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一种等离子体电解氧化温敏荧光涂层制造技术

技术编号:38996971 阅读:59 留言:0更新日期:2023-10-07 10:27
本发明专利技术公开了一种等离子体电解氧化温敏荧光涂层。该涂层原位生长于纯钛或钛合金表面,制备方法为等离子体电解氧化法。涂层由金红石型和锐钛矿型二氧化钛构成,铕离子作为发光中心占据钛离子格位。涂层可由紫外光激发,主发射峰位于蓝光和红光波段,分别对应于TiO2的本征发射和Eu

【技术实现步骤摘要】
一种等离子体电解氧化温敏荧光涂层


[0001]本专利技术涉及一种等离子体电解氧化温敏荧光涂层,属于涂层


技术介绍

[0002]荧光涂层是一种具有光转换功能的涂层材料,在照明、指示、防伪、传感等领域有着广阔的应用前景。温敏荧光涂层是实现远距离非接触式光学测温的重要方式。
[0003]传统温敏荧光涂层大多是将混合有荧光物质的高分子材料通过浸涂、刮涂、旋涂、狭缝涂覆等方法附着于基材表面。但此类的复合方式普遍来讲技术复杂,对加工设备有一定的要求,且涂层和基材的结合力有待提高,难以大规模推广应用。等离子体电解氧化是一项金属材料表面处理技术,可以在极短时间内将金属材料表面陶瓷化,所获得的涂层与基材间具有较强的结合力,膜层厚度可控,通常用于增强金属材料表面的硬度、耐磨、耐蚀等性能。因此,如果能够将等离子体电解氧化技术应用于温敏荧光涂层的制备,或赋予等离子体电解氧化涂层以温敏荧光性能,则有望简化温敏荧光涂层的制备工艺,降低生产成本,提高涂层与基材的结合力,为温敏荧光涂层的制备和加工提供更多选择。

技术实现思路
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种等离子体电解氧化温敏荧光涂层,其特征在于:所述涂层原位生长于纯钛或钛合金表面,制备方法为等离子体电解氧化法。涂层由金红石型和锐钛矿型二氧化钛构成,铕离子作为发光中心占据钛离子格位。涂层可由紫外光激发,主发射峰位于蓝光和红光波段,分...

【专利技术属性】
技术研发人员:王梓垚李会马国峰张园园刘海坤
申请(专利权)人:沈阳大学
类型:发明
国别省市:

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