成像镜头、相机模块及电子装置制造方法及图纸

技术编号:41395233 阅读:29 留言:0更新日期:2024-05-20 19:18
一种成像镜头、相机模块及电子装置,成像镜头具有光轴,且包含镜筒、多个光学透镜、环形固定元件及纳米微结构。光学透镜的至少一者设置于镜筒内部。环形固定元件与光学透镜的至少一者实体接触,且包含物侧面、像侧面、外径面及通光孔。物侧面与像侧面分别面向成像镜头的物侧与像侧。外径面连接物侧面与像侧面。光轴通过通光孔的中心。纳米微结构呈现多个不规则脊状凸起。沿平行光轴方向观察成像镜头,可以同时观察到镜筒、纳米微结构及光学透镜。于垂直光轴的方向上,纳米微结构介于由镜筒定义的镜筒区域和由光学透镜定义的透镜区域之间。借此,可提升成像品质。

【技术实现步骤摘要】

本揭示内容是关于一种成像镜头与相机模块,且特别是一种应用在可携式电子装置上的成像镜头与相机模块。


技术介绍

1、近年来,可携式电子装置发展快速,例如智能电子装置、平板电脑等,已充斥在现代人的生活中,而装载在可携式电子装置上的相机模块与成像镜头也随之蓬勃发展。但随着科技愈来愈进步,使用者对于成像镜头的品质要求也愈来愈高。因此,发展一种可减少反射光产生的成像镜头遂成为产业上重要且急欲解决的问题。


技术实现思路

1、本揭示内容提供一种成像镜头、相机模块及电子装置,通过纳米微结构的不规则脊状凸起以破坏反射光,可减少反射光的产生以提升成像品质。

2、依据本揭示内容一实施方式提供一种成像镜头,其具有一光轴,且包含一镜筒、多个光学透镜、一环形固定元件、一纳米微结构及一光学辨识结构。光轴通过光学透镜,且光学透镜包含至少一光学透镜,其中光学透镜设置于镜筒内部。环形固定元件与光学透镜实体接触,使光学透镜固定于镜筒内部,且环形固定元件包含一物侧面、一像侧面、一外径面及一通光孔。物侧面面向成像镜头的物侧。像侧面面向成像镜本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种成像镜头,其特征在于,具有一光轴,且包含:

2.如权利要求1所述的成像镜头,其特征在于,该纳米微结构的平均高度介于90nm至350nm。

3.如权利要求2所述的成像镜头,其特征在于,该纳米微结构的平均高度介于125nm至300nm。

4.如权利要求3所述的成像镜头,其特征在于,该纳米微结构的平均高度介于195nm至255nm。

5.如权利要求1所述的成像镜头,其特征在于,该至少一第一光学辨识面于垂直该光轴的一投影面积为A,其满足下列条件:

6.如权利要求5所述的成像镜头,其特征在于,该至少一第一光学辨识面的数量为至少二,...

【技术特征摘要】

1.一种成像镜头,其特征在于,具有一光轴,且包含:

2.如权利要求1所述的成像镜头,其特征在于,该纳米微结构的平均高度介于90nm至350nm。

3.如权利要求2所述的成像镜头,其特征在于,该纳米微结构的平均高度介于125nm至300nm。

4.如权利要求3所述的成像镜头,其特征在于,该纳米微结构的平均高度介于195nm至255nm。

5.如权利要求1所述的成像镜头,其特征在于,该至少一第一光学辨识面于垂直该光轴的一投影面积为a,其满足下列条件:

6.如权利要求5所述的成像镜头,其特征在于,该至少一第一光学辨识面的数量为至少二,该至少二第一光学辨识面之间的间隔弧长为d,其满足下列条件:

7.如权利要求6所述的成像镜头,其特征在于,各该第一光学辨识面于垂直该光轴的该投影面积为a,该至少二第一光学辨识面之间的间隔弧长为d,其满足下列条件:

8.如权利要求1所述的成像镜头,其特征在于,还包含:

9.如权利要求1所述的成像镜头,其特征在于,该环形固定元件还包含:

10.如权利要求1所述的成像镜头,其特征在于,该光学辨识结构还包含至少一第二光学辨识面,该至少一第一光学辨识面的数量为至少二,该至少一第二光学辨识面设置于该至少二第一光学辨识面之间,各该第一光学辨识面与该至少一第二光学辨识面于一量测方向上的光泽度差值为δg,该量测方向与该光学辨识结构的夹角为θ,其满足下列条件:

11.如权利要求10所述的成像镜头,其特征在于,各该第一光学辨识面与该至少一第二光学辨识面具有粗糙度(ra)差异值为δr,其满足下列条件:

12.如权利要求1所述的成像镜头,其特征在于,该纳米微结构进一步同时设置于该物侧面与该像侧面。

13.如权利要求12所述的成像镜头,其特征在于,该至少一光学透镜具有一光学有效部,该光学有效部的最大直径为do,其满足下列条件:

14.一种相机模块,其特征在于,包含:

15.一种电子装置,其特征在于,包含:

16.一种成像镜头,其特征在于,具有一光轴,且包含:

17.如权利要求16所述的成像镜头,其特征在于,该纳米微结构的平均高度介于90nm至350nm。

18.如权利要求17所述的成像镜头,其特征在于,该纳米微结构的平均高度介于125nm至300nm。

19.如权利要求18所述的成像镜头,其特征在于,该纳米微结构的平均高度介于195nm至255nm。

20.如权利要求16所述的成像镜头,其特征在于,该成像镜头的一...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘思欣苏恒毅翁樑傑蔡温祐周明达
申请(专利权)人:大立光电股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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