钴铬合金支架的电化学抛光液、制备方法及抛光方法技术

本发明专利技术涉及电化学抛光领域，具体涉及一种钴铬合金支架的电化学抛光液、制备方法及抛光方法，本电化学抛光液包括以下重量份的各组分：28～44份冰乙酸，7～9份高氯酸，7～13份乙二醇，5～15份丙烷磺酸吡啶嗡盐和19～53份无水乙醇。本发明专利技术的钴铬合金支架的电化学抛光液可在钴铬合金支架的表面生成一层稳定的钝化膜从而提升耐腐蚀性能，减少钝化工序，以提高生产效率，采用旋转滚动方式的抛光方法可明显提高钴铬合金支架的表面处理质量，减少表面凸点、凹坑，显著降低表面粗糙度。显著降低表面粗糙度。显著降低表面粗糙度。

【技术实现步骤摘要】
钴铬合金支架的电化学抛光液、制备方法及抛光方法


[0001]本专利技术涉及电化学抛光领域，具体涉及一种钴铬合金支架的电化学抛光液、制备方法及抛光方法。

技术介绍

[0002]介入血管支架治疗是解决心血管狭窄、提高病人生存几率、提高病人生存质量和生存时间的有效方法。钴铬合金材质被用于支架生产也越来越广泛。但是，钴铬合金经过初加工后，其表面状态粗糙，不光滑，影响支架与血液相容性。支架的粗糙度越大，暴露在血液中的面积越大，可能造成血流不畅及凝血的可能性越大。
[0003]专利公开号为CN113089071A的专利公开了一种用于钴铬合金支架电化学抛光的抛光液，其中包括浓硫酸、乙二醇、柠檬酸和水，以及专利公开号为CN111850668A的专利公开了小口径管网状金属样件的表面修饰方法。这些虽然可以实现钴铬合金的电化学抛光，但是容易出现凸起、凹坑和内外表面腐蚀等缺陷，抛光表面粗糙度较高，且在完成电化学抛光后需额外做钝化处理增加耐腐蚀性能。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的是提供一种钴铬合金支架的电化学抛光液、制备方法及抛光方法。
[0005]为了解决上述技术问题，本专利技术提供了一种钴铬合金支架的电化学抛光液，包括以下重量份的各组分：28～44份冰乙酸，7～9份高氯酸，7～13份乙二醇，5～15份丙烷磺酸吡啶嗡盐和19～53份无水乙醇。
[0006]进一步的，所述冰乙酸的重量百分比浓度为28％～44％，所述高氯酸的重量百分比浓度为7％～9％。
[0007]进一步的，所述冰乙酸的重量百分比浓度为28％，所述高氯酸的重量百分比浓度为7％。
[0008]又一方面，本专利技术还提供了一种钴铬合金支架的电化学抛光液的制备方法，包括：按重量份分别称量28～44份冰乙酸，7～9份高氯酸，7～13份乙二醇，5～15份丙烷磺酸吡啶嗡盐和19～53份无水乙醇；将称量得到的冰乙酸、乙二醇和丙烷磺酸吡啶嗡盐混合，按400～600转/分钟的转速搅拌10～15分钟，温度控制在20～30℃，制得第一预混液；将称量得到的高氯酸加入无水乙醇中混合，按400～600转/分钟的转速搅拌10～15分钟，温度控制在20～30℃，制得第二预混液；将第一预混液和第二预混液混合，按400～600转/分钟的转速搅拌30～40分钟，温度控制在20～30℃，制得电化学抛光液。
[0009]第三方面，本专利技术还提供了一种钴铬合金支架的电化学抛光方法，包括：利用电化学抛光装置将待抛光的钴铬合金支架固定，并使其在上述电化学抛光液中通过旋转滚动的方式进行电化学抛光。
[0010]进一步的，所述电化学抛光的参数为抛光电压为15～30V，抛光电流为1～7A,抛光温度为5～25℃，抛光时间为1～8min，阴阳极间距为5～25cm。
[0011]进一步的，所述电化学抛光装置包括：电化学抛光槽，用于盛放所述电化学抛光液，其内设置有与一直流电源的负极相连的阴极管；磁力搅拌器，用于驱动电化学抛光槽中的磁力转子搅拌电化学抛光液；可移动升降平台，设置在电化学抛光槽的上方；以及旋转机构，滑动设置在可移动升降平台上，用于驱动与所述直流电源正极相连的待抛光的钴铬合金支架在所述电化学抛光液中旋转。
[0012]进一步的，所述旋转机构包括：定位安装座，滑动滑动安装在所述可移动升降平台上；顶部定位件，在定位安装座上滑动至预设位置后固定，其下方设置有用于放置旋转电机的电机卡槽；钛合金芯棒，设置在电机卡槽的下方，用于固定待抛光的钴铬合金支架；以及固定夹具，用于将钛合金芯棒与所述旋转电机的输出轴固定。
[0013]进一步的，所述电化学抛光装置的工作过程，包括：将待抛光的钴铬合金支架固定；开启磁力搅拌器，控制磁力转子搅拌电化学抛光液，并接通直流电源；将待抛光的钴铬合金支架放入电化学抛光液中沿磁力搅拌的相反方向旋转，并使其在电化学抛光液中往复升降滚动。
[0014]进一步的，所述磁力转子的搅拌速率为200r/min～1000r/min。
[0015]本专利技术的有益效果是，本专利技术的钴铬合金支架的电化学抛光液可在钴铬合金支架的表面生成一层稳定的钝化膜从而提升耐腐蚀性能，减少钝化工序，以提高生产效率，采用旋转滚动方式的抛光方法可明显提高钴铬合金支架的表面处理质量，减少表面凸点、凹坑，显著降低表面粗糙度。
[0016]本专利技术的其他特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本专利技术而了解。本专利技术的目的和其他优点在说明书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。
[0017]为使本专利技术的上述目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附附图，作详细说明如下。
附图说明
[0018]为了更清楚地说明本专利技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本专利技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0019]图1是本专利技术的钴铬合金支架的电化学抛光方法中的一种可选电化学抛光装置的立体图；
[0020]图2是本专利技术的实施例1中抛光后钴铬合金支架的表面状态示意图；
[0021]图3是本专利技术的对比例1中抛光后钴铬合金支架的表面状态示意图；
[0022]图4是本专利技术的实施例1中抛光后钴铬合金支架的电化学动电位循环极化曲线图；
[0023]图5是本专利技术的对比例1中抛光后钴铬合金支架的电化学动电位循环极化曲线图；
[0024]图6是本专利技术的对比例2中抛光后钴铬合金支架的电化学动电位循环极化曲线图。
[0025]图中：
[0026]电化学抛光槽1、阴极管11、磁力搅拌器2、可移动升降平台3、旋转机构4、定位安装座41、顶部定位件42、电机卡槽43、旋转电机44、钛合金芯棒45、固定夹具46。
具体实施方式
[0027]为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本专利技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0028]实施例1
[0029]本实施例1提供了一种钴铬合金支架的电化学抛光液，其制备方法如下：
[0030](1)按重量份分别称量28份冰乙酸，7份高氯酸，7份乙二醇，5份丙烷磺酸吡啶嗡盐和53份无水乙醇；
[0031](2)将称量得到的冰乙酸、乙二醇和丙烷磺酸吡啶嗡盐混合，按400～600转/分钟的转速搅拌10～15分钟，温度控制在20～30℃，制得第一预混液；
[0032](3)将称量得到的高氯酸加入无水乙醇中混合，按400～600转/分钟的转速搅拌10～15分钟，温度控制在20～30℃，制得第二预混液；
[0033](4)将第一预混液和第本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种钴铬合金支架的电化学抛光液，其特征在于，包括以下重量份的各组分：28～44份冰乙酸，7～9份高氯酸，7～13份乙二醇，5～15份丙烷磺酸吡啶嗡盐和19～53份无水乙醇。2.根据权利要求1所述的钴铬合金支架的电化学抛光液，其特征在于，所述冰乙酸的重量百分比浓度为28％～44％，所述高氯酸的重量百分比浓度为7％～9％。3.根据权利要求2所述的钴铬合金支架的电化学抛光液，其特征在于，所述冰乙酸的重量百分比浓度为28％，所述高氯酸的重量百分比浓度为7％。4.一种钴铬合金支架的电化学抛光液的制备方法，其特征在于，包括：按重量份分别称量28～44份冰乙酸，7～9份高氯酸，7～13份乙二醇，5～15份丙烷磺酸吡啶嗡盐和19～53份无水乙醇；将称量得到的冰乙酸、乙二醇和丙烷磺酸吡啶嗡盐混合，按400～600转/分钟的转速搅拌10～15分钟，温度控制在20～30℃，制得第一预混液；将称量得到的高氯酸加入无水乙醇中混合，按400～600转/分钟的转速搅拌10～15分钟，温度控制在20～30℃，制得第二预混液；将第一预混液和第二预混液混合，按400～600转/分钟的转速搅拌30～40分钟，温度控制在20～30℃，制得电化学抛光液。5.一种钴铬合金支架的电化学抛光方法，其特征在于，包括：利用电化学抛光装置将待抛光的钴铬合金支架固定，并使其在如权利要求1
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3任一项所述的电化学抛光液中通过旋转滚动的方式进行电化学抛光。6.根据权利要求5所述的钴铬合金支架的电化学抛光方法，其特征在于，所述电化学抛光的参数为抛光电压为15～30V，抛光电流为1～7A,抛光温度为5～2...

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡蒙，蒋飞，欧志龙，
申请(专利权)人：常州英诺激光科技有限公司，
类型：发明
国别省市：