第1受光元件12a具有对来自第1发光元件10a的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种发光装置，具备：基板，具有第1面；第1发光元件，位于所述第1面上的元件密封区域内；第2发光元件，位于所述元件密封区域内；包覆层，位于所述第1面上；第1芯体，位于所述包覆层内，入射来自所述第1发光元件的光；第2芯体，位于所述包覆层内，入射来自所述第2发光元件的光；盖体，位于所述包覆层上，与所述包覆层一起规定所述元件密封区域；第1受光元件，位于所述元件密封区域内，具有与所述盖体对置的第1受光面；和第2受光元件，位于所述元件密封区域内，具有与所述盖体对置的第2受光面。2.根据权利要求1所述的发光装置，其中，所述盖体具有凹部，在所述凹部的内表面包含底部和侧部。3.根据权利要求2所述的发光装置，其中，在所述凹部的内表面具有第1反射膜。4.根据权利要求3所述的发光装置，其中，所述第1反射膜位于所述底部以及所述侧部。5.根据权利要求3或者4所述的发光装置，其中，在所述盖体与所述包覆层的对置部的所述包覆层上具备密封金属膜，所述盖体在比所述对置部处的所述密封金属膜更靠内侧，具有与所述第1反射膜相连的第2反射膜。6.根据权利要求3或者4所述的发光装置，其中，在所述盖体与所述包覆层的对置部的所述包覆层上具备密封金属膜，所述盖体在所述对置部具有第3反射膜，所述第3反射膜设置为在俯视透视下与所述密封金属膜重叠，并与所述第1反射膜相连。7.根据权利要求2所述的发光装置，其中，所述盖体是透明体，所述盖体在外表面具有第4反射膜。8.根据权利要求4至7的任一项所述的发光装置，其中，所述凹部的所述侧部随着远离所述包覆层而向外侧倾斜。9.根据权利要求4至7的任一项所述的发光装置，其中，所述凹部的所述内表面是圆顶状。10.根据权利要求2或者3所述的发光装置，...

【专利技术属性】
技术研发人员：板仓祥哲，
申请(专利权)人：京瓷株式会社，
类型：发明
国别省市：