静电潜像显影用调色剂、静电潜像显影剂、调色剂盒、处理盒、图像形成装置及方法制造方法及图纸

一种静电潜像显影用调色剂，其含有：调色剂粒子；二氧化硅粒子(A)，外添于所述调色剂粒子，并且含有含氮元素化合物，所述含氮元素化合物含有钼元素；及所述二氧化硅粒子(A)以外的无机粒子(B)，外添于所述调色剂粒子，所述二氧化硅粒子(A)中，通过荧光X射线分析测定的钼元素的Net强度N

【技术实现步骤摘要】
静电潜像显影用调色剂、静电潜像显影剂、调色剂盒、处理盒、图像形成装置及方法


[0001]本专利技术涉及一种静电潜像显影用调色剂、静电潜像显影剂、调色剂盒、处理盒、图像形成装置及图像形成方法。

技术介绍

[0002]专利文献1中公开了一种调色剂，其具备调色剂母粒和附着于调色剂母粒的表面的外添剂，外添剂含有体积中位直径为15nm以上且25nm以下、电阻率为1.0
×
10
15
Ω
·
cm以上的第1二氧化硅粉体和体积中位直径为70nm以上且120nm以下、电阻率为85Ω
·
cm以下、密度为2.8g/cm3以下的第2二氧化硅粉体。
[0003]专利文献2中公开了一种调色剂，其含有调色剂母粒和外添剂，所述调色剂母粒含有粘结树脂及着色剂，外添剂含有非球形粒子及球形粒子，非球形粒子为球形的一次粒子彼此聚结而成的二次粒子，非球形粒子和球形粒子满足式(1)。
[0004]专利文献3中公开了一种静电潜像显影用调色剂，其由调色剂粒子和添加剂构成，其中，添加剂含有疏水化处理二氧化硅和本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种静电潜像显影用调色剂，其含有：调色剂粒子；二氧化硅粒子(A)，外添于所述调色剂粒子，并且含有含氮元素化合物，所述含氮元素化合物含有钼元素；及所述二氧化硅粒子(A)以外的无机粒子(B)，外添于所述调色剂粒子，所述二氧化硅粒子(A)中，通过荧光X射线分析测定的钼元素的Net强度N
Mo
与硅元素的Net强度N
Si
之比N
Mo
/N
Si
为0.035以上且0.45以下，所述无机粒子(B)的平均一次粒径为10nm以上且80nm以下。2.根据权利要求1所述的静电潜像显影用调色剂，其中，所述二氧化硅粒子(A)的所述比N
Mo
/N
Si
为0.05以上且0.30以下。3.根据权利要求1或2所述的静电潜像显影用调色剂，其中，当测定外添于所述调色剂粒子的所述二氧化硅粒子(A)及所述无机粒子(B)的整体圆度时，圆度分布具有至少两个峰，在圆度超过0.88的区域存在至少一个峰，在圆度为0.88以下的区域存在至少一个峰。4.根据权利要求1至3中任一项所述的静电潜像显影用调色剂，其中，所述无机粒子(B)含有所述二氧化硅粒子(A)以外的二氧化硅粒子(B)。5.根据权利要求1至4中任一项所述的静电潜像显影用调色剂，其中，所述无机粒子(B)含有钛化合物粒子。6.根据权利要求1至4中任一项所述的静电潜像显影用调色剂，其中，所述无机粒子(B)含有钛酸锶粒子。7.根据权利要求1至5中任一项所述的静电潜像显影用调色剂，其中，所述无机粒子(B)含有所述二氧化硅粒子(A)以外的二氧化硅粒子(B)和钛化合物粒子。8.根据权利要求7所述的静电潜像显影用调色剂，其中，所述钛化合物粒子的含量相对于所述调色剂粒子100质量份为0.1质量份以上且1.0质量份以下。9.根据权利要求1至6中任一项所述的静电潜像显影用调色剂，其中，所述无机粒子(B)含有所述二氧化硅粒子(A)以外的二氧化硅粒子(B)和钛酸锶粒子。10.根据权利要求9所述的静电潜像显影用调色剂，其中，所述钛酸锶粒子的含量相对于所述调色剂粒子100质量份为0.1质量份以上且1.0质量份以下。11.根据权利要求1至10中任一项所述的静电潜像显影用调色剂，其中，所述无机粒子(B)的体积电阻率为1.0
×
10
14
Ω
·
cm以上且1.0
×
10
17
Ω
·
cm...

【专利技术属性】
技术研发人员：鸟居靖子，鹤见洋介，荒井聡一郎，
申请(专利权)人：富士胶片商业创新有限公司，
类型：发明
国别省市：