低反射层、光学镜头组、取像装置及电子装置制造方法及图纸

本揭示内容提供一种低反射层、光学镜头组、取像装置及电子装置，光学镜头组包含至少一光学镜片以及至少一光学元件。光学镜片或光学元件的至少一表面具有一低反射层，低反射层包含一粗糙层、一纳米结晶颗粒与一疏水层，纳米结晶颗粒配置在粗糙层与疏水层间，且疏水层较纳米结晶颗粒远离光学镜片或光学元件的表面。纳米结晶颗粒的材料至少包含SiO2。借此，有助于破坏并削弱入射在表面的杂散光线强度，有助维持光学镜片或光学元件表面的超低反射率，并明显提升光学镜头组的光学成像品质。并明显提升光学镜头组的光学成像品质。并明显提升光学镜头组的光学成像品质。

【技术实现步骤摘要】
低反射层、光学镜头组、取像装置及电子装置


[0001]本专利技术是关于一种光学镜头组、取像装置及电子装置，特别是关于一种包含光学镜片或光学元件，且光学镜片或光学元件的表面具有低反射层的光学镜头组、取像装置及电子装置。

技术介绍

[0002]近年来日趋流行以移动装置的微型光学镜头进行摄影拍照，但移动装置常因在户外使用而受到强烈阳光光线影响，使得光学镜头被强烈非成像杂散光大幅降低成像品质。
[0003]习知策略在组成光学镜头的不透明光学元件表面进行涂墨、喷砂与镀膜等技术，以达到降低反射率与消除杂散光线效果，如此虽可提升光学成像品质但其效果仍不足消除高强度杂散光线。在非移动装置光学镜头领域具有其他降低反射率技术，其通过蚀刻膜层表面以产生具多孔洞的微结构，但其结构支撑性不足，易因外力导致膜层变形而大幅降低抗反射效果。进一步虽有习知技术以多层镀膜方式欲求达到更较佳的抗反射效果，但多层制作过程复杂且镀膜成本居高不下而无法于光学镜头产业广泛应用。

技术实现思路

[0004]本揭示内容的光学镜头组于光学镜片或光学元件的至少一表面设置低反射层，低反射层表面是施以粗糙化工艺(例如干蚀刻)，再以适当材料在表面进行成核反应(如物理气象沉积(Physical vapor deposition)或化学气相沉积(chemical vapor deposition)，又如真空蒸镀(Vacuum evaporation)、溅镀(Sputtering)与离子镀着(Ion plating)等)，以通过结晶化过程制造出具有纳米结晶(Nano
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Crystallization)的表面结构。再者，由于低反射层表面具有适当颗粒大小的纳米结晶颗粒，可破坏并削弱入射在所述表面的杂散光线强度，而选择适当折射率的纳米结晶材料，能够使光学镜片或光学元件的表面与空气间的折射率达到渐层分布，使光线顺利入射但却无法反射，有助维持光学镜片或光学元件表面的超低反射率，明显提升光学镜头组的光学成像品质。再者，通过外层疏水层设计，有助于防止组装光学镜头组时粘胶扩散导致反光严重，达到保护内部反射层结构且不影响超低反射效果。因此，本揭示内容的技术适合应用在移动装置中光学镜头组与取像装置的各种元件表面，具有明显提升光学成像品质效果与广泛应用的成本优势。
[0005]依据本揭示内容的一态样提供一种光学镜头组，包含至少一光学镜片以及至少一光学元件。光学镜片或光学元件的至少一表面具有一低反射层，低反射层包含一粗糙层、一纳米结晶颗粒与一疏水层，纳米结晶颗粒配置在粗糙层与疏水层间，且疏水层较纳米结晶颗粒远离光学镜片或光学元件的表面。纳米结晶颗粒的材料至少包含SiO2。纳米结晶颗粒的平均粒径为DC，其满足下列条件：200nm<DC<1000nm。
[0006]依据本揭示内容的另一态样提供一种取像装置，包含一光学镜头组以及至少一载体。光学镜头组或载体的至少一表面具有一低反射层，低反射层包含一粗糙层、一纳米结晶颗粒与一疏水层，纳米结晶颗粒配置在粗糙层与疏水层间，且疏水层较纳米结晶颗粒远离
光学镜头组或载体的表面。纳米结晶颗粒的材料至少包含SiO2。纳米结晶颗粒的平均粒径为DC，其满足下列条件：200nm<DC。
[0007]依据本揭示内容的另一态样提供一种电子装置，包含前段所述的取像装置。
[0008]依据本揭示内容的又一态样提供一种低反射层，包含一粗糙层、一纳米结晶颗粒以及一疏水层，其中纳米结晶颗粒配置在粗糙层与疏水层间。纳米结晶颗粒的材料至少包含SiO2。纳米结晶颗粒的平均粒径为DC，具低反射层的一表面于波长400nm
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1000nm的反射率为R40100，其满足下列条件：200nm<DC<1000nm；以及0％<R40100≤2.4％。
附图说明
[0009]为让本揭示内容的上述和其他目的、特征、优点与实施例能更明显易懂，所附附图的说明如下：
[0010]图1是第一比较例的基底表面的影像；
[0011]图2是绘示第一比较例中具反射层的表面的反射率与波长的关系图；
[0012]图3是绘示第二比较例中具反射层的表面的反射率与波长的关系图；
[0013]图4是第一实施例的基底表面的影像；
[0014]图5是绘示第一实施例中具低反射层的表面的反射率与波长的关系图；
[0015]图6是第二实施例的结晶表面影像；
[0016]图7是绘示第二实施例中具低反射层的表面的反射率与波长的关系图；
[0017]图8是绘示第三实施例中具低反射层的表面的反射率与波长的关系图；
[0018]图9是第四实施例的结晶表面影像；
[0019]图10是绘示第四实施例中具低反射层的表面的反射率与波长的关系图；
[0020]图11绘示依照本揭示内容第五实施例的一种取像装置的立体示意图；
[0021]图12A绘示依照本揭示内容第六实施例的一种电子装置的一侧的示意图；
[0022]图12B绘示依照图12A中电子装置的另一侧的示意图；
[0023]图12C绘示依照图12A中电子装置的系统示意图；
[0024]图13绘示依照本揭示内容第七实施例的一种电子装置的一侧的示意图；
[0025]图14绘示依照本揭示内容第八实施例的一种电子装置的一侧的示意图；
[0026]图15A绘示依照本揭示内容第九实施例的一种电子装置的一侧的示意图；
[0027]图15B绘示依照图15A中电子装置的另一侧的示意图；
[0028]图16A绘示依照本揭示内容的光路转折元件在光学镜头组中的一种配置关系示意图；
[0029]图16B绘示依照本揭示内容的光路转折元件在光学镜头组中的另一种配置关系示意图；
[0030]图16C绘示依照本揭示内容的二光路转折元件在光学镜头组中的一种配置关系示意图；
[0031]图16D绘示依照本揭示内容的二光路转折元件在光学镜头组中的另一种配置关系示意图；以及
[0032]图16E绘示依照本揭示内容的光路转折元件在光学镜头组中的又一种配置关系示意图。
[0033]【符号说明】
[0034]100,110,120,130,140,310,320,330,410,420,430,440,450,460,470,480,490,510,520,530,540:取像装置
[0035]200,300,400,500:电子装置
[0036]101:光学镜头组
[0037]102:驱动装置组
[0038]103:电子感光元件
[0039]104:影像稳定模块
[0040]201,301,401:闪光灯模块
[0041]202:对焦辅助模块
[0042]203:影像信号处理器
[0043]204,504:使用者界面
[0044]2本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学镜头组，其特征在于，包含：至少一光学镜片；以及至少一光学元件；其中，该光学镜片或该光学元件的至少一表面具有一低反射层，该低反射层包含一粗糙层、一纳米结晶颗粒与一疏水层，该纳米结晶颗粒配置在该粗糙层与该疏水层间，且该疏水层较该纳米结晶颗粒远离该光学镜片或该光学元件的该表面；其中，该纳米结晶颗粒的材料至少包含SiO2；其中，该纳米结晶颗粒的平均粒径为DC，其满足下列条件：200nm<DC<1000nm。2.如权利要求1所述的光学镜头组，其特征在于，该疏水层是选自于至少一种聚胺酯化合物、聚酰亚胺化合物、有机硅烷化合物、氟烷化合物、氟烯基醚聚合物、含氟硅烷化合物或含氟丙烯酸酯化合物。3.如权利要求1所述的光学镜头组，其特征在于，该纳米结晶颗粒为一多层结构，且该纳米结晶颗粒包含至少一高折射率膜层与至少一低折射率膜层；其中，该高折射率膜层与该低折射率膜层交替堆叠配置，该低折射率膜层较该高折射率膜层靠近该疏水层，且该低折射率膜层的主要材质为SiO2。4.如权利要求1所述的光学镜头组，其特征在于，该纳米结晶颗粒的高度为Tc，其满足下列条件：200nm<Tc<800nm。5.如权利要求1所述的光学镜头组，其特征在于，具该低反射层的该表面于波长400nm
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1000nm的反射率为R40100，其满足下列条件：0％<R40100≤2.4％。6.如权利要求5所述的光学镜头组，其特征在于，具该低反射层的该表面于波长400nm
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700nm的反射率为R4070，其满足下列条件：0％<R4070≤2.5％。7.如权利要求6所述的光学镜头组，其特征在于，具该低反射层的该表面于波长500nm
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700nm的反射率为R5070，其满足下列条件：0％<R5070≤2.4％。8.如权利要求6所述的光学镜头组，其特征在于，具该低反射层的该表面于波长400nm
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600nm的反射率为R4060，其满足下列条件：0％<R4060≤2.5％。9.如权利要求6所述的光学镜头组，其特征在于，具该低反射层的该表面于波长500nm
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600nm的反射率为R5060，其满足下列条件：0％<R5060≤2.4％。10.如权利要求5所述的光学镜头组，其特征在于，具该低反射层的该表面于波长700nm
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1000nm的反射率为R70100，其满足下列条件：0％<R70100≤2.2％。11.一种取像装置，其特征在于，包含：一光学镜头组；以及
至少一载体；其中，该光学镜头组或该载体的至少一表面具有一低反射层，该低反射层包含一粗糙层、一纳米结晶颗粒与一疏水层，该纳米结晶颗粒配置在该粗糙层与该疏水层间，且该疏水层较该纳米结晶颗粒远离该光学镜头组或该载体的该表面；其中，该纳米结晶颗粒的材料至少包含SiO2；其中，该纳米结晶颗粒的平均粒径为DC，其满足下列条件：200nm<DC。12.如权利要求11所述的取像装置，其特征在于，该疏水层是选自于至少一种聚胺酯化合物、聚酰亚胺化合物、有机硅烷化合物、氟烷化合物、氟烯基醚聚合物、含氟硅烷化合物或含氟丙烯酸酯化合物。13.如权利要求11所述的取像装置，其特征在于，该纳米结晶颗粒为一多层结构，且该纳米结晶颗粒包含至少一高折射率膜层与至少一低折射率膜层；其中，该高折射率膜层与该低折射...

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡温祐，蔡承谕，邓钧鸿，
申请(专利权)人：大立光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：