一种腔光力学系统及其制备方法技术方案

本发明专利技术提供了一种腔光力学系统及其制备方法，包括：第一端镜和第二端镜；所述第一端镜包括：外框架、质量块及悬浮梁；所述外框架为带有缺陷的二维声子晶体结构；所述质量块位于外框架缺陷的中间，其为二维光子晶体膜或表面镀有二维光子晶体膜；所述悬浮梁用于将质量块与外框架连接；所述第二端镜的预设区域为二维光子晶体膜或镀有二维光子晶体膜；所述第一端镜和第二端镜的二维光子晶体膜正对放置。本发明专利技术将声子晶体和光子晶体同时应用于MEMS器件制造，能够减少器件的工艺步骤，并使腔光力学系统具有极高的品质因子，在应用中将具有更高的检测灵敏度及更为明显的光力耦合效果。检测灵敏度及更为明显的光力耦合效果。检测灵敏度及更为明显的光力耦合效果。

【技术实现步骤摘要】
一种腔光力学系统及其制备方法


[0001]本专利技术属于微纳器件领域，更具体地，涉及一种腔光力学系统及其制备方法。

技术介绍

[0002]腔光力学耦合系统是光学微腔和微型机械谐振器相互交汇而形成的一个新的领域。在典型的腔光力学系统中，利用辐射压力实现光学模式和机械模式的耦合作用，这种耦合可以产生许多显著效果，如：超灵敏检测、光力诱导透明、纳米机械振子的量子基态冷却和量子信息科学等。高品质因子腔光力学器件是实现强光力学耦合的必备条件，辐射压力在光场强度小、谐振器束缚能力较弱的情况下很难表现出明显特性，随着光力学器件品质因子增大，光子能够更有效、长久地限制在腔内，通过能量积累，辐射压力对机械振子作用力将不可忽略，微腔物理性质(频率、耗散等)将受该耦合机制影响。然而，对于微纳制造的微米甚至纳米尺寸的器件，表面往往因刻蚀条件导致凹凸不平，难以制备高品质因子微腔。此外，微型机械谐振器受限于材料、锚点等耗散影响，难以隔绝与外界环境的耦合，难以制备高品质因子微机械谐振器。
[0003]中国专利文献CN110260851A公开了一种基于双亚波长光栅腔检本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种腔光力学系统，其特征在于，包括：第一端镜和第二端镜；所述第一端镜包括：外框架、质量块及悬浮梁；所述外框架为带有缺陷的二维声子晶体结构；所述质量块位于外框架缺陷的中间，其为二维光子晶体膜或表面镀有二维光子晶体膜；所述悬浮梁用于将质量块与外框架连接；所述第二端镜的预设区域为二维光子晶体膜或镀有二维光子晶体膜；所述第一端镜和第二端镜的二维光子晶体膜正对放置。2.根据权利要求1所述的腔光力学系统，其特征在于，所述二维声子晶体结构包括周期性排列的单元胞，所述单元胞的周期性分布参数决定其缺陷抑制驻波传播的频段，称为声子禁带。3.根据权利要求2所述的腔光力学系统，其特征在于，所述质量块的大小和悬浮梁的长度决定第一端镜的本征频率；所述本征频率应处于二维声子晶体结构的声子禁带内。4.根据权利要求1所述的腔光力学系统，其特征在于，所述二维光子晶体膜包括周期性分布的空穴腔。5.根据权利要求4所述的腔光力学系统，其特征在于，所述空穴腔的直径为同一种或多种尺寸。6.根据权利要求4或5所述的腔光力学系统，其特征在于，所述空穴腔的直径决定二维光子晶体膜的工作波段；所述工作波段指的是二维光子晶体膜反射光的波段。7.一种权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员：王秋，焦世民，刘骅锋，周泽兵，
申请(专利权)人：华中科技大学，
类型：发明
国别省市：